2GLNanoscribe3D微纳加工

3D微纳加工技术应用于材料工程领域。材料属性可以通过成分和几何设计来调整和定制。通过使用Nanoscribe的3D微纳加工解决方案，可以实现具有特定光子，机械，生物或化学特性的创新超材料和仿生微结构。Nanoscribe的无掩模光刻系统在三维微纳制造领域是一个不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、与材料的普适性和便于操作的软件工具，在科学和工业项目中备受青睐。这种可快速打印的微结构在科研、手板定制、模具制造和小批量生产中具有广阔的应用前景。也就是说，在纳米级、微米级以及中尺度结构上，可以直接生产用于工业批量生产的聚合物母版。

3D自由曲面耦合器利用全内反射，结合Nanoscribe的3D微加工技术可直接在光子芯片上进行3D打印制作。2GLNanoscribe3D微纳加工

基于双光子聚合（2PP）原理的双光子灰度光刻（2GL®）是Nanoscribe技术，具备体素动态控制能力。在扫描激光焦点横跨扫描平面时，调制曝光剂量会改变光敏树脂内的体素大小，从而实现对聚合体素尺寸的精细可控变化。这是激光功率调制和高速振镜扫描与精确的横向载物台运动同步的结果。为此，将灰度图像转换为曝光级别的空间变化，从而在一个平面上打印不同的体素高度。 2GL有什么优势？ 双光子灰度光刻 技术（2GL®）使用激光束调制和高速振镜的高频同步进行单体素调节，从而实现光学质量表面结构。通过高精度定位单元和自校准程序，可在拼接相邻打印区域时以出色准确性进行打印，以制造大型结构。2GL动态调整打印场边界处的激光剂量，以补偿光敏聚合物的化学诱导收缩和定位缺陷。通过这种功能组合，可以在几平方厘米的区域内打印出真正的无缝结构，消除所有拼接痕迹。德国微纳光刻Nanoscribe微纳加工系统纳糯三维科技（上海）有限公司作为德国Nanoscribe在中国的独有的子公司加强了在中国的销售活动。

Nanoscribe双光子灰度光刻系统Quantum X ,Nanoscribe的全球头一次创建的工业级双光子灰度光刻无掩模光刻系统Quantum X，适用于制造微光学衍射以及折射元件。 Nanoscribe的全球头一次创建工业级双光子灰度光刻无掩模光刻系统Quantum X，适用于制造微光学衍射以及折射元件。 利用Nanoscribe的双光子聚合微纳3D打印技术，斯图加特大学和阿德莱德大学的研究人员联手澳大利亚医学研究中心的科学家们新研发的微型内窥镜。将12050微米直径的微光学器件直接打印在光纤上，构建了一款功能齐全的超薄像差校正光学相干断层扫描探头  

Nanoscribe Quantum X align作为前列的3D打印系统具备了A2PL®对准双光子光刻技术，可实现在光纤和光子芯片上的纳米级精确对准。全新灰度光刻3D打印技术3D printing by 2GL®在实现优异的打印质量同时兼顾打印速度，适用于微光学制造和光子封装领域。3D printing by 2GL®将Nanoscribe的灰度技术推向了三维层面。整个打印过程在最高速度扫描的同时实现实时动态调制激光功率。这使得聚合的体素得到精确尺寸调整，以完美匹配任何3D形状的轮廓。在无需切片步骤，不产生形状失真的要求下，您将获得具有无瑕疵光学表面的任意3D打印设计的真实完美形状。纳米尺度结构制造，咨询纳糯三维科技（上海）有限公司。

由Nanoscribe研发的IP系列光刻胶是用于特别高分辨率微纳3D打印的标准材料。所打印的亚微米级别分辨率器件具有特别高的形状精度，属于目前市场上易于操作的“负胶”。IP树脂作为高效的打印材料，是Nanoscribe微纳加工解决方案的基本组成部分之一。我们提供针对优化不同光刻胶和应用领域的高级配套软件，从而简化3D打印工作流程并加快科研和工业领域的设计迭代周期，包括仿生表面，微光学元件，机械超材料和3D细胞支架等。世界上头一台双光子灰度光刻（2GL ®）系统Quantum X实现了2D和2.5D微纳结构的增材制造。   更多有关3D打印的咨询，欢迎致电纳糯三维。2PPNanoscribePhotonic Professional GT

更多有关高精度三维光刻的咨询，欢迎致电Nanoscribe中国分公司-纳糯三维。2GLNanoscribe3D微纳加工

科学家们基于Nanoscribe的双光子聚合 技术(2PP) ，发明了GRIN 光学微纳制造工艺。这种新的制造技术实现了简单一步操作即可同时控制几何形状和折射率来打印自由曲面光学元件。凭借这种全新的制造工艺，科学家们完成了令人印象深刻的展示制作，打印了世界上特别小的可聚焦可见光的龙勃透镜（15 µm 直径）。相似于人类眼睛晶状体的梯度，这种球面晶状体的折射率向中心逐渐增加，使其具有独特的聚光特性。Nanoscribe的Photonic Professional打印系统可用于将不同折射率的龙勃透镜和其他自由形状的光学组件打印于微孔支架材料上（例如孔状硅材及二氧化硅）。突出特点是不再像常规的双光子聚合（2PP）那样在基体表面进行直写，而是在孔型支架内。通过调整直写激光的曝光参数可以改变微孔支架内材料的聚合量，从而影响打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技术（通过激光束曝光控制的亚表面折射率）可以在保证亚微米级别的空间分辨率同时，对折射率的调节范围甚至超过0.3。

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