上海无残留消泡剂20 年精细化工老厂

前列研发体系：博士团队技术创新点石安达^®以博士研发为**竞争力，研发团队成员均来自清华大学、中国科学技术大学等国内前列高校，深耕界面化学、泡沫控制技术、精细有机合成、改性化工材料领域多年，拥有丰富的工业助剂研发经验与行业技术积累。

团队聚焦消泡剂分子结构优化、配方改性、工况适配研发、绿色低耗配方升级，持续突破耐温、耐酸碱、低添加量、无硅纯净、环保可降解等技术难点，不断迭代产品型号，开发适配细分行业的专属配方；依托自主研发技术，实现产品效能持续升级，从源头把控产品性能，为客户提供技术的泡沫解决方案。 低添加量消泡剂，投加用量少，助力企业降本增效。上海无残留消泡剂20 年精细化工老厂

结合成分、配方工艺、性能属性、型号分类，点石安达^®全系列消泡剂分为有机硅消泡剂、无硅消泡剂、聚醚改性消泡剂三大品类，各品类特征清晰、定位明确，分别对应不同行业场景与工艺要求，完整覆盖工业全领域泡沫治理需求。

Goldwell^®有机硅消泡剂：作为公司主力通用型号产品，以聚二甲基硅氧烷为活性成分，复配疏水二氧化硅与乳化剂精制而成。其特征：表面张力极低，高效破泡速度快，常温消泡表现优异；耐酸碱性能优良，适配宽泛酸碱环境；化学性质稳定，储存周期长；分散性优异，易溶于各类水性体系；适配常规污水处理、通用工业清洗、普通循环水、常规化工工序，是市面应用**范围较广、综合性价比比较高的消泡剂品类，工业通用属性突出，同时适配水处理基础场景、生化污水常规泡沫治理。 上海无残留消泡剂20 年精细化工老厂循环水消泡剂，长效抑泡，杜绝水体泡沫溢出。

电子工业：护航精密制造

PCB板清洗：点石安达^®无硅消泡剂在酸性蚀刻液中可降低泡沫高度80%，避免液面溢出腐蚀设备，良品率提升8%。半导体封装。

金属加工：提升加工效率与产品质量

切削液泡沫控制：点石安达^®聚醚改性消泡剂在铝合金加工中可延长切削液使用寿命30%，减少刀具磨损，表面粗糙度降低至Ra0.8μm。磨削液抑泡：在汽车零部件磨削工艺中，低添加量消泡剂（0.3‰）即可实现8小时持续抑泡，加工效率提升20%。实现从实验室到工业化的全链路覆盖。

无硅系列：高洁净度，避免后顾之忧特征：完全不含硅油成分，基于聚醚、高碳醇、脂肪酸酰胺等有机化合物。点石安达^®这类产品的研发，旨在满足对硅元素有严格要求的特定工艺。

优势：无硅残留：有效避免了硅斑、缩孔、附着力下降等因硅残留可能引发的二次问题。

清洗用：良好的性能使其成为工业清洗剂、水性涂料的常用选择，有助于保障清洗对象和涂装表面的洁净度。

生物友好：部分无硅产品易于生物降解，符合严格的环保要求，在生化污水处理中表现出色。 您身边的泡沫控制行家：点石安达®全系列产品一览。

点石安达®定制型专属配方，精细匹配个性化需求。针对不同行业、不同水质、不同工艺、不同起泡介质、不同严苛工况，支持定制型配方研发服务，可按需调整消泡速度、抑泡时长、耐温等级、酸碱耐受度、体系兼容性、无硅要求、环保等级等参数，量身打造专属消泡解决方案，精细解决企业个性化起泡难题。

工业通用适配广，跨行业通用性强。基础款工业通用消泡剂适配绝大多数常规工业起泡场景，通用性强、性价比高，适配常规水处理、普通清洗、通用化工体系泡沫治理，一款产品覆盖多场景基础需求，简化企业助剂采购品类，降低仓储与管理成本。 博士研发团队打造，点石安达®消泡剂凭什么值得信赖？河北无残留消泡剂实验室配方研发

精密电子消泡剂，绿色安全，适配车间合规生产。上海无残留消泡剂20 年精细化工老厂

点石安达^®将继续深耕精细功能化学品赛道，坚守泡沫控制技术，依托博士研发团队持续创新升级，优化有机硅、无硅、聚醚改性全系列消泡剂产品性能，拓宽水处理、电子、金属、矿冶、清洗、表面处理全行业应用边界，坚守高效、环保、安全的产品研发初心，深耕低耗、绿色、定制化助剂研发，持续完善生产与服务体系，以更质量的产品、更专业的技术、更周全的服务，陪伴更多工业企业实现提质、降本、绿色、安全高质量发展，做国内工业泡沫治理领域值得信赖的源头合作伙伴，用精细化工技术赋能中国制造产业升级。上海无残留消泡剂20 年精细化工老厂

深圳市点石源水处理技术有限公司是一家有着先进的发展理念，先进的管理经验，在发展过程中不断完善自己，要求自己，不断创新，时刻准备着迎接更多挑战的活力公司，在广东省等地区的精细化学品中汇聚了大量的人脉以及**，在业界也收获了很多良好的评价，这些都源自于自身的努力和大家共同进步的结果，这些评价对我们而言是比较好的前进动力，也促使我们在以后的道路上保持奋发图强、一往无前的进取创新精神，努力把公司发展战略推向一个新高度，在全体员工共同努力之下，全力拼搏将共同深圳市点石源水处理供应和您一起携手走向更好的未来，创造更有价值的产品，我们将以更好的状态，更认真的态度，更饱满的精力去创造，去拼搏，去努力，让我们一起更好更快的成长！