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平行光管热成像校准系统介绍

来源: 发布时间:2024年10月02日

MTB系列黑体是精密的面源黑体,旨在模拟中温目标。使用一个薄的面加热元件来控制散热器温度。 黑体散热器的温度可以调节在约50摄氏度到550摄氏度之间。发射器面积可以从50x50mm到500x500 mm,具体取决于型号。

应用MTB黑体可用于一系列可能的应用:1、在中温范围内测量热像仪的精度(已知温度的面源)。

2、监控系统SWIR成像仪

3、用于测试SWIR/MWIRFPAs的系统

蕞高温度:典型的蕞高温度为550℃。如果不需要这样的温度,则最高温度可以降低到350℃,并且提供更好的热均匀性。 热成像新标准,基数参数精细调校,让夜间监控成为您的安全之眼!平行光管热成像校准系统介绍

DT系列检测设备是用千实验室条件下对热像仪各项性能检测的设备。如果需要的话DT设备还可以检测TV/LLLTV成像,或者热像仪和TV/LLLTV成像之间的光轴校正。注:推荐用MS设备来检测和校准感应器比较多的系统。DT系列设备采用了一个可调的投射源,所以可以用不同的投射源去投射被测的热像仪(或者TV/LLLTV成像)。被测的成像仪会产生基千这个投射源的一个扭曲的图像。一般由人或者软件通过该图像去判断被测成像仪的性能,被测成像仪的所有重要特征检测项都包含在内。DT系列设备可以检测热像仪、TV/LLLTV成像仪、超长距离设备、乃至航天领域设备。平行光管热成像校准系统介绍精确热成像,基数参数一键优化,夜间监控更轻松!

靶标是用于测试光电成像系统时创建参考图像的模块。Inframet提供的靶标可分为两类:1)无源靶标,2)有源靶标。无源靶标需要由黑体或标定光源产生均匀光束照射,生成参考图像模式的图像。这些靶标通常是大型测试系统位于平行光管焦平面的小模块。无源靶标的工作不需要电力供应。这些标准的小尺寸靶标作为Inframet制造的大型模块化测试系统(如DT,TAIM,TVT,MS)的一部分。有源靶标是通过其自身的热辐射或由人造光源发出的反射光创建参考图案。这些目标通常是大型的单独模块(尺寸从500mm到3000mm),需要电才能正常工作。被测光电成像仪可直接看到有源靶标。这些靶标用于测试融合成像仪的融合算法或作为热像仪/VIS-NIR相机分辨率靶标的流行解决方案。FUT系列靶标是有源靶标,通常用于测试融合成像系统或热像仪。

BLIQ黑体作为TCB系列特殊版本,可以弥补TCB其他型号的不足:大尺寸面源,需要降温到零下-40℃的温度。BLIQ也有一些限制条件:需要连接BLIQ黑体的安全罩(Inframet可提供)。覆盖罩须装充有干燥的氮气,以保护黑体发射器免受结霜或湿气冷凝。用户需要提供干燥的氮气。安全罩不能有任何漏洞以免潮湿热气体进入罩内。测试成像仪的光学镜头必须完全覆盖在罩中的输入孔中。罩长必须至少等于黑体发射面的大小。这意味着被测试的成像仪不能位于距BLIQ黑体发射器很短的距离。热成像新标准,基数参数精细调校,夜视效果超乎期待!

在国际市场提供的典型面源黑体(包括Inframet提供的TCB/MTB黑体)被优化,以模拟在常用的红外辐射光谱带中的黑体目标:约1μm至约15μm。这种黑体的发射面的高发射率是通过温度受控的金属板,与其涂覆的高吸收性涂料薄层来实现。由于这种黑体的发射率在波长约0.1mm处开始下降,并且在波长超过约1mm变得非常低,所以典型的面源黑体不能用于模拟THz带(0.1mm至1mm)和亚THz带(1mm至10mm的波长)的黑体目标温度。在典型的红外黑体中使用的高辐射率涂层对于太赫兹光学辐射而言变得部分半透明,特别是在长波处大约0.5mm。科技守护,热成像校准系统,基数参数优化,安全再升级!平行光管热成像校准系统介绍

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Inframet生产的离轴反射式平行光管采用垂直结构,平行光管的焦平面位于反射镜垂直方向的上方。这种类型的平行光管实现了测试系统的简单化结构设计(只需较小、较窄的光学平台)。而且,垂直结构的平行光管更为先进之处在于系统用于热像仪的测试时,垂直结构的黑体温度的均匀性要优于使用相同模块的水平结构。

Inframet使用三个等级的离轴反射镜面:SR(标准分辨率)-制造精度PV不低于λ/2在λ=630nm。HR(高分辨率)-制造精度PV不低于λ/6在λ=630nm(典型λ/10)。UR(超高分辨率)-制造精度PV不低于λ/10在λ=630nm。SQ(极高分辨率)-制造精度PV不低于λ/14在λ=630nm。Inframet采用典型的保护铝镀膜作为反射镜的镀膜材料,如果在可见光-近红外波段达到均匀的反射率,则保护铝镀膜可以作为次反射平面镜或者两面反射镜的镀膜材料。如果在远红外波段需要达到非常高的反射率则需要使用保护金作为辅助镜(或者两个反射镜)的材料。我们可以根据您所需口径和焦距精度等提供定制化平行光管,满足您的需求。 平行光管热成像校准系统介绍

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