孔金属化钻孔后的电路板需要进行孔金属化处理，使孔壁表面沉积一层铜，实现各层线路之间的电气连接。孔金属化过程一般包括去钻污、化学沉铜和电镀铜等步骤。去钻污是为了去除钻孔过程中产生的污染物，保证孔壁的清洁；化学沉铜是在孔壁表面通过化学反应沉积一层薄薄的铜层，作为电镀铜的导电层；电镀铜则是进一步加厚孔壁的铜层，提高连接的可靠性。外层线路制作外层线路制作的工艺流程与内层线路制作类似，包括前处理、贴干膜、曝光、显影、蚀刻和去膜等步骤。不同的是，外层线路制作还需要在蚀刻后进行图形电镀，加厚线路和焊盘的铜层厚度，提高其导电性能和耐磨性。热管理：大功率元件区域采用铜填充（Copper Pour）降低热阻，如BMS模块中MOSFET下方铺铜。襄阳定制PCB制版加工
过孔：包括通孔（贯穿全层）、盲孔（表层到内层）、埋孔（内层间连接），孔壁镀铜实现电气互连。焊盘：固定元器件引脚，需与走线平滑连接以减少阻抗。阻焊层：覆盖铜箔表面，防止短路并提供绝缘保护。丝印层：标注元器件位置、极性及测试点，便于装配与维修。PCB制版工艺流程（以多层板为例）开料与内层制作裁板：将覆铜板（基材）裁剪为设计尺寸。前处理：清洁板面，去除油污与氧化物。压膜：贴覆感光干膜，为后续图形转移做准备。曝光：通过UV光将设计图形转移到干膜上，透光区域干膜固化。显影与蚀刻：用碱性溶液去除未固化干膜，再蚀刻掉裸露铜箔，保留设计线路。内检：通过AOI（自动光学检测）检查线路缺陷，必要时补线修复。设计PCB制版压膜：将干膜贴在PCB基板表层，为后续的图像转移做准备。
外层线路制作：定义**终电路图形转移外层采用正片工艺：贴合干膜后曝光，显影后未固化干膜覆盖非线路区，电镀时作为抗蚀层。电镀铜厚增至35-40μm，随后镀锡（厚度5-8μm）作为蚀刻保护层。蚀刻与退锡碱性蚀刻去除裸露铜箔，退锡液（硝酸基）溶解锡层，露出**终线路图形。需控制蚀刻因子（蚀刻深度/侧蚀量）≥3:1，避免侧蚀导致线宽超差。五、表面处理与阻焊：提升可靠性与可焊性表面处理沉金（ENIG）：化学镍（厚度3-6μm）沉积后，置换反应生成金层（0.05-0.1μm），提供优异抗氧化性与焊接可靠性。喷锡（HASL）：热风整平使熔融锡铅合金（Sn63/Pb37）覆盖焊盘，厚度5-10μm，成本低但平整度略逊于沉金。
在电子科技飞速发展的当下，印刷电路板（PCB）作为电子设备中不可或缺的**组件，承担着连接各种电子元件、实现电路功能的重要使命。PCB制版则是将电子设计工程师精心绘制的电路原理图转化为实际可用的物理电路板的关键过程，它融合了材料科学、化学工艺、精密加工等多领域技术，每一个环节都关乎着**终电路板的性能与质量。PCB制版前的准备工作完整设计文件的获取PCB制版的首要前提是拥有完整、准确的设计文件。这些文件通常由电子设计自动化（EDA）***，包含Gerber文件、钻孔文件、元件坐标文件等。曝光：使用曝光设备利用紫外光对附膜基板进行曝光，将基板的图像转移至干膜上。
**工艺流程双面板制程：开料：将覆铜板切割为标准尺寸（如500mm×600mm）。钻孔：采用数控钻床加工通孔，孔壁粗糙度≤3.2μm。化学沉铜：通过PdCl₂活化、化学镀铜形成0.5μm厚导电层。图形转移：使用LDI激光直接成像技术，线宽精度达±3μm。蚀刻：采用碱性蚀刻液（CuCl₂+NH₄Cl），蚀刻因子≥3.0。阻焊印刷：液态光致阻焊剂（LPI）涂覆，厚度20μm±5μm。表面处理：沉金（ENIG）厚度Au 0.05μm/Ni 3μm，或OSP（有机保焊膜）厚度0.2μm。多层板制程：内层制作：重复双面板流程，增加氧化处理（棕化）以增强层间结合力。层压：采用高温高压釜（180℃/40kgf/cm²）将芯板与半固化片（PP）压合，层间对准度≤0.1mm。激光钻孔：对于HDI板，使用CO₂激光加工盲孔（孔径≤0.1mm），深宽比≥1:1。EMC防护：在USB3.0等高速接口周围布置磁珠与共模电感，抑制辐射干扰。武汉定制PCB制版功能
折叠屏手机与ADAS系统驱动FPC与HDI集成技术，如三星Galaxy Z Fold系列采用3D立体封装FPC。襄阳定制PCB制版加工
阻焊与字符阻焊油墨（环氧树脂基）通过丝网印刷或喷涂覆盖非焊盘区，预烘（75℃/30min）后曝光固化，形成绿色保护层。字符印刷采用白油或黑油，标识元件位置与极性，需确保油墨附着力（百格测试≥4B）。六、成型与测试：**终质量把控数控铣削使用铣床（主轴转速18-24krpm）按设计轮廓切割PCB，边距公差±0.1mm。V-CUT工艺用于拼板分离，预留0.3-0.5mm连接筋。电气测试**测试机以4探针接触焊盘，检测开路、短路及绝缘电阻（≥100MΩ），测试覆盖率100%。成品需通过X-Ray检测内层对位精度（±0.05mm）及孔位偏移（≤0.075mm）。襄阳定制PCB制版加工