等离子清洗机主要由电源系统、反应室、真空系统、气体供应和控制单元组成。电源系统生成高频电场，常用射频或微波类型，决定等离子体能量；反应室容纳工件，材料常为不锈钢或石英，确保耐腐蚀和均匀性；真空系统包括...

不同行业对等离子清洗机的需求存在差异，定制化解决方案成为提升设备适配性的关键。晟鼎精密凭借其强大的研发能力，可根据客户具体需求提供从设备选型到工艺优化的全流程定制化服务。例如，在半导体行业...

等离子清洗机是一种基于等离子体技术的表面处理设备，广泛应用于工业清洗和材料改性领域。等离子体是物质的第四态，通过将气体（如氧气、氩气或氮气）在真空或低压环境下施加高频电场，使气体分子电离形...

晟鼎精密接触角测量仪的动态接触角测量功能，主要用于分析液体在固体表面铺展或收缩过程中的接触角变化，捕捉表面润湿性能的动态特征，区别于静态接触角反映稳定状态的局限性。其原理是：在液滴滴落至样品表面的瞬间...

等离子清洗机的性能取决于多个关键技术参数，包括功率、压力、气体类型、处理时间和电极设计等。功率直接影响等离子体密度和能量，通常射频功率在几十到几千瓦之间，较高的功率可提高清洗速率，但需避免...

晟鼎精密接触角测量仪之所以能实现≤±0.1° 的测量精度，关键在于其由光源、镜头、图像传感器及光学矫正组件构成的高精度光学系统。光源采用波长稳定的 LED 冷光源（波长 560-580nm），光线经过...

captive bubble 法（悬泡法）是针对特殊样品（如多孔材料、粉末压片、高吸水材料）开发的接触角测量方法，解决了 sessile drop 法因样品吸水或液体渗透导致的测量失效问题。其原理与座...

RPS远程等离子源在先进封装中的解决方案针对2.5D/3D封装中的硅通孔（TSV）工艺，RPS远程等离子源提供了完整的清洗方案。在深硅刻蚀后，采用SF6/O2远程等离子体去除侧壁钝化层，同时保持铜导线...

RPS远程等离子源在MEMS制造中的精密处理：MEMS器件包含敏感的机械结构，易受等离子体损伤。RPS远程等离子源通过远程等离子体生成，消除了带电粒子的影响，只利用中性自由基进行清洗或刻蚀。这在释放步...

远程等离子体源（Remote Plasma Source，RPS）作为一种先进的表面处理技术，正逐渐在多个工业领域展现其独特的价值。这种装置通过在真空环境中产生等离子体，并将其传输到目标表面进行处理，...

RPS远程等离子源在光伏行业的提质增效：在PERC太阳能电池制造中，RPS远程等离子源通过两步法优化背钝化层质量。首先采用H2/Ar远程等离子体清洗硅片表面，将界面复合速率降至50cm/s以下；随后通...

sessile drop 法作为晟鼎精密接触角测量仪的基础测量方法，凭借操作简便、适配性强的优势，广泛应用于多个领域的表面性能检测。在材料研发领域，可测量静态接触角判断材料的疏水 / 亲水特性，例如通...