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南京晶片湿法设备HJT工艺

来源: 发布时间:2023年12月15日

电池湿法设备Topcon工艺RCA槽式清洗设备主要功能去除多晶硅沉积的正面(LPCVD)PECVD绕镀层,去除表面剩余的BSG。优势:闭环运动控制系统,保证输送机构运动平稳性。l抛光槽:上表面采用水膜保护及辊轮带液方式,完整的保护正面的同时,对背面作抛光处理。l烘干槽:采用高压风机+高效过滤器的方式,l进口PLC控制,稳步提升设备的产能。l采用机械臂慢提方式,设备满足干湿分离,匹配高效电池发展趋势l工艺槽采用经典的内外槽的循环模式,能快速有效的将新添加药水以及添加剂充分搅拌均匀,槽内控温精度误差<±1℃l引进半导体清洗工艺,保证硅片表面的洁净度。光伏电池湿法制绒设备,与多种主流工艺如PERC、TOPCON、HPBC等相匹配,在设备结构、功能、产能和安全性等方面进行了升级。电池湿法RCA槽式清洗设备可以去除多晶硅沉积的正面(LPCVD)PECVD绕镀层。南京晶片湿法设备HJT工艺

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光伏湿法设备是一种用于生产太阳能电池的设备,其生产效率主要取决于设备的技术水平、生产工艺和材料质量等因素。目前,光伏湿法设备的生产效率已经非常高,可以达到非常高的水平。首先,光伏湿法设备采用的是先进的生产工艺和技术,可以实现高效的生产过程。其次,设备采用的是高质量的材料,可以保证生产出的太阳能电池具有高效的转换效率和长久的使用寿命。此外,光伏湿法设备还具有高度的自动化程度,可以实现高效的生产流程和减少人工干预的机会。总的来说,光伏湿法设备的生产效率已经非常高,可以满足市场对高效、高质量太阳能电池的需求。未来,随着技术的不断发展和创新,光伏湿法设备的生产效率还将不断提高,为太阳能产业的发展提供更加强有力的支持。成都光伏湿法制绒光伏电池湿法制绒设备(Perc 工艺)采用机械臂慢提方式,设备满足干湿分离,匹配高效电池发展趋势。

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光伏电池湿法设备Topcon工艺,抛清洗设备,功能是去除背面BSG和抛光处理。l闭环运动控制系统,保证输送机构运动平稳性。l抛光槽:上表面采用水膜保护及辊轮带液方式,完整的保护正面的同时,对背面作抛光处理。l烘干槽:采用高压风机+高效过滤器的方式,l链式去BSG+槽式碱抛设备,设备产能大,稳定性好。l进口PLC控制,稳步提升设备的产能。l慢提拉采用机械臂慢提方式,设备满足干湿分离,匹配高效电池发展趋势。l可配套无金属化制程设备,提高设备洁净度。l工艺槽采用经典的内外槽的循环模式,能快速有效的将新添加药水以及添加剂充分搅拌均匀,槽内控温精度误差<±1℃。

电池湿法设备Perc工艺,湿湿法刻蚀设备功能是去除背面PSG和抛光处理。设备优势l闭环运动控制系统,保证输送机构运动平稳性。l抛光槽:上表面采用水膜保护及辊轮带液方式,完整的保护正面的同时,对背面作抛光处理。l烘干槽:采用高压风机+高效过滤器的方式,碱抛设备:链式去PSG+槽式碱抛设备,设备产能大,稳定性好。l进口PLC控制,稳步提升设备的产能。l慢提拉采用机械臂慢提方式,设备满足干湿分离,匹配高效电池发展趋势。l可配套无金属化制程设备,提高设备洁净度。l工艺槽采用经典的内外槽的循环模式,能快速有效的将新添加药水以及添加剂充分搅拌均匀,槽内控温精度误差<±1℃。电池湿法设备拥有多种型号,满足不同规格硅片、各种类型电池片制造的需求,灵活性高。

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光伏湿法工艺设备主要包括以下几种:1.溶液制备设备:包括反应釜、搅拌器、加热器等,用于制备太阳能电池的溶液。2.沉积设备:包括电化学沉积设备和物理的气相沉积设备,用于将溶液中的材料沉积在衬底上。3.烘烤设备:用于将沉积在衬底上的材料进行烘烤,使其形成薄膜。4.光刻设备:用于将薄膜进行光刻,形成电极和通道等结构。5.清洗设备:用于清洗衬底和薄膜,保证太阳能电池的质量。6.测量设备:包括光电流谱仪、电学测试仪等,用于测试太阳能电池的性能。以上是光伏湿法工艺设备的主要种类,不同的设备在太阳能电池的制备过程中扮演着不同的角色,共同完成太阳能电池的制备。电池湿法背抛清洗设备(Topcon工艺)拥有闭环运动控制系统,保证输送机构运动平稳性。广东晶片湿法工艺

湿法刻蚀设备(Perc 工艺)抛光槽:上表面采用水膜保护及辊轮带液方式,保护正面的同时,对背面作抛光处理。南京晶片湿法设备HJT工艺

湿法设备包括湿法制绒设备(Perc 工艺)、制绒设备(Topcon工艺)、湿法刻蚀设备(Perc 工艺)、RCA槽式清洗设备(Topcon工艺)、电池湿法背抛清洗设备(Topcon工艺)、湿法制绒设备(HJT工艺)、电池湿法背抛清洗设备(XBC工艺)、制绒清洗设备(XBC工艺)等设备;釜川生产制造的湿法设备能与多种主流工艺如PERC、TOPCON、HPBC等相匹配,在设备结构、功能、产能和安全性等方面进行了升级。其作用是对太阳能电池用硅片进行清洗制绒处理,从而提升电池的质量和效率。南京晶片湿法设备HJT工艺

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