福建陶瓷元器件镀金电镀设备

精密电子元件叁筒滚镀线

一、设备概述:

适用于电镀锌、镀镍、镀锡、镀铬、镀铜、镀镉等有色金属；镀金、镀银等贵重金属的精密电镀。

降低孔隙率，晶核的形成速度大于成长速度，促使晶核细化。

改善结合力，使钝化膜击穿，有利于基体与镀层之间牢固的结合。

改善覆盖能力和分散能力，高的阴极负电位使普通电镀中钝化的部位也能沉积，挂镀生产线设备，减缓形态复杂零件的突出部位由于沉积离子过度消耗而带来的“烧焦”“树枝状”沉积的缺陷，对于获得一个给定特性镀层的厚度可减少到原来1/3~1/2，节省原材料。

降低镀层的内应力，改善晶格缺陷、杂质、空洞、瘤子等，容易得到无裂纹的镀层，减少添加剂。

有利于获得成份稳定的合金镀层。

改善阳极的溶解，不需阳极活化剂。

改进镀层的机械物理性能，如提高密度，降低表面电阻和体电阻，提高韧性、耐磨性、抗蚀性，而且可以控制镀层硬度。 喷淋式电镀设备利用高压喷头将电解液均匀喷洒在工件表面，加速离子交换，提高电镀效率，形状复杂的工件。福建陶瓷元器件镀金电镀设备

传统的电镀抑制副作用的产生、改善电流分布、调节液相传质过程、控制结晶取向显得毫无作用，面对络合剂和添加剂的研究，成了电镀工艺研究的主要方向。纳米开关电源解决了传统整流器存在的缺陷。提高产品成品率、产品质量。这些产品可适用于电镀、电子、化工、氧化着色等行业。

电镀设备是通过电解反应在物体表面沉积金属层的装置，用于形成保护性或功能性涂层。

其系统包括：

电解电源：提供0-24V直流电，电流可达数千安培，适配不同镀种需求；

电解槽：耐腐蚀材质（如PP/PVDF），双层防漏设计，容积0.5-10m³；

电极系统：阳极采用可溶性金属或不溶性钛篮，阴极挂具定制设计，确保接触电阻＜0.1Ω；

控制系统：精细温控（±1℃）、pH监测（±0.1）及镀层厚度管理。

设备分类：

挂镀线：精密件加工，厚度均匀性±5%；

滚镀系统：小件批量处理，效率3-8㎡/h；

连续电镀线：带材/线材高速生产，产能达30㎡/h；选择性电镀：数控喷射，局部镀层精度±3%。技术前沿：脉冲电镀：纳米晶结构（晶粒＜50nm），孔隙率降低60%；

复合电镀：添加纳米颗粒（SiC/Al₂O₃），硬度达HV1200；智能化：机器视觉定位（±0.1mm），大数据实时优化工艺。环保与应用：闭路水循环（回用率＞90%）及重金属回收技术；汽车（耐盐雾＞720h）、PCB（微孔镀铜偏差＜8%）、航空航天（耐温800℃）等领域广泛应用。设备正向高精度、低能耗、智能化发展，纳米电镀等新技术持续突破工艺极限。选型需结合基材特性、镀层需求及成本综合考量。 江苏加工电镀设备工件篮设备用于篮镀工艺，网孔大小根据工件尺寸定制，兼顾电解液流通性与防止小件掉落。

三筒式电阻电容全自动滚镀设备

是为电阻、电容等微型电子元件设计的自动化电镀装置，通过三滚筒协同作业与全流程智能控制，实现高效、高精度镀层加工。要点：

1.结构与原理

三滚筒系统：

三个滚筒可同步处理不同工艺或元件（如电阻镀锡、电容镀银），或联动提升产能。滚筒采用PP/PVC等耐腐蚀材质，内部防碰撞分区设计，减少微小元件（如贴片电阻0201）的损伤风险

全自动控制：

集成PLC/工业电脑系统，自动完成上料、电镀、清洗、烘干流程。通过传感器实时监控镀液温度、pH值及电流密度，动态调节参数

电镀优化：

多级过滤与温控装置确保镀液稳定性；多点阴极导电技术适配电阻引脚、电容电极的复杂接触需求

2.优势

高效灵活：三滚筒并行作业，产能较单筒提升50%以上，可同时处理多规格元件或多镀种

镀层高一致性：滚筒匀速旋转结合智能调控，确保微小元件表面镀层均匀

低损耗率：防摩擦结构+精细转速控制，元件破损率低于0.1%

3. 应用与要点

典型场景：

电阻类：金属膜电阻端头镀锡、高精度电阻镀金

电容类：铝电解电容电极镀铜、MLCC电容镀镍抗氧化

关键注意：

按元件尺寸匹配滚筒孔径，防止漏料

定期检测镀液金属离子浓度，避免杂质影响镀层导电性

维护自动传输系统，减少卡料风险。

电镀生产线其组成部分围绕 “前处理→电镀处理→后处理→辅助控制” 具体如下：

一、工艺处理系统

1. 前处理设备

除油装置：

化学除油槽：使用碱性溶液或表面活性剂，去除工件表面油污。

电解除油槽：通过电化学作用强化除油效果，分阳极除油（适用于钢铁件）和阴极除油（适用于铝、铜等易腐蚀金属）。

酸洗 / 活化设备：

酸洗槽-活化槽-水洗槽

2.电镀处理设备

镀槽主体：

按电镀方式分类：

挂镀槽：用于中大件或精密件

滚镀机：用于小尺寸、大批量工件（如螺丝、电子元件）

连续镀设备：针对带状 / 线状工件（如钢带、铜线）

槽体材料：根据电解液性质选择

3. 后处理设备

清洗系统：多级水洗（冷水洗、热水洗），去除镀层表面残留电解液，防止腐蚀。

钝化 / 封闭装置：

钝化槽：通过铬酸盐、无铬钝化剂等形成保护膜（如镀锌后的蓝白钝化、五彩钝化），提高耐腐蚀性。

封闭槽：用于多孔镀层（如阳极氧化膜），通过热水封闭或有机涂层封闭，增强膜层致密性。

干燥设备：

热风干燥箱：适用于小件批量干燥，温度可控（50~150℃）。

离心干燥机：滚镀后工件甩干（滚筒直接接入，快速去除表面水分）。

特殊处理：如镀后抛光（机械或电解抛光）、涂油（防锈）等。 镀铬设备配置铅锑合金阳极与阳极袋，过滤阳极泥渣，防止杂质污染镀液，维持硬铬镀层高硬度。

半导体滚镀设备

是一种于半导体制造中金属化工艺的精密设备，主要用于在半导体晶圆、芯片或微型元件表面沉积均匀的金属镀层。其在于通过可控的电化学或化学镀工艺，实现高精度、高一致性的金属覆盖，满足集成电路封装、先进封装及微机电系统等领域的特定需求

与传统滚镀不同，半导体滚镀更注重工艺洁净度、镀层精度及与半导体材料的兼容性。

二、功能

1.金属互连：在晶圆上形成铜导线。

2.凸块制备：沉积锡、铜、金等材料，用于芯片与基板的电气连接。

3.阻挡层/种子层镀覆：镀钛、钽等材料，防止金属扩散并增强附着力。

三、设备组成

1.电镀槽：

材质：耐腐蚀材料，避免污染镀液

镀液循环系统：维持镀液成分均匀，过滤颗粒杂质

2.旋转载具：

晶圆固定装置：真空吸附或机械夹持，确保晶圆平稳旋转

转速控制：通过伺服电机调节转速，优化镀层均匀性

3.阳极系统：

可溶性/不溶性阳极：铜、铂等材料，依镀层需求选择

阳极位置调节：控制电场分布，减少边缘效应

4.供液与喷淋系统：

多点喷淋头：均匀分配镀液至晶圆表面，避免气泡滞留

流量控制：精确调节镀液流速，匹配不同工艺需求

5.控制系统：

PLC/工控机：集成温度、pH值、电流密度等参数监测与反馈。

配方管理：存储不同镀层的工艺参数 脉冲电化学抛光设备结合电镀与抛光功能，通过瞬间高电流溶解凸起部分，实现镜面级镀层表面。真空电镀设备周边产业

在线监测设备搭载 AI 算法，实时分析镀层缺陷（如麻点、漏镀），自动调整电流参数提升良品率。福建陶瓷元器件镀金电镀设备

电镀滚镀机与电镀生产线的关系

从属关系：滚镀机是电镀生产线的执行设备之一

1.电镀生产线的系统构成

电镀生产线是涵盖前处理（除油、酸洗）→电镀处理（镀槽设备）→后处理（清洗、钝化、干燥）→自动化控制的完整流程系统，目标是通过电化学原理在工件表面沉积金属镀层（如镀锌、镍、铜、铬等）。

关键设备包括：镀槽（如滚镀机、挂镀槽、连续镀设备）、电源、过滤循环系统、加热/冷却装置、传输装置（如行车、链条）等。

2.滚镀机的定位

滚镀机是电镀处理环节中用于批量小件电镀的镀槽设备，属于电镀生产线的“执行单元”，主要解决小尺寸、大批量工件（如螺丝、电子元件、五金件）的高效电镀问题。与挂镀机（适用于大件或精密件，单个悬挂电镀）、篮镀（半手工操作，适用于中等尺寸工件）共同构成电镀生产线的不同镀槽类型。 福建陶瓷元器件镀金电镀设备