电子束曝光机环境实验箱

在光学镜片研磨这一精细入微的工艺里，温湿度波动无疑是如影随形的“大敌”，对镜片质量的影响堪称致命。就研磨设备而言，即便是零点几摄氏度的细微温度变化，也会迅速让研磨盘与镜片材料的热膨胀系数差异暴露无遗。这一差异会直接导致镜片在研磨过程中受力不均，研磨效果参差不齐，镜片的曲率精度因此大打折扣，进而严重影响其光学性能。而当处于高湿度环境时，空气中弥漫的水汽就像隐匿的破坏者，极易在镜片表面悄然凝结成水渍。这些水渍会在后续镀膜工艺中成为棘手难题，极大地干扰镀膜均匀性，致使镜片的透过率和抗反射能力双双下滑，成品镜片根本无法契合光学仪器所要求的严苛标准。

设备内部压力稳定性可达 +/-3Pa。电子束曝光机环境实验箱

精密环控柜主要由设备主柜体、控制系统、气流循环系统、洁净过滤器、制冷(热)系统、照明系统、局部气浴等组成，为光刻机、激光干涉仪等精密测量、精密制造设备提供超高精度温湿度、洁净度的工作环境。该设备内部通过风机引导气流以一定的方向循环，控制系统对循环气流的每个环节进行处理，从而使柜内的温湿度达到超高的控制精度。该系统可实现洁净度百级、十级、一级，温度波动值±0.1℃、±0.05℃、±0.01℃、±0.002℃等精密环境控制。自面世以来，已为相关领域客户提供了稳定的实验室环境以及监测服务，获得了众多好评。

辽宁环境控制室高精密环控设备可移动，容易维护和扩展。

2022年8月28日，由南京拓展科技有限公司承接的武汉大学武汉光源预研基地高标准环境控制系统与精密实验环境集成装置顺利通过了专业组验收，并得到了专业组充分肯定。此次建设交付项目包含多套高标准环境控制系统以及精密实验环境集成装置，主要功能为磁测实验室、束测实验室、束线光学实验室、高频实验室万级间、高频实验室百级间、直线加速器实验室、真空实验室。此次验收完成是武汉光源预研实验室建设升级的重要组成部分，也是武汉光源建设的基础工程。

精密环控柜能够实现如此性能，背后蕴含着先进而复杂的原理。在温度控制方面，自主研发的高精密控温技术是关键所在。通过高精度传感器实时监测柜内温度，将数据反馈至控制系统。控制系统依据预设的精确温度值，以 0.1% 的控制输出精度，调节制冷（热）系统的运行功率。例如，当温度高于设定值时，制冷系统迅速启动，精确控制制冷量，使温度快速回落至目标范围；反之，加热系统则及时介入。对于湿度控制，利用先进的湿度调节装置，通过冷凝除湿或蒸汽加湿等方式，依据传感器反馈的湿度数据，将设备内部湿度稳定性控制在 ±0.5%@8h 。在洁净度控制上，采用多层高效洁净过滤器，通过物理拦截、静电吸附等原理，对进入柜内的空气进行深度过滤，确保可实现百级以上洁净度控制，工作区洁净度优于 ISO class3 。这些高精度传感器能够精确感知环境参数的变化，为精确控制提供基础。

数据实时记录查询功能为用户带来了极大的便利，提升了设备的使用体验和管理效率。数据自动生成曲线，就如同设备运行的 “心电图”，用户通过曲线能直观地看到设备运行过程中温湿度、压力等参数随时间的变化情况，便于及时发现异常波动。数据自动保存，方便用户进行后续的数据分析和处理。科研人员可以通过分析历史数据，优化实验方案；生产人员能够依据数据找出设备运行的参数，提高生产效率和产品质量。同时，运行状态、故障状态等事件同步记录，查询一目了然。一旦设备出现故障，用户能迅速从记录中获取故障发生的时间、类型等信息，为快速排查和解决故障提供有力支持。针对一些局部温度波动精度要求比较高的区域，可以采用局部气浴的控制方式，对局部进行高精密温控。电子束曝光机环境均匀性

精密环境控制设备凭借超高精度温度控制，保障内部温度水平均匀性小于16mK/m。电子束曝光机环境实验箱

为了确保实验结果的准确性，恒温恒湿实验室内的温湿度波动应被严格限制。温度波动应不超过±1℃，湿度波动则不应超过±5%RH。湿度精度级别不同，适用于不同用途的实验室。例如，≤±5%主要用于一般试验、检测、检验用途的实验室，而≤±1%主要用于生物安全类科研、研发、检测的实验室。

恒温恒湿空调系统是实验室恒温恒湿的主要手段之一。通过制冷、制热、加湿、除湿等功能，将实验室内的温度和湿度控制在设定的范围内。通风设备也是实现实验室恒温恒湿的重要手段之一。通过合理的通风设计，可以确保实验室内的空气流通，减少温湿度的不均匀性。通过制冷、制热、加湿、除湿等功能，将实验室内的温度和湿度控制在设定的范围内。合理的通风系统设计，可以确保实验室内的空气流通，减少温湿度的不均匀性。 电子束曝光机环境实验箱