氧化锌的能带隙和激子束缚能较大,透明度高,有优良的常温发光性能,在半导体领域的液晶显示器、薄膜晶体管、发光二极管等产品中均有应用。氧化锌粉末还用于制作口腔用品,如牙膏、牙凝胶、牙粉等。粒度仍然是评价氧化锌粉末的重要指标!CPS纳米粒度分析仪是您的较佳选择!CPS纳米粒度仪测得的氧化锌粉末的粒径分布结果,平均粒径为0.541微米;仪器使用转速为12,000转/分。应用实例:病毒颗粒的粒径分布及疫苗的研发,病毒颗粒的团聚和聚集对病毒解决的临床安全性和疗效有重要影响。驰光具备雄厚的实力和丰富的实践经验。江苏纳米粒度分析仪报价
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CPS纳米粒度分析仪操作权限和文件存取安全设置;屏显离心转速控制;高级数据分析功能,包括噪声过滤和分辨率加强。样品应用:地质学,土壤、粘土、沙、高岭土;环境;制药/生化;化学,杀虫剂、分散剂、催化剂、树脂、乳液、防腐剂、颜料、涂料、;陶瓷和金属,铝、硅、磁粉、钨、烧结制品、不锈钢、钴;能源,煤、燃料、浆液、页岩油乳剂;粉煤灰;食品;重工业,聚合物、油滴、磨损颗粒、白垩、填料、调色剂、纸浆/纸、PVC、水泥;生命科学。
实验室分析仪在环境监测中具有广阔的应用价值。通过对空气、水、土壤等环境样品的检测和分析,我们可以获得各种污染物的浓度、组成和分布情况,评估环境质量状况,预测未来污染趋势,并为环境保护和治理提供科学依据。同时,实验室分析仪还为环境应急监测和事故调查提供有力支持,为应对突发环境事件提供快速准确的检测结果。实验室分析仪是现代实验室中不可或缺的重要设备,它能够快速、准确地检测和测量各种实验数据,为科学研究、产品开发和质量控制提供有力支持。然而,要想获得准确的测量结果,正确使用实验室分析仪是至关重要的。驰光机电科技提供周到的解决方案,满足客户不同的服务需要。
而CMP工艺离不开研磨料的发展,那么对于磨料的颗粒粒度表征就显得尤为重要了。CMP就是用化学腐蚀和机械力对加工过程中的硅晶圆或其它衬底材料进行平滑处理。将硅片固定在抛光头的较下面,将抛光垫放置在研磨盘上,抛光时,旋转的抛光头以一定的压力压在旋转的抛光垫上,由亚微米或纳米磨粒和化学溶液组成的研磨液在硅片表面和抛光垫之间流动,然后研磨液在抛光垫的传输和离心力的作用下,均匀分布其上,在硅片和抛光垫之间形成一层研磨液液体薄膜。山东驰光机电科技有限公司拥有业内专业人士和高技术人才。江西高纯度氧化铝粉粒度在线分析仪报价
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CMP(化学机械抛光)工艺中磨料颗粒的高精度粒径表征随着半导体工业飞速发展,电子器件尺寸缩小,要求晶片表面平整度达到纳米级。CMP工艺作为芯片制造业不可或缺的一个部分,其对于磨料的颗粒粒度表征要求十分重要。CMP过程中使用的磨料颗粒典型尺寸范围是10-200nm,其颗粒表征要求精确地确定纳米级颗粒的尺寸,因此高分辨率纳米粒度分析仪是磨料颗粒表征的完美解决方案。磨料对CMP工艺起着至关重要的作用!欢迎选用CPS纳米粒度分析仪为您完美解决磨料颗粒问题!江苏纳米粒度分析仪报价