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上海市光学设计Tracepro设计优化

来源: 发布时间:2022年09月28日

各种各样的材料和表面特性可以应用于模型中的物体和表面。

可以指定的光学属性包括:

l  材料特性------折射率,吸收系数和双折射

l  孔径衍射

l  表面特性------反射和透射系数,表面吸收,表面散射

l  体散射

l  荧光

l  梯度折射率

l  Mueller矩阵建模

l  表面光源

l  温度分布

l  薄膜叠层建模多层光学涂层,包括防反射涂层,带通滤波器和截止滤波器

它的属性还可以通过自定义参数或者从常用的材料目录来定义。当然,你也可以自己添加属性到数据库中以简化建模过程。 此外TracePro也可用于成像系统中进行杂散光分析及模拟偏振效果。上海市光学设计Tracepro设计优化

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宏语言功能

你可以利用TracePro强大的宏语言功能来控制新创建的几何物体,完善每个面和物体的光学属性,以及控制物体的位置。在你优化的前、中、后每个阶段都能查看到每一个变量。

优化方法

TracePro的2D和3D优化器用的是优化算法,也称作Nelder-Mead算法来优化。

这种下山单纯形法是一种局部优化,收敛于**靠近起始点的局部**小解。在优化中,你可以控制这个优化过程,监测临时解决方案。你可以暂停优化器改变原始参数,然后重新优化。这种算法让你可以控制整个过程,并且能在很少的时间内找到更好的方案。 上海光学模拟Tracepro国内代理上海复光Tracepro设计优化。

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TracePro的光线追迹引擎快速而且精确,它提供完全可控的阈值参数能在不损失精度的前提下快速地得到仿真结果。TracePro独有的功能-----分析模式光线追迹,是一个非常强大的功能,可以创建一个交互环境来形象化和定量化地分析每一个表面和物体,进而来衡量一个设计的可行性。

TracePro的蒙特卡洛光线追迹引擎为模拟可能分布的光学现象提供一个强大的、通用的仿真工具,并利用伪随机数去测量这些样本的分布。另外,TracePro的方差缩减技术可以用来**地提高原始蒙特卡洛模拟仿真效率。重点采样技术是一种方差还原法,用于提高低概率路径的采样,否则的话将会抽样不足。并且重点采样可以通过数量级的改变加速模拟收敛。散点概率分布函数用于确定概率密度值和分配一小部分的散射曲线光通量通向所需要的方向。

将TracePro嵌入SolidWorks的使用环境,建模及光学材质的操作与定义全在SolidWorks中完成。可更有效率的执行光学—机构设计流程。

  通过软件设计和仿真功能,可以:

  (1)得到灯具的出光角度:

  只需有灯具的 3D模块便可通过软件仿真功能预判灯具出光角度,以此判断灯具是否达到设计目标。

  (2)得到灯具出光光斑图和照度图:

  可以模拟灯具打在不同距离得到的光斑、照度图分布情况,以此判断灯具出光性能。

  (3)灯具修改建议功能:

  如果通过软件判断初步设计灯具性能不符合要求,TracePro 光线可视图可以看到形成配光图每段曲线是由罩那段曲线形成,以提供修改建议。

  (4)准配光图和 IES 文件:

  可导出标准配光图和IES 文件,用于照明工程设计。


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实体建模

通过导入镜头设计或CAD文件以及直接在TracePro中创建实体几何来创建TracePro模型。可以通过用户友好的3DCAD界面使用移动,旋转,缩放,扫掠和旋转对象和曲面操作来修改模型。原始固体(例如管)块,圆锥和球体;也可以插入光学元件,包括透镜元件,反射镜和菲涅耳透镜。TracePro实用程序允许交互式草绘快速输入2D和3D配置文件;然后拉伸,旋转并组合这些表面,以创建复杂的几何形状,例如光导条,反射镜和自由曲面的光学元件。可视化选项包括:拟真渲染,实体渲染,轮廓,线框和隐藏线视图。 TracePro可直接在程序中建立虚拟模型,也同时支持模型利用CAD汇入,档案间转换兼容性极高。上海杨浦光学仿真Tracepro技术支持

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TracePro的2D和3D优化

交互式地完善您的设计以达到理想结果。

简化原型工艺来优化

TracePro通过利用2D对称和3D非对称优化器来简化光学和照明系统从原型到制作的过程。而不同于传统的优化器,TracePro提供了一种简单易用、独特的功能来监测和控制制作过程的每一步。

设计过程

设计过程一般分为三个步骤:画原始设计草图,用CAD略图功能将变量限制数据化,用强度、效率、辐照度、颜色、均匀性等参数建立评价函数。

评价函数根据你的预期目标通过权重来平衡多个操作对象。

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