国内热红外显微镜与光学显微镜对比

热点区域对应高温部位，可能是发热源或故障点；等温线连接温度相同点，能直观呈现温度梯度与热量传导规律。目前市面上多数设备受红外波长及探测器性能限制，普遍存在热点分散、噪点多的问题，导致发热区域定位不准，图像对比度和清晰度下降，影响温度分布判断的准确性。

而我方设备优势是设备抗干扰能力强，可有效减少外界环境及内部器件噪声影响，保障图像稳定可靠；等温线明显，能清晰展现温度相同区域，便于快速掌握温度梯度与热传导情况，提升热特性分析精度；成像效果大幅提升，具备更高的空间分辨率、温度分辨率及对比度，可清晰呈现细微细节，为分析提供高质量的图像支持。 热红外显微镜结合自研算法，对微弱热信号进行定位分析，锁定潜在缺陷 。国内热红外显微镜与光学显微镜对比

致晟光电热红外显微镜（Thermal EMMI）系列中的 RTTLIT P20 实时瞬态锁相热分析系统，采用锁相热成像（Lock-inThermography）技术，通过调制电信号提升特征分辨率与灵敏度，并结合软件算法优化信噪比，实现显微成像下超高灵敏度的热信号测量。RTTLIT P20搭载100Hz高频深制冷型超高灵敏度显微热红外成像探测器，测温灵敏度达0.1mK，显微分辨率低至2μm，具备良好的检测灵敏度与测试效能。该系统重点应用于对测温精度和显微分辨率要求严苛的场景，包括半导体器件、晶圆、集成电路、IGBT、功率模块、第三代半导体、LED及microLED等的失效分析，是电子集成电路与半导体器件失效分析及缺陷定位领域的关键工具。无损热红外显微镜分析热红外显微镜帮助工程师分析电子设备过热的根本原因 。

热红外显微镜是半导体失效分析与缺陷定位的三大主流手段之一（EMMI、THERMAL、OBIRCH），通过捕捉故障点产生的异常热辐射，实现精细定位。存在缺陷或性能退化的器件通常表现为局部功耗异常，导致微区温度升高。显微热分布测试系统结合热点锁定技术，能够高效识别这些区域。热点锁定是一种动态红外热成像方法，通过调节电压提升分辨率与灵敏度，并借助算法优化信噪比。在集成电路（IC）分析中，该技术广泛应用于定位短路、ESD损伤、缺陷晶体管、二极管失效及闩锁问题等关键故障。

相较于宏观热像仪（空间分辨率约50-100μm），热红外显微镜通过显微光学系统将分辨率提升至1-10μm，且支持动态电激励与锁相分析，能深入揭示微观尺度的热-电耦合失效机理。例如，传统热像仪能检测PCB表面的整体热分布，而热红外显微镜可定位某一焊点内部的微裂纹导致的局部过热。技术发展趋势当前，热红外显微镜正朝着更高灵敏度（如量子点探测器提升光子捕捉能力）、多模态融合（集成EMMI光子探测、OBIRCH电阻分析）及智能化方向发展，部分设备已内置AI算法自动标记异常热点，为半导体良率提升、新能源汽车电驱系统热管理等应用提供更高效的解决方案。热红外显微镜利用其高分辨率，观察半导体制造过程中的热工艺缺陷 。

除了热辐射，电子设备在出现故障或异常时，还可能伴随微弱的光发射增强。热红外显微镜搭载高灵敏度的光学探测器，如光电倍增管（PMT）或电荷耦合器件（CCD），能够有效捕捉这些低强度的光信号。这类光发射通常源自电子在半导体材料中发生的能级跃迁、载流子复合或其他物理过程。通过对光发射信号的成像和分析，热红外显微镜不仅能够进一步验证热点区域的存在，还可辅助判断异常的具体机制，为故障定位和性能评估提供更精确的信息。热红外显微镜通过 AI 辅助分析，一键生成热谱图，大幅提升科研与检测效率。红外光谱热红外显微镜货源充足

热红外显微镜在 3D 封装检测中，通过热传导分析确定内部失效层 。国内热红外显微镜与光学显微镜对比

从传统热发射显微镜到热红外显微镜的演变，是其技术团队对微观热分析需求的深度洞察与持续创新的结果。它既延续了通过红外热辐射解析热行为的原理，又通过全尺度观测、高灵敏度检测、场景化分析等创新，突破了传统技术的边界。如今，这款设备已成为半导体失效分析、新材料热特性研究、精密器件研发等领域的专业工具，为行业在微观热管控、缺陷排查、性能优化等方面提供了更高效的技术支撑，推动微观热分析从 “可见” 向 “可知”“可控” 迈进。国内热红外显微镜与光学显微镜对比

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