面向柔性半导体基板(如聚酰亚胺基板)加工需求!国瑞热控加热盘以柔性贴合设计适配弯曲基板!采用薄型不锈钢加热片(厚度0.2mm)与硅胶导热层复合结构!可随柔性基板弯曲(弯曲半径可达5mm)而无结构损坏!...
针对化学气相沉积工艺的复杂反应环境!国瑞热控CVD电控加热盘以多维技术创新**温控难题!加热盘内置多区域**温控模块!可根据反应腔不同区域需求实现差异化控温!温度调节范围覆盖室温至600℃!满足各类C...
温度均匀性是衡量加热盘性能的重要指标。在实际应用中,加热面各点的温度差异越小,被加热物体的品质就越稳定。以铸铝加热盘为例,通过优化电热元件的排布方式和铸铝基体的厚度设计,可以将加热面的温度均匀性控制在...
面向先进封装Chiplet技术需求!国瑞热控**加热盘以高精度温控支撑芯片互联工艺!采用铝合金与陶瓷复合基材!加热面平面度误差小于0.02mm!确保多芯片堆叠时受热均匀!内部采用微米级加热丝布线!实现...
加热盘的电热元件类型主要有电阻丝、电热管和电热膜三种。电阻丝加热盘结构简单、成本低,但功率密度较低,适合中小功率场景。电热管加热盘将电阻丝封装在金属管内,绝缘性好、功率密度高,是铸铝和铸铜加热盘中常用...
国瑞热控针对离子注入后杂质处理工艺!开发出加热盘适配快速热退火需求!采用氮化铝陶瓷基材!热导率达200W/mK!热惯性小!升温速率达60℃/秒!可在几秒内将晶圆加热至1000℃!且降温速率达40℃/秒...
国瑞热控氮化铝陶瓷加热盘以99.5%高纯氮化铝为基材!通过干压成型与1800℃高温烧结工艺制成!完美适配半导体高温工艺需求!其热导率可达220W/mK!热膨胀系数*4.03×10⁻⁶/℃!与硅晶圆热特...