海南晟鼎RPS石墨舟腔体清洗

RPS远程等离子源应用领域在生物医疗器件，特别是微流控芯片、体外诊断（IVD）设备和植入式器械的制造中，扮演着表面功能化改性的重要角色。许多高分子聚合物（如PDMS、PC、COC）因其优异的生物相容性和易加工性被广 使用，但其表面通常呈疏水性，不利于细胞粘附或液体流动。RPS远程等离子源通过氧气或空气产生的氧自由基，能够高效地在这些聚合物表面引入大量的极性含氧基团（如羟基、羧基），从而将其从疏水性长久性地改变为亲水性。这种处理均匀、彻底，且不会像直接等离子体那样因过热和离子轰击对精细的微流道结构造成损伤。经过RPS处理的微流控芯片，其亲水通道可以实现无需泵驱动的毛细管液流，极大地简化了设备结构，提升了检测的可靠性和灵敏度。RPS是一种用于产生等离子体的装置，它通常被用于在真空环境中进行表面处理、材料改性、薄膜沉积等工艺。海南晟鼎RPS石墨舟腔体清洗

东莞市晟鼎精密仪器有限公司的 RPS 三维光学扫描设备，凭借快速批量检测能力，成为消费电子制造行业的中心质量控制工具。消费电子产品更新换代快，批量大，对检测效率要求高，RPS 设备单幅测量时间≤1.5 秒，结合全自动拼接技术，可实现零部件的快速批量扫描检测。RPS 设备的测量精度可达 0.01mm，能够满足消费电子零部件的高精度检测需求，如手机外壳、摄像头模组等。在生产线上，RPS 检测设备可与自动化生产线联动，实现零部件的在线检测，及时剔除不合格产品，避免批量质量问题。该 RPS 批量检测方案已应用于多家前端消费电子企业，帮助企业提升生产效率，降低质量成本，成为消费电子制造行业的推荐 RPS 检测设备。重庆半导体RPS型号在红外探测器制造中优化光敏面。

东莞市晟鼎精密仪器有限公司的 RPS 定位技术，为增强现实（AR）应用提供了高精度的位置信息支撑。AR 应用对定位精度要求严苛，RPS 通过 Wi-Fi 指纹定位、室内地图定位等多种技术融合，实现厘米级定位精度，确保虚拟物体与现实场景的精细叠加。在 AR 导航、AR 工业维修等场景中，RPS 可实时更新用户位置信息，保障虚拟指引与实际环境的一致性；在 AR 娱乐应用中，RPS 快速的定位响应速度提升了用户交互体验。晟鼎精密的 RPS 定位系统具备良好的兼容性，可与多种 AR 设备与平台对接，支持多用户同时定位。通过持续优化定位算法，RPS 在复杂环境中的定位稳定性不断提升，为 AR 技术的商业化应用提供了可靠的 RPS 技术基础。

东莞市晟鼎精密仪器有限公司针对新能源汽车电池壳体检测需求，定制开发了RPS特用检具方案，保障电池包的装配安全性与密封性。新能源汽车电池壳体尺寸大、结构复杂，对平面度、孔位精度要求极高，RPS检具采用模块化设计，通过多个RPS定位基准点实现壳体的稳定支撑与精细定位。检具配备高精度接触式探针与激光传感器，可同时检测壳体的平面度、孔位坐标、壁厚等20余项关键参数，检测精度达0.01mm。RPS检具支持全自动检测流程，机器人自动上下料、自动完成检测，检测节拍只需45秒/件，满足新能源汽车生产线的高效需求。检测数据可实时上传至MES系统，生成追溯报告，为电池壳体质量控制提供数据支撑。该RPS检具方案已应用于多家新能源车企，有效降低了电池包泄漏风险，成为电池安全保障的中心RPS检测工具。Remote Plasma Source，RPS 通常被用于在真空环境中进行表面处理、材料改性、薄膜沉积等工艺。

在材料科学的基础研究和新材料开发中，获得一个清洁、无污染的原始表面对于准确分析其本征物理化学性质至关重要。无论是进行XPS、AFM还是SIMS等表面分析技术，微量的表面吸附物都会严重干扰测试结果。RPS远程等离子源应用领域为此提供的解决方案。其能够在高真空或超高真空环境下，通过产生纯净的氢或氩自由基，对样品表面进行原位（in-situ）清洗。氢自由基能高效还原并去除金属表面的氧化物，而氩自由基能物理性地溅射掉表层的污染物，整个过程几乎不引入新的污染或造成晶格损伤。这为研究人员揭示材料的真实表面态、界面电子结构以及催化活性位点等本征特性提供了可能，是连接材料制备与性能表征的关键桥梁。RPS包含电源和电离腔体两部分，不同的工艺气体流量对应匹配的电源功率。重庆半导体RPS型号

在射频滤波器制造中实现压电薄膜的精确刻蚀。海南晟鼎RPS石墨舟腔体清洗

东莞市晟鼎精密仪器有限公司研发的 RPS 远程等离子源 SPR-08，为半导体设备工艺腔体清洁提供原子级解决方案。该 RPS 设备基于电感耦合等离子体技术，通过交变电场和磁场作用解离 NF3/O2 等工艺气体，释放出高活性自由基，与工艺腔室内沉积的 SIO/SIN 污染材料及 H2O、O2 等残余气体发生化学反应，聚合为气态分子后经真空泵组抽出。RPS 的中心优势在于实现等离子体生成区与主工艺腔的物理隔离，避免离子轰击造成的腔室损伤，同时保证清洁彻底性。在 5nm 以下先进制程中，RPS 清洁技术可有效去除光刻胶残留与微小污染物，确保腔室洁净度满足高精度加工要求。RPS 设备操作便捷，维护简单，运行稳定性强，可适配不同规格半导体工艺腔体，目前已成为半导体制造企业提升产能与产品良率的关键 RPS 设备。海南晟鼎RPS石墨舟腔体清洗