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雪花清洗（二氧化碳喷雪）是一种通过液态二氧化碳对产品表面进行清洁和预处理的过程。供应介质是液态二氧化碳和压缩空气（或氮气），整个清洁或预处理过程是干燥、无残留和环保的。在喷射过程中，液态CO2通过热力学和物理过程转化为直径为1至100μm的压实固态CO2雪粒。这些二氧化碳雪粒的温度为-78.5°C，二氧化碳雪粒被添加到压缩空气中，并在喷嘴加速形成均匀的自由射流。根据喷嘴的不同，形成具有高水平清洁能力的圆形射流（圆形喷嘴）或扁平射流（扁平喷嘴）。这种自由喷射可用于清洁和预处理产品表面。

酷尔森coulson雪花清洗机一种很环保的表面处理工艺，对产品表面不会造成损伤对产品表面不会造成损伤。汽车零部件喷涂预处理，光学器件，医疗设备，半导体，航空等表面敏感工件。 在锂电池极片制造过程中，涂布机模头和辊筒的清洁影响极片质量。干冰清洗通过低温脆化使残留浆料迅速剥离。山东全气动干冰清洗卖价

干冰清洗在模具行业的**优势无损性：干冰硬度低，冲击过程中不会对模具表面造成划痕、磨损或变形，尤其适合精密模具（如带有镜面抛光、纹理图案的模具）。环保性：干冰由食品级二氧化碳制成，升华后变为气体，无废水、废渣或化学残留，避免了化学清洗剂对操作人员健康的危害和对环境的污染，符合环保法规要求。高效性：无需拆卸模具，可在生产线原位清洗，大幅缩短清洁时间，减少停机损失，尤其适合批量生产的模具维护。适应性强：可清洁复杂结构（如深腔、窄缝、异形孔），且不受模具材质或表面处理工艺（镀铬、氮化、喷涂）限制。延长模具寿命：避免了传统清洗中因机械摩擦、化学腐蚀或温度骤变导致的模具损伤，间接降低模具更换频率和生产成本。三、注意事项清洗时需根据模具材质、污垢类型调整干冰颗粒大小、喷射压力和距离，避免因参数不当导致局部低温应力过大。对于带有电子传感器或精密传动部件的模具，需避开关键区域，防止高速干冰颗粒影响其功能。总之，酷尔森coulson干冰清洗在模具行业中通过“高效清洁+无损保护+环保安全”的特性，成为提升模具维护效率、延长使用寿命、保障产品质量的重要技术手段，尤其适用于高精度、复杂结构模具的日常清洁与检修。辽宁本地干冰清洗卖价这个过程通过热震冲击和"微型爆破"效应，破坏污垢与基体的结合力，从而将污垢剥离。

酷尔森的干冰清洗技术相对于传统方法的明显优势非破坏性：非研磨： 干冰颗粒在撞击后会升华消失，不会像喷砂（沙子、塑料粒）那样磨损焊盘、丝印、元器件引脚或基板本身。无化学腐蚀： 不使用任何化学溶剂，避免了溶剂对元器件的潜在腐蚀（如电解电容、连接器塑胶）、对标签/油墨的溶解以及对环境的危害。无水分侵入： 完全干燥的过程，杜绝了水洗带来的水分残留风险（可能导致电化学迁移、短路、腐蚀），特别适合清洗后不能或不方便烘干的板卡（如带有密封性不佳的元件、传感器、电池的PCBA）。低应力： 物理冲击力可控，远低于超声波清洗产生的空化力，**降低了对精密、脆弱元器件（如晶振、陶瓷电容、MEMS器件、微型连接器）或已存在微裂纹的焊点造成损伤的风险。无需拆卸：可以在组装好的状态下直接清洗，无需拆卸屏蔽罩、散热器或敏感元件（前提是它们能承受低温冲击），节省大量时间和人力成本。深入清洁：干冰颗粒能有效进入传统方法难以触及的区域，如高密度IC引脚之间、BGA/QFN封装底部与PCB之间的狭窄缝隙、连接器内部、散热片鳍片下方等。

干冰清洗凭借无残留、不引入水分、无损清洁、环保高效等特性，在锂电行业（从原材料加工到电芯生产、PACK 组装及设备维护）中得到广泛应用，尤其适配锂电生产对 “高洁净度、低污染、高精度” 的严苛要求。以下是其**应用场景及优势：一、极片生产环节的清洁极片是锂电池的**部件，其表面洁净度直接影响电芯的一致性、安全性及循环寿命。干冰清洗在极片生产的关键工序中可精细解决污染问题：1. 涂布机模头与辊筒清洁清洁对象：涂布模头（狭缝、唇口）、转移辊、背辊等。污染问题：涂布过程中，浆料（正极材料如三元、磷酸铁锂；负极材料如石墨）易在模头狭缝残留、固化，形成 “结垢”，导致涂布膜厚不均、边缘毛刺或漏涂；辊筒表面则可能附着浆料颗粒、粉尘，影响极片表面平整度。酷尔森icestorm干冰清洗作用：无需拆卸模头，通过干冰颗粒（-78.5℃）的低温脆化效应，使残留浆料脆化剥离，同时利用压缩空气动能去除缝隙内污垢，避免传统拆解清洗导致的停机时间过长（传统清洗需 4-8 小时，干冰清洗可缩短至 30 分钟内）。控制干冰颗粒大小（如 3-5mm 细颗粒）和喷射压力（0.2-0.5MPa），可避免划伤辊筒表面镀铬层或镜面，保障涂布精度。酷尔森是干冰清洗技术的行业，其干冰清洗机利用低温干冰颗粒和压缩空气，无需化学溶剂或水。

沉积 / 刻蚀腔体及部件清洁清洁对象：CVD（化学气相沉积）腔体、PVD（物***相沉积）靶材、刻蚀机反应室（内壁、喷头、电极）。污染问题：沉积过程中，薄膜材料（如 SiO₂、SiN、金属 Cu/Al）会在腔体壁、靶材边缘沉积，形成 “结垢层”，积累到一定厚度会剥落并污染晶圆；刻蚀反应室中，等离子体与晶圆反应生成的聚合物（如 CF₄刻蚀硅产生的 CxFy）会附着在喷头和电极表面，导致刻蚀速率不均匀。干冰清洗作用：无需拆卸腔体（传统清洁需拆解，耗时 4-8 小时，且可能引入外界污染），通过酷尔森icestorm干冰颗粒的冲击和低温脆化效应，使结垢层（硬度较高的陶瓷或金属薄膜）与腔体基材分离，随气流排出。保护腔体内部精密部件（如石英喷头、金属电极）：控制干冰颗粒尺寸（3-5mm）和压力（0.3-0.6MPa），可去除靶材边缘的沉积残留，同时不损伤靶材表面（靶材精度直接影响沉积薄膜的均匀性）。酷尔森干冰清洗完全干燥，没有二次废物。由于干冰颗粒在冲击瞬间就升华消失，被认为是一种无研磨性的技术。陕西什么是干冰清洗生产商

干冰是固态二氧化碳（-78.5℃）。清洗时，干冰颗粒在压缩空气加速下冲击清洗表面。山东全气动干冰清洗卖价

在半导体行业，生产环境（如 Class 1 级洁净室）和产品（晶圆、芯片、精密部件）对 “零污染、无损伤、超高洁净度” 的要求堪称工业领域**严苛标准之一。酷尔森icestorm干冰清洗凭借无残留、化学惰性、低温无损、适配精密场景等特性，成为解决半导体生产中 “微污染物去除、设备维护、产品良率提升” 的关键技术。其**应用场景覆盖晶圆制造、封装测试及设备维护全流程，具体如下：一、晶圆制造环节：从光刻到沉积 / 刻蚀的精密清洁晶圆（硅片、化合物半导体晶圆）是半导体的**基材，其表面及生产设备的洁净度直接决定芯片的良率（每片晶圆含数百个芯片，一个微米级杂质可能导致整片失效）。干冰清洗在以下关键工序中发挥不可替代的作用：1. 光刻掩模版（光罩）清洁清洁对象：光刻掩模版（表面镀铬层、石英基底）、光罩盒（Pod）。污染问题：光罩是光刻图案的 “母版”，表面若残留纳米级颗粒（≤0.1μm）、有机污染物（如光刻胶残渣）、金属离子，会导致光刻图案转移时出现缺陷（如线宽偏差、图形畸变），直接降低芯片良率。传统清洁（如兆声波清洗、化学湿法清洗）可能引入水分残留或划伤镀铬层（厚度*数十纳米）。山东全气动干冰清洗卖价