HJT电池是一种新型的太阳能电池,其结构主要由三个部分组成:n型硅层、p型硅层和中间的薄膜层。n型硅层和p型硅层分别具有不同的电子掺杂浓度,形成了p-n结。当太阳光照射到电池表面时,光子会被吸收并激发出电子和空穴,电子和空穴会在p-n结处分离,形成电流。中间的薄膜层是由氢化非晶硅和微晶硅混合而成,其主要作用是增加电池的光吸收能力和电子传输效率。薄膜层的厚度通常在几十纳米到几百纳米之间。HJT电池的结构与传统的晶体硅太阳能电池相似,但其采用了更高效的电子传输方式和更高的光吸收能力,因此具有更高的转换效率和更低的成本。HJT电池的基本原理,包括光生伏特的效应、结构与原理,以及其独特的特点和提高效率的方法。杭州HJT费用
HJT电池为对称的双面结构,主要由 N 型单晶硅片衬底、正面和背面的本征/掺杂非晶硅薄膜层、双面的透明导电氧化薄膜(TCO) 层和金属电极构成。其中,本征非晶硅层起到表面钝化作用,P型掺杂非晶硅层为发射层,N 型掺杂非晶硅层起到背场作用。釜川(无锡)智能科技有限公司,以半导体生产设备、太阳能电池生产设备为主要产品,打造光伏设备一体化服务。 HJT装备与材料:包含制绒清洗设备、PECVD设备、PVD设备、金属化设备等。 电镀铜设备:采用金属铜完全代替银浆作为栅线电极,具备低成本、高效率等优势。广东HJT金属化设备HJT电池采用的N型硅片,掺杂剂为磷,几乎无光致衰减现象。
HJT硅太阳能电池的工艺要求与同质结晶体硅太阳能电池相比,有几个优点:与同质结形成相比,异质结形成期间的热预算减少。a-Si:H层和TCO前接触的沉积温度通常低于250℃。与传统的晶体硅太阳能电池相比,异质结的形成和沉积接触层所需的时间也更短。由于异质结硅太阳能电池的低加工温度及其对称结构,晶圆弯曲被抑制。外延生长:在晶体硅和a-Si:H钝化层之间没有尖锐的界面,而外延生长的结果是混合相的界面区域,界面缺陷态的密度增加。在a-Si:H的沉积过程中,外延生长导致异质结太阳能电池的性能恶化,特别是影响了Voc。事实证明,在a-Si:H的沉积过程中,高沉积温度(>140℃)会导致外延生长。其他沉积条件,如功率和衬底表面的性质,也对外延生长有影响,通过使用a-SiO:H合金而不是a-Si:H,可以有效抑制外延生长。HJT的清洗特点:在制绒和清洗之后的圆滑处理导致了表面均匀性的改善,减少了微观粗糙度,并提高了整个装置的性能。此外,氢气后处理被发现有利于提高a-Si:H薄膜的质量和表面钝化。CVD对比:HWCVD比PECVD有几个优点。例如,硅烷的热解避免了表面的离子轰击,而且产生的原子氢可以使表面钝化。
高效HJT电池生产设备,制绒清洗的主要目的有,1去除硅片表面的污染和损伤层;2利用KOH腐蚀液对n型硅片进行各项异性腐蚀,将Si(100)晶面腐蚀为Si(111)晶面的四方椎体结构(“金字塔结构”),即在硅片表面形成绒面,可将硅片表面反射率降低至12.5%以下,从而产生更多的光生载流子;3形成洁净硅片表面,由于HJT电池中硅片衬底表面直接为异质结界面的一部分,避免不洁净引进的缺陷和杂质而带来的结界面处载流子的复合。碱溶液浓度较低时,单晶硅的(100)与(111)晶面的腐蚀速度差别比较明显,速度的比值被称为各向异性因子(anisotropicfactorAF);因此改变碱溶液的浓度及温度,可以有效地改变AF,使得在不同方向上的速度不同,在硅片表面形成密集分布的“金字塔”结构的减反射绒面;在制绒工序,绒面大小为主要指标,一般可通过添加剂的选择、工艺配比的变化、工艺温度及工艺时间等来进行调节控制。光伏HJT电池的生产成本较高,但随着技术的发展,其成本正在逐渐降低。
高效HJT电池整线装备,PVD优点沉积速度快、基材温升低;所获得的薄膜纯度高、致密性好、成膜均匀性好;溅射工艺可重复性好,精确控制厚度;膜层粒子的散射能力强,绕镀性好;不同的金属、合金、氧化物能够进行混合,同时溅射于基材上;缺点:常规平面磁控溅射技术靶材利用率不高,一般低于40%;在辉光放电中进行,金属离化率较低。反应等离子体沉,RPD优点:对衬底的轰击损伤小;镀层附着性能好,膜层不易脱落;源材料利用率高,沉积速率高;易于化合物膜层的形成,增加活性;镀膜所使用的基体材料和膜材范围广。缺点:薄膜中的缺陷密度较高,薄膜与基片的过渡区较宽,应用中受到限制(特别是电子器件和IC);薄膜中含有气体量较高。釜川自主研发的“零界”高效HJT电池整线制造解决方案已实现设备国产化。合肥新型HJT
HJT电池是一种具有发展前景的光伏技术,未来有望在新能源领域发挥更加重要的作用。杭州HJT费用
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