西门子LX-Z系列EDI模块是专门为工作应用而设计的。西门子LX-Z系列EDI模块可以极其可靠地生产出质量稳定的高纯水,而不会由于再生而中断运行。膜堆可以应用于电力、HP/CPI、电子、食品和饮料行业以及实验室中。
西门子LX-Z系列EDI模块运行环境:应安装在室内,避免阳光直射,室内比较高环境温度是45℃(95ºF)。
典型膜堆性能
操作参数
回收率
90-95%
比较大允许进水压力
7bar(100psi)
比较高允许进水温度
45℃(113˚F)
名义流量时的压降范围
1.4-2.1bar(20-30psi)
产水水质
产水电阻率
>16MΩ.cm (见下面说明)
说明:实际性能可以用Ionpure的IP-Pro设计软件确定
硅(SiO2)去除率
90-99%,取决于进水条件 美国IONPURE EDI模块上海纯超环保厂家供应。浙江原装美国IONPURE EDI模块厂家供应
影响ionpureEDI模块性能的主要污染物有二氧化碳、悬浮颗粒及胶体等,这些污染物会带来以下危害:
1、氧化剂:给水中的氧化剂会氧化树脂和离子交换膜,并导致树脂和膜的降解从而降低交换容量和选择透过性能。氧化还会引起树脂裂解,造成进出水压力降上升,膜堆寿命缩短。
2、活性金属:很低浓度的活性金属即可以催化氧化交换树脂和膜,并可被大量树脂和膜吸附使其交换能力下降,使树脂和膜的离子传导作用减弱,从而造成ionpureEDI模块性能衰减。
3、悬浮颗粒和胶体:颗粒和胶体物质可以用污染指 数值表征。水中的悬浮颗粒和胶体物质会对树脂及膜形成污染,并造成ionpureEDI模块内部流道的堵塞,使膜堆给水压力升高。 浙江原装美国IONPURE EDI模块厂家供应美国IONPURE EDI模块上海纯超环保经销多年。
2.酸洗
1)配制2.0%盐酸溶液:将1200LRO水冲入清洗水箱中,缓慢地加入70Kg37%浓盐酸,边加边搅拌均匀(可启动清洗泵循环搅拌)。
2)检查各阀门切换正常并无酸洗液泄漏后,启动清洗泵运行30分钟,运行流量和压力为正常运行状态,最小流量可以为EDI正常运行时流量的一半。
3)冲洗排掉清洗水箱内清洗液,并用RO水冲洗EDI系统出水至中性。
3.消毒
清洗水箱中加入1200LRO产水,缓缓加入约10kg25%的H2O2溶液,配制0.2%的H2O2溶液,用清洗泵自循环10分钟,使溶液混合均匀。
(1) 西门子EDI模块,进水电导率的影响。
在相同的操作电流下,随着原水电导率的增加西门子EDI模块对弱电解质的去除率减小,出水的电导率也增加。如果原水电导率低则离子的含量也低,而低浓度离子使得在淡室中树脂和膜的表面上形成的电动势梯度也大,导致水的解离程度增强,极限电流增大,产生的H+和OH-的数量较多,使填充在淡室中的阴、阳离子交换树脂的再生效果良好。
(2) 西门子EDI模块,工作电压-电流的影响。
工作电流增大,产水水质不断变好。但如果在增至比较高点后再增加电流,由于水电离产生的H+和OH-离子量过多,除用于再生树脂外,大量富余离子充当载流离子导电,同时由于大量载流离子移动过程中发生积累和堵塞,甚至发生反扩散,结果使产水水质下降。 美国IONPURE EDI模块上海纯超环保值得推荐。
美国Ionpure IP-LXM45ZEDI模块清洗步骤如下:
1.准备
1)关闭EDI系统。停止EDI系统运行,确定EDI模块的电源已被切断并把整流器转换钮转到“关闭”位置。
2)关闭下列阀门:原水进水阀、淡水产水阀、淡水冲洗排放阀、极水排放阀、浓水排放阀、浓水循环泵进出口阀。
3)将清洗水箱和相关的清洗管道清洗干净。
4)连接清洗管道。把淡水产水、浓水排放、极水排放的清洗管线直接连接到清洗水箱上。把原水进水、浓水进水清洗管线连接到EDI系统的原水进水和浓水进水清洗接口上。注意清洗管线必须牢固、紧密,以防止化学药品的喷溅。 美国IONPURE EDI模块上海纯超环保厂家直供。江苏口碑好美国IONPURE EDI模块报价
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IONPUREIP-LXM45Z EDI模块设备的进水指标:
◎通常为单级反渗透或二级反渗透的渗透水;
◎TEA(总可交换阴离子,以CaCO3计):<25ppm;
◎电导率:<40μS/cm;
◎PH:6.0~9.0。当总硬度低于0.1ppm时,EDI比较好工作的pH范围为8.0~9.0;
◎温度: 5~35℃;
◎进水压力:<4bar(60psi);
◎硬度:(以CaCO3计):<1.0ppm;
◎有机物( TOC):<0.5ppm;
◎氧化剂:Cl2<0.05ppm,O3<0.02ppm;
◎变价金属:Fe<0.01ppm,Mn<0.02ppm。;
◎H2S:<0.01ppm;
◎二氧化硅:<0.5ppm;
◎色度:<5APHA;
◎二氧化碳的总量:<10ppm;
◎ SDI 15min:<1.0。 浙江原装美国IONPURE EDI模块厂家供应
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