电解抛光腐蚀安全规程:使用含高氯酸电解液时,必须通循环水冷却,配制温度低于15。C,使用温度应低于200C注意安全,防止燃烧;使用电压超过60V时,要注意安全,应先放好试样,再调电压到所需值,后进行电...
磨抛耗材,二氧化硅抛光液(VK-SP50W)使用范围:可用于微晶玻璃的表面抛光加工中;用于硅片的粗抛和精抛以及IC加工过程,适用于大规模集成电路多层化薄膜的平坦化加工;用于晶圆的后道CMP清洗等半导体...
磨抛耗材,磁性盘、防粘盘使用方法:先将抛光机、预磨机或磨抛机上的铝盘或铁盘表面上的残胶等异物清理干净;用磁性盘下表面的不干胶,将磁性盘粘接在用户现使用的铝盘或铁盘上;使用现有的背胶抛光布或砂纸,将抛光...
制样耗材,切割片在使用过程中常见的问题,当切割片组织不均匀时,随着切割过程的扭矩力、热应力、震颤等因素,应力会在组织薄弱的地方累积,导致破裂。当切割片硬度偏高时,切割片受到的径向扭矩力会增大,由于切割...