日本KASHIYAMA干式真空泵的应用范围比较广,主要有以下几个方面:1)半导体刻蚀工艺。在这些生产工艺中往往用到或生成腐蚀性气体和研磨微粒;2)低压化学气相沉积中的多晶硅制备工艺中;3)在化学工业、医药工业、食品工业中的蒸馏、干燥、脱泡、包装等,要防止有机溶剂造成污染,适合用干式真空泵;4)用做一般无油清洁真空系统的前级泵,以防止油污染。5)除半导体工艺外的某些产生微粒的工艺,不希望微粒混入泵油中,而希望微粒排出泵外,则用一定型式的干式机械真空泵可以满足要求.干式真空泵,就选浚和(上海)仪器有限公司,让您满意,欢迎您的来电!重庆小型干式真空泵供应商

日本KASHIYAMASDE30M20干式真空泵技术参数&配置清单
一、技术参数:
式样
SDE30M20
MAX排气速度(L/min)
50000
达到压力(Pa)
0.5
电源电压
3相 AC200-220V,380-480V
外型尺寸WHL [mm]
450×950×1000
二、 配置清单:
序号
描述
数量
备注
1
SDE30M20主机一台
1
标配
2
电源线
1
标配
3
冷却水管路接头
1
标配
4
操作手柄
1
标配
5
产品合格证
1
标配
6
消音器(原厂件,选配)
未包含
7
入口过滤器(选配,非原厂件)
未包含
设备原产地:日本
日本KASHIYAMA真空泵特性:1、设备运转时,旋叶与旋叶、旋叶与腔壁之间没有任何摩擦,保证设备长期正常工作。2、采用空冷式方式,不需配置冷却水,从而节省空间。3、采用气镇(GasBallast)结构,可以排出所吸取的水蒸气。4、若只抽取空气与氮气的情况下,只需三年维护一次,延长了设备的使用寿命,降低真空泵的使用成本。
河南体积小干式真空泵代理商浚和(上海)仪器有限公司致力于提供干式真空泵,有想法可以来我司咨询。

KASHIYAMANeodry7E真空泵技术参数产品介绍:KASHIYAMA为客户降低真空泵使用成本付出长期不懈的努力,NeoDrySeries小型空冷多级干式罗茨真空泵由此诞生。所抽气体为洁净空气或氮气时,维护周期长达三年。广泛应用于电子半导体、锂电池、医药生物、化学材料等领域。主要参数:1.采用空冷式设计降温2.转子与内腔非接触式物理构造设计3.*Zui大排气速度110L/min4.极限真空泵 5Pa(气镇阀关闭状态)5.选配气镇阀后,可排出水与有机溶液,Zui大水份处理量120g/hour6.*远程或联动输出端子7.电动机功率:0.4kW8.噪音小于65dB(A)9.吸气口径:NW25排气口径:NW2510.重量20KG11.电源电压单相AC220V12.外尺寸:196Wx360Lx219Hmm基本配置:1.主机一台2.选程起动端子一个3.电源线1.5m一根4.说明书一本
日本KASHIYAMAMU20M18P/H干式真空泵技术参数&配置清单一、技术参数:式样:MU20M18P/HMAX排气速度(L/min):30000达到压力(Pa):0.5电源电压:3相AC200-220V消费电力(KW):2.0KW外型尺寸WHL[mm]:500×950×1100质量【kg】:340kg二、配置清单:序号描述数量备注1MU20M18P/H主机一台,电压AC三相200V1标配2电源线1标配3冷却水管路接头1标配4操作手柄1标配5产品合格证1标配6消音器(原厂件,选配)未包含7入口过滤器(选配,非原厂件)未包含设备原产地:日本浚和(上海)仪器有限公司是一家专业提供干式真空泵的公司,欢迎新老客户来电!

干式真空泵的应用范围比较广,主要有以下几个方面:1)低压化学气相沉积中的多晶硅制备工艺中;2)半导体刻蚀工艺。在这些生产工艺中往往用到或生成腐蚀性气体和研磨微粒;3)除半导体工艺外的某些产生微粒的工艺,不希望微粒混入泵油中,而希望微粒排出泵外,则用一定型式的干式机械真空泵可以满足要求;4)用做一般无油清洁真空系统的前级泵,以防止油污染。5)在化学工业、医药工业、食品工业中的蒸馏、干燥、脱泡、包装等,要防止有机溶剂造成污染,适合用干式真空泵;干式真空泵,就选浚和(上海)仪器有限公司,欢迎客户来电!重庆小型干式真空泵供应商
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