CMP(化学机械抛光)工艺中磨料颗粒的高精度粒径表征随着半导体工业飞速发展,电子器件尺寸缩小,要求晶片表面平整度达到纳米级。CMP工艺作为芯片制造业不可或缺的一个部分,其对于磨料的颗粒粒度表征要求十分重要。CMP过程中使用的磨料颗粒典型尺寸范围是10-200nm,其颗粒表征要求精确地确定纳米级颗粒的尺寸,因此高分辨率纳米粒度分析仪是磨料颗粒表征的完美解决方案。磨料对CMP工艺起着至关重要的作用!欢迎选用CPS纳米粒度分析仪为您完美解决磨料颗粒问题!山东驰光机电科技有限公司重信誉、守合同,严把产品质量关,热诚欢迎广大用户前来咨询考察,洽谈业务!海南激光粒度粒形分析仪价格
而CMP工艺离不开研磨料的发展,那么对于磨料的颗粒粒度表征就显得尤为重要了。CMP就是用化学腐蚀和机械力对加工过程中的硅晶圆或其它衬底材料进行平滑处理。将硅片固定在抛光头的较下面,将抛光垫放置在研磨盘上,抛光时,旋转的抛光头以一定的压力压在旋转的抛光垫上,由亚微米或纳米磨粒和化学溶液组成的研磨液在硅片表面和抛光垫之间流动,然后研磨液在抛光垫的传输和离心力的作用下,均匀分布其上,在硅片和抛光垫之间形成一层研磨液液体薄膜。海南激光粒度粒形分析仪价格驰光机电科技不懈追求产品质量,精益求精不断升级。
技术优势:CPS系统优良性能的基础是它先进的示差沉降技术。高转速:CPS可以支持的较高转速为24,000转/分。对于超细颗粒,其分析速度比其它产品快倍。使用速度调节技术,可以对粒度分布范围较广的样品进行分析。对于在其它分析仪上很多非常耗时(数小时或更长)的样品,CPS可以快速得到结果。高精度标定:CPS系统使用已知的标定颗粒进行标定,与美国国家标准和技术研究院(NIST)相兼容的标准保证了分析结果的一致性和精确度。使用内标法,也即把已知标定颗粒与待分析样品相混合,所得的峰值结果可以达到±0.25%的精度。
而化学机械抛光(Chemical mechanical polishing,CMP)是集成电路芯片的一个关键制程,国内抛光所用关键材料CMP抛光垫,几乎全部依赖进口。CMP典型的抛光浆料都是纳米级发烟硅石(5Vol%,170-230nm)、高纯硅胶(9Vol%,6-80nm)、氧化铈(6Vol%,200-240nm)或氧化铝颗粒,它们的粒度或粒度分布必须小心地进行控制以免在抛光面上产生刮痕。CMP浆料的分散稳定性和保存期也是必须被认真考虑的重要环节。这种纳米浆料的使用浓度一般在(5-30W%),容易聚集。随着贮存时间延长,它的粒度可能增大从而导致损害的产生。驰光机电科技有限公司热忱欢迎新老客户惠顾。
各种金属粉体:如铝粉、锌粉、钼粉、钨粉、镁粉、铜粉以及稀土金属粉、合金粉等。其它粉体:如催化剂、水泥、磨料、医药、农药、食品、涂料、染料、荧光粉、河流泥沙、陶瓷原料、各种乳浊液等。在现代装备制造业中的各种润滑油、液压油、燃料油、超导体、绝缘材料、无线电技术等行业越来越离不开激光粒度检测技术,在这些领域,激光粒度仪发挥着越来越大的作用。粒度测量仪可用于建筑材料生产种,建筑业大量使用的水泥,产品的粒度分布是影响质量的非常重要的因素之一。驰光机电科技有限公司为客户服务,要做到更好。新疆激光粒度粒形分析仪报价
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使用CPS分析仪平行测定3次高纯氧化铝粉得到的叠加图,表明仪器的重复性较好,样品的粒径为0.586微米。分析氧化铝粉末时,为防止样品发生凝聚,需要添加入少量的乙酸。氧化锌ZnO粉末:氧化锌俗称锌白,是锌的一种氧化物。氧化锌是一种常用的化学添加剂,大量地应用于塑料、硅酸盐制品、合成橡胶、润滑油、油漆涂料、药膏、粘合剂、食品、电池、阻燃剂等产品的制作中。氧化锌的能带隙和激子束缚能较大,透明度高,有优良的常温发光性能,在半导体领域的液晶显示器、薄膜晶体管、发光二极管等产品中均有应用。海南激光粒度粒形分析仪价格
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