用TracePro进行背光显示设计
TracePro具有直观的界面和强大的分析功能,是一款很理想的工具用来进行背光设计。
大量的产品都用到了背光显示,包括笔记本电脑,平板电脑,手机,电视,平面和曲面屏幕显示器。这些显示器非常受欢迎的原因是因为它们薄、重量轻并且图象清晰,节能。高性能的背光显示器很难设计,因为它们的光源,光学元件的几何结构,表面属性,微结构都很复杂。
TracePro提供强大的工具库和实用程序,能够提高设计效率的同时兼顾**终产品的质量。背光显示器具有一个或者多个光源,这些光源位于一块导光板(亚克力,acrylic)的侧面。和光管设计类似,光分布,均匀性,强度等都是通过使用某些定律得到的,例如,斯涅耳定律,菲涅尔损耗,全内反射,镜面反射等其他光学原理。
上海复光复瞻光学设计Tracepro。安徽通用Tracepro的用途和特点坎德拉图用发光强度或瓦特/球面度来显示发光和辐射强度。TracePro里面有四种坎德拉类型图:极坐标坎德拉图,ISO标准坐标坎德拉图,直角坐标坎德拉图,ISO标准坎德拉图
偏振图绘制椭圆的偏振到选择表面的入射通量上。色彩层次和椭圆图形用来显示偏振的程度和椭圆表面上点的程度。
入射光线表格提供了在选择表面的入射光线的表格化的产出。
光线历史表格记录了在选定表面上每一次入射的完整历史记录。
路径删选表格提供了一个对于选定表面的入射光线路径可分类的表格,并且可以和你选择路径的辐照度图进行交互式查看。
光程/飞行时间分析图是对选定面对抗光程的光通量吸收或入射的专门分析。
江西Tracepro代理Tracepro市场前景如何上海复光Tracepro软件。
性能和精确性
光线追迹功能包括:
• 光线分裂
• 精确的光线追迹–不会错过任何交叉点或“漏掉”光线
•“分析模式”光线追迹,用于在光线追迹完成后以交互方式查看任何表面或对象上的任何分析结果
•“Simulation Mode”光线跟 踪功能,用于跟 踪非常多的光线,而几乎不消耗内存或不消耗内存
• 多个出射面(模拟模式)
• 使用统一或八叉树体素对对象空间进行体素化以进行快速光线追迹
• 光圈衍射
• 重点取样
• 通过这种方法改进采样的设计的反向光线跟 踪
软件版本说明
在三个不同的版本可以被设置为层的子集。LC是标准的一个子集,标准是**的子集。
如果你有网络许可证,你可以有多个版本。在这种情况下,你可以选择提示所需的版本每次使用开始。
1、**版
这个是功能**强的版本,**版包括强大的标准加爬行动物?所有功能和用户定义的表面性能和体散射模型。
2、标准版
标准版是我们的全功能的光学建模程序允许你分析任何照明系统的设计。
3、LC
LC是适合大多数灯具和照明系统的设计。它包括许多特征,但没有方案宏语言。
各种各样的材料和表面特性可以应用于模型中的物体和表面。
可以指定的光学属性包括:
l 材料特性------折射率,吸收系数和双折射
l 孔径衍射
l 表面特性------反射和透射系数,表面吸收,表面散射
l 体散射
l 荧光
l 梯度折射率
l Mueller矩阵建模
l 表面光源
l 温度分布
l 薄膜叠层建模多层光学涂层,包括防反射涂层,带通滤波器和截止滤波器
它的属性还可以通过自定义参数或者从常用的材料目录来定义。当然,你也可以自己添加属性到数据库中以简化建模过程。 TracePro作为光学仿真技术,凡是关于光学照明及需要机构设计分析的产业都可使用TracePro软件。天津口碑好Tracepro哪家好
上海复光复瞻Tracepro设计优化。安徽通用Tracepro的用途和特点
TracePro的2D和3D优化
交互式地完善您的设计以达到理想结果。
简化原型工艺来优化
TracePro通过利用2D对称和3D非对称优化器来简化光学和照明系统从原型到制作的过程。而不同于传统的优化器,TracePro提供了一种简单易用、独特的功能来监测和控制制作过程的每一步。
设计过程
设计过程一般分为三个步骤:画原始设计草图,用CAD略图功能将变量限制数据化,用强度、效率、辐照度、颜色、均匀性等参数建立评价函数。
评价函数根据你的预期目标通过权重来平衡多个操作对象。
安徽通用Tracepro的用途和特点上海复瞻智能科技有限公司是一家有着先进的发展理念,先进的管理经验,在发展过程中不断完善自己,要求自己,不断创新,时刻准备着迎接更多挑战的活力公司,在上海市等地区的仪器仪表中汇聚了大量的人脉以及**,在业界也收获了很多良好的评价,这些都源自于自身的努力和大家共同进步的结果,这些评价对我们而言是比较好的前进动力,也促使我们在以后的道路上保持奋发图强、一往无前的进取创新精神,努力把公司发展战略推向一个新高度,在全体员工共同努力之下,全力拼搏将共同上海复瞻智能科技供应和您一起携手走向更好的未来,创造更有价值的产品,我们将以更好的状态,更认真的态度,更饱满的精力去创造,去拼搏,去努力,让我们一起更好更快的成长!