实时成像热红外显微镜用户体验

非破坏性分析（NDA）以非侵入方式分析样品内部结构和性能，无需切割、拆解或化学处理，能保留样品完整性，为后续研究留有余地，在高精度、高成本的半导体领域作用突出。

无损分析，通过捕捉样品自身红外热辐射成像，全程无接触，无需对晶圆、芯片等进行破坏性处理。在半导体制造中，可识别晶圆晶体缺陷；封装阶段，能检测焊接点完整性或封装层粘结质量；失效分析时，可定位内部短路或断裂区域的隐性热信号，为根源分析提供依据，完美适配半导体行业对高价值样品的保护需求。 热红外显微镜通过热辐射相位差算法，三维定位 3D 封装中 Z 轴方向的失效层。实时成像热红外显微镜用户体验

致晟光电在推动产学研一体化进程中，积极开展校企合作。公司依托南京理工大学光电技术学院，专注开发基于微弱光电信号分析的产品及应用。双方联合攻克技术难题，不断优化实时瞬态锁相红外热分析系统（RTTLIT），使该系统温度灵敏度可达0.0001℃，功率检测限低至1uW，部分功能及参数优于进口设备。此外，致晟光电还与其他高校建立合作关系，搭建起学业-就业贯通式人才孵化平台。为学生提供涵盖研发设计、生产实践、项目管理全链条的育人平台，输送了大量实践能力强的专业人才，为企业持续创新注入活力。通过建立科研成果产业孵化绿色通道，高校的前沿科研成果得以快速转化为实际生产力，实现了高校科研资源与企业市场转化能力的优势互补。

IC热红外显微镜成像热红外显微镜可对不同材质的电子元件进行热特性对比分析 。

热红外显微镜（Thermal EMMI) 也是科研与教学领域的利器，其设备能捕捉微观世界的热信号。它将红外探测与显微技术结合，呈现物体表面温度分布，分辨率达微米级，可观察半导体芯片热点、电子器件热分布等。非接触式测量是其一大优势，无需与被测物体直接接触，避免了对样品的干扰，适用于多种类型的样品检测。实时成像功能可追踪动态热变化，如材料相变、化学反应热释放。在高校，热红外显微镜助力多学科实验；在企业，为产品研发和质量检测提供支持，推动各领域创新突破。

在失效分析中，零成本简单且常用的三个方法基于“观察-验证-定位”的基本逻辑，无需复杂设备即可快速缩小失效原因范围：

1.外观检查法（VisualInspection）

2.功能复现与对比法（FunctionReproduction&Comparison）

3.导通/通路检查法（ContinuityCheck）

但当失效分析需要进阶到微观热行为、隐性感官缺陷或材料/结构内部异常的层面时，热红外显微镜（Thermal EMMI) 能成为关键工具，与基础方法结合形成更深度的分析逻辑。在进阶失效分析中，热红外显微镜可捕捉微观热分布，锁定电子元件微区过热（如虚焊、短路）、材料内部缺陷（如裂纹、气泡）引发的隐性热异常，结合动态热演化记录，与基础方法协同，从 “不可见” 热信号中定位失效根因。 热红外显微镜通过 AI 辅助分析，一键生成热谱图，大幅提升科研与检测效率。

在选择 EMMI 微光显微镜时，需综合考量应用需求、预算、技术参数及售后服务等因素。首先明确具体应用场景，例如 LED 检测可能需要特定波长范围，而集成电路分析则对分辨率要求更高。预算方面，进口设备系列价格昂贵，但成立年限长、有品牌加持。而选择国产设备——如致晟光电自主全国产研发的RTTLIT 实时瞬态锁相热分析系统在性价比方面更好，且在灵敏度和各种参数功能上已接近进口水平，尤其在垂直芯片等场景中表现稳定，适合预算有限的常规检测。
在半导体制造中，通过逐点热扫描筛选热特性不一致的晶圆，提升良率。番禺区热红外显微镜

热红外显微镜的动态功耗分析功能，同步记录 100MHz 高频信号下的热响应曲线。实时成像热红外显微镜用户体验

非制冷热红外显微镜基于微测辐射热计，无需低温制冷装置，具有功耗低、维护成本低等特点，适合长时间动态监测。其通过锁相热成像等技术优化后，虽灵敏度（通常 0.01-0.1℃）和分辨率（普遍 5-20μm）略逊于制冷型，但性价比更高，。与制冷型对比，非制冷型无需制冷耗材，适合 PCB、PCBA 等常规电子元件失效分析；而制冷型（如 RTTLIT P20）灵敏度达 0.1mK、分辨率低至 2μm，价格高，多用于半导体晶圆等检测。非制冷热红外显微镜在中低端工业检测领域应用较多。实时成像热红外显微镜用户体验

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