光学材料生产用超纯水设备概述光学材料生产用超纯水设备包括四个流程:洗涤、漂洗、脱水、干燥。因为洗涤过程分溶剂清洗和水基清洗,所以有不同的工艺:有行溶剂清洗、溶剂蒸汽干燥再进行水基清洗;也有行溶剂清洗,再用乳化剂溶解溶剂,再进行水基清洗的。利用流水将洗涤后镜片表面的洗剂和污物溶解、排除的过程称为漂洗。光学材料生产用超纯水设备水质:手机面板、光学镜片、光学玻璃清洗对超纯水水质要求高,带电力离子和污垢会对镜片产生不可逆损害,终端水质要求≥17.5MΩ*cm(25℃)。超纯水设备可以提供低总镉的水供应。实验室超纯水设备公司
据了解,超纯水设备在长时间使用的过程中,通过反渗透膜两侧的压力差作为动力,进行水交换,在水不断的交换的同时会导致大量的盐聚集,盐中含有大量的沉淀物质,时间长了就会发生结垢现象,结构严重就会纯净水的质量。因此,在使用的过程中我们要有效的预防这种情况出现。有技术人员表示,在使用超纯水设备的时候,要保持过滤器过滤速度,并且保持匀速,合理的过滤速度可以保证超纯水设备的净化效果。另外,在滤料的选择上,建议选择颗粒度大小基本一致的滤料,这样过滤出来的水就比较彻底。纯水超纯水设备维护超纯水设备可以提供低总锰的水供应。
水的电导率不同超纯水的出水水质:电阻率>15MΩ.cm超纯水水质分为五个行业标准,分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以区分不同水质。2.纯水分为:工业纯水和饮用纯水工业纯水:在25摄氏度中,1。普通纯水:EC=1~10us/cm;2。高纯水:EC=0.1~1.0us/cm;3。超纯水:EC=0.1~0.055;饮用纯水:EC=1~10us/cm(国家标准)。三、各种设备之间采用的工艺流程不同(一)超纯水设备的工艺流程为:1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)(传统工艺)。2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)(工艺)。
采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合的方式,其基本工艺流程为:原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→反渗透设备→混床(复床)→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点3、采用反渗透水处理设备与电去离子(EDI)设备进行搭配的方式,这是一种制取超纯水的工艺,也是一种环保,经济,发展潜力巨大的超纯水制备工艺,其基本工艺流程为:原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→反渗透设备→电去离子(EDI)→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点●技术特点1、第一种采用离子交换树脂其优点在于初投资少,占用的地方少,但缺点就是需要经常进行离子再生,耗费大量酸碱,而且对环境有一定的破坏。超纯水这个词是随着半导体的发展而出现的。
超纯水设备的使用离子交换混床是通过离子交换树脂在电解质溶液中进行的,可去除水中的各种阴、阳离子,是目前制备超纯水工艺流程中不可替代的手段。离子交换器分为阳离子交换器、阴离子交换器等。当原水通过离子交换柱时,水中的阳离子和水中的阴离子(HCO3-等离子)与交换柱中的阳树脂的H+离子和阴树脂的OH-离子进行交换,从而达到脱盐的目的。阳、阴混柱的不同组合可使水质达到更高的要求,生产出达到更高标准的超纯水。离子交换法是目前国内外制水行业普遍采用的较为理想的方法,也是经济有效的化学法之一,离子交换是一种利用阴阳交换树脂对离子的选择性及平衡反应原理,去除水中电解质离子的技术。是一套完整成熟的制水工艺,现为广大用户认可。苏州道盛禾带您了解超纯水设备。纯水超纯水设备维护
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第二种采用反渗透作为预处理再配上离子交换设备,其特点为初投次比采用离子交换树脂方式要高,但离子设备再生周期相对要长,耗费的酸碱比单纯采用离子树脂的方式要少很多。但对环境还是有一定的破坏性。3、第三种采用反渗透作预处理再配上电去离子(EDI)装置,这是目前制取超纯水经济,环保用来制取超纯水的工艺,不需要用酸碱进行再生便可连续制取超纯水,对环境没什么破坏性。其缺点在于初投资相对以上两种方式过于昂贵。●应用场合1.半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路;2.超纯材料和超纯化学试剂;3.实验室和中试车间4.汽车、家电表面抛光处理;5.其他高科技精微产品。实验室超纯水设备公司