CAD集成
TracePro使用Ray Viz提供了与SOLIDWORKS的无缝集成,它是SOLIDWORKS的插件,允许将光学特性添加并直接保存SOLIDWORKS模型中,并在将模型从SOLIDWORKS导出到TracePro时保留机械和光学特性。结果,在不**性能或功的情况下**提高了设计生产率。
报告
TracePro 可以生成各种光线跟 踪和属性报告。 例如:“通量报告”提供所有已定义光源的表面积,入射光线数量,入射和吸收通量以及损耗通量的摘要,或作为所选光源或波长的函数的摘要。显示每个对象的体积吸收率和入射通量。属性数据报告显示模型的光学表面和对象属性定义。“光线跟 踪报告”显示物理和虚拟内存使用情况以及经过的光线跟 踪时间。
上海复光Tracepro软件。上海灯具设计Tracepro设计优化
软件版本说明
在三个不同的版本可以被设置为层的子集。LC是标准的一个子集,标准是**的子集。
如果你有网络许可证,你可以有多个版本。在这种情况下,你可以选择提示所需的版本每次使用开始。
1、**版
这个是功能**强的版本,**版包括强大的标准加爬行动物?所有功能和用户定义的表面性能和体散射模型。
2、标准版
标准版是我们的全功能的光学建模程序允许你分析任何照明系统的设计。
3、LC
LC是适合大多数灯具和照明系统的设计。它包括许多特征,但没有方案宏语言。
3D优化
TracePro 提供3D对称及非对称优化器,可快速指定起始设计以及交互式控制点和分段点规格。优化器具有内置的交互式光线跟 踪工具,可快速诊断设计的可行性,并在控制点或分段点上拉动即可自动更新任何光线跟 踪。TracePro 的优化过程迅速确定了设计的可行性,同时还允许连续监视结果并将其用于模型的后续优化。3D优化器支持复杂的非对称设计,非常适合设计形状异常的复杂光导条和LED透镜。
结构优化
TracePro 提供了Texture Optimizer,可让您优化背光上散射点的分布。首先定义目标辐照度分布,然后定义点的起点分布。 优化器将调整点的密度以实现您的目标分布。
TracePro用two-pass算法模拟用户自定义光源和环境光来渲染场景。***步用Monte
Carlo光线追迹产生一个光子贴图来作为第二步的基础。在第二步中,进行反向光线追迹,用光子贴图计算渲染图中每一个像素的相对亮度。渲染完成后,用户可以根据需要控制对比度和亮度。在多次反射场景中,TracePro的渲染效果非常***,例如光导,透镜和标准光组件,以及LED光源的色彩还原。
TracePro的可视性和逼真的渲染功能,结合强劲的性能表现、准确性和设计实用程序帮您得到一个极好的设计效果。 上海复光复瞻Tracepro软件。
TracePro中提供的二维对称和三维非对称的优化器,使初始设计和交互控制点以及分段点能够快速规范设置。优化器内置了交互式光线追迹工具来快速判断设计的可行性,这个工具通过拉一个控制点或分段点来自动更新光线追迹。TracePro的优化过程能迅速确定设计的可行性,同时还允许对结果进行连续监测,并用于该模型的后续完善。复杂的非对称设计支持三维优化,这完美的解决了设计不常见形状的导光管及LED透镜的设计问题。
麟甲优化
TracePro中提供的麟甲优化器,可以优化背光显示器的散射点分布。首先定义一个辐照分布的目标,然后定义一些控制点的分布范围。优化程序将调整设置这些点的密度,以达到目标分布。 上海复光光学设计软件Tracepro。上海复瞻复光路灯设计Tracepro设计优化
TracePro可帮助杂散光分析。上海灯具设计Tracepro设计优化
TracePro是一 套能进行常规光学分析、设计照明系统、分析辐射度和亮度的软件。
TracePro 通过广为人知的CAD界面,3D优化以及与流行的CAD软件(例如SOLIDWORKS®)的无缝互操作性,简化了光学和照明系统制造过程中的原型流程。
用户还可以平移,旋转,缩放和执行其他标准几何图形处理技术TracePro的多文档,多视图架构允许您同时打开同一模型的多个视图,并同时打开多个模型。将对象从一个模型复制和粘贴到另一个模型*需要几次按键或菜单选择。 上海灯具设计Tracepro设计优化
上海复瞻智能科技有限公司是一家有着先进的发展理念,先进的管理经验,在发展过程中不断完善自己,要求自己,不断创新,时刻准备着迎接更多挑战的活力公司,在上海市等地区的仪器仪表中汇聚了大量的人脉以及**,在业界也收获了很多良好的评价,这些都源自于自身不努力和大家共同进步的结果,这些评价对我们而言是比较好的前进动力,也促使我们在以后的道路上保持奋发图强、一往无前的进取创新精神,努力把公司发展战略推向一个新高度,在全体员工共同努力之下,全力拼搏将共同上海复瞻智能科技供应和您一起携手走向更好的未来,创造更有价值的产品,我们将以更好的状态,更认真的态度,更饱满的精力去创造,去拼搏,去努力,让我们一起更好更快的成长!