安徽汽车积水胶带批发

    积水化学电子领域综合网站TOPICS积水化学首页LanguageEnglish中文日本語한국어产品咨询按设备种类搜索按应用场景搜索按产品类别搜索按功能搜索产品一览光学薄膜用保护膜6700，/6800，/6900系列首页胶带光学薄膜用保护膜6700，/6800，/6900系列扩散板，增光片等各种LCD用光学薄膜的表面保护膜。生产，加工，运输等所有环节中保护光学薄膜。特点采用残胶等被粘物污染少的双层共挤压生产方式。通过基材和粘合剂的不同变化来对应凹凸面，磨沙面等多种多样的光学薄膜的表面形状。在无尘室生产。一般性保护膜的制作过程本公司双层共挤压过程1由于基材与胶层的粘接牢固，材料上几乎没有残胶。2它是一种无溶剂的制造方法，因此是一种对环境友善的生产方法。用途增光板等光学薄膜的表面保护。特性强粘着类型（PP系薄膜）一般物性:6700系列品名6748C6754A672NZ675KA色透明透明透明透明标准厚度μm杨氏模量(MD)Mpa0抗拉强度(MD)N/cm20202320拉伸伸长率(MD)%0粘着力(23℃。 德莎tesa7475測試膠帶。安徽汽车积水胶带批发

    UV照射后产生GAS，可以从接着体上剥离开来。特征UV照射后粘着剂自行产出氮气使粘力下降，可在晶圆不受外力的情况下实现自行剥离。用途晶圆化学镀UBM时的背面保护膜、防止晶圆在剥离中受损用途例镀UBM的工艺适用前处理(alkali碱溶液，PH9）后处理（强酸，强碱）镀金属处理（Ni，Au等）特性一般物性项目单位胶带厚度基材25μm粘着剂30μm项目单位SUSSiWafer金粘着力初期N/：180度剥离UV照射：1000MJ晶圆/芯片制造工艺相关产品一览产品分类产品名特征UV剥离胶带耐热，高附着力，易剥离的UV胶带，用于半导体工艺【SELFAHS】结合了耐半导体工艺特性+低残胶的UV剥离胶带。在各种PKG制造过程中可保护器件表面并抑制翘曲。UV剥离胶带高耐热，高粘附力，易剥离的双面UV胶带，用于临时键合工艺【SELFAHW】结合了耐半导体工艺特性+低残胶的UV剥离胶带。用于玻璃乘载工艺時，保持高平坦度且兼顧操作使用時的安全。UV剥离胶带UV自行剥离胶带用于化学镀金UBM工艺【SELFA-MP】具有高耐化学性和低残留性的UV剥離胶帶；透过UV照射产生气体，剥離時可减少對设备的损伤。 重庆防水积水胶带联系方式积水 Masklite胶带 NO.730。

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LCD部件固定用胶带积水#550R6BW/积水#550P8BW是固定背光源模组和LCD模组而开发的双面胶带采用特殊黑白3800系列LCD部件固定用双面胶带积水3800BWC，积水3805BWC积水3806BWC耐反制力3800BWH积水3803BWH积水3804BWH积水3805BWH积水3806BWH积水3808BWH积水3810BWH积水3812BWH积水3815BWH片面积水3800BWS积水3805BWS积水3809BWS再使用3800BWAP积水3800BWSH积水3805BWSH积水3806BWAP积水3808BWAP遮光应力缓和3800BC积水3805BC积水3806BC积水3808BC耐反制力积水3800BH积水3800BHB积水3802BH积水3803BH积水3804BH积水3805BH积水3805BHB积水3806BH积水3806BHB积水3808BH积水3808BHB积水3810BH积水3812BH积水3815BH积水3820BH窄边框用3800BZ积水3802BZ积水3803BZ片面3800BS积水3801BXS积水3803BS积水3805BS积水3808BS积水3810BS再使用积水3800BAP积水3800BSH积水3805BAP积水3805BSH积水3806BAP积水3806BSH积水3808BAP积水3808BSH各种粘接用途透明应力缓和积水3800积水3803积水3805耐反制力积水3800H积水3803H积水3805H积水3808H积水3810H积水3812H积水3815H积水3820H再使用积水3800AP积水3805AP极薄积水3800X3801X反射耐反制3800WH积水3803WH积水3805WH积水3806WH积水3808WH积水3810WH。临时固定用胶带积水养生胶带733，替代积水731养生胶带建筑用。

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DIC8840ER双面胶带属于一款无纺布基材双面胶。安徽汽车积水胶带批发

UV自行剥离胶带用于化学镀金UBM工艺SELFA-MP电镀工程中的背面保护用的胶带，UV照射后产生GAS，可以从接着体上剥离开来。特征UV照射后粘着剂自行产出氮气使粘力下降，可在晶圆不受外力的情况下实现自行剥离。用途晶圆化学镀UBM时的背面保护膜、防止晶圆在剥离中受损用途例镀UBM的工艺适用前处理(alkali碱溶液，PH9）后处理（强酸，强碱）镀金属处理（Ni，Au等）特性一般物性项目单位胶带厚度基材25μm粘着剂30μm项目单位SUSSiWafer金粘着力初期N/25mm15.514.110.5UV照射后N/25mm000粘合力：180度剥离UV照射：1000MJ晶圆/芯片制造工艺相关产品一览产品分类产品名特征UV剥离胶带耐热，高附着力，易剥离的UV胶带，用于半导体工艺【SELFAHS】结合了耐半导体工艺特性+低残胶的UV剥离胶带。在各种PKG制造过程中可保护器件表面并抑制翘曲。UV剥离胶带高耐热，高粘附力，易剥离的双面UV胶带，用于临时键合工艺【SELFAHW】结合了耐半导体工艺特性+低残胶的UV剥离胶带。用于玻璃乘载工艺時，保持高平坦度且兼顧操作使用時的安全。UV剥离胶带UV自行剥离胶带用于化学镀金UBM工艺【SELFA-MP】具有高耐化学性和低残留性的UV剥離胶帶；透过UV照射产生气体，剥離時可减少對设备的损伤。安徽汽车积水胶带批发