上海弥正深耕国产超高纯气体研发与生产,打破国际巨头在品类的垄断,为半导体产业链自主可控提供关键材料支撑。针对国内高度依赖进口的 7N 级电子级氟化物、硅烷等品类,公司通过自主研发攻克重心提纯技术,实现规模化量产,产品纯度达到国际先进水平,杂质控制精度进入 ppt 级别,并成功通过中芯国际、长江存储等头部晶圆厂的验证认证。相较于进口产品,公司产品在供应响应速度、成本控制及技术服务方面更具优势,可实现订单 48 小时内快速响应,交货周期缩短 50%,成本降低 20-30%。积极参与国家 “十四五” 新材料产业发展规划重点项目,推动超高纯气体国家标准的修订与完善,目前已主导或参与 3 项行业标准的制定。某半导体企业使用其国产替代型超高纯三氟化氮后,不仅摆脱了对进口气体的依赖,还将相关工艺的材料成本降低 25%,供应链稳定性明显增强,为实现芯片国产化提供了有力保障。超高纯氟化氢经严格提纯,适配半导体先进制程清洗需求。江苏氯甲烷超高纯气体香精香料

上海弥正超高纯磷烷(5N 级纯度),作为半导体制造中关键的 N 型掺杂气体,以 “准确掺杂 + 高安全性” 满足芯片电性能调控需求。通过络合纯化与吸附分离工艺,将杂质总含量控制在 100ppt 以下,其中砷、硼等竞争性掺杂元素含量≤10ppt,确保掺杂精度与芯片性能稳定。在芯片制造的掺杂工艺中,它被精确引入晶圆表层,通过热扩散或离子注入方式,改变半导体材料的导电类型,形成 N 型半导体区域,是构建晶体管源极、漏极及电阻等关键结构的重心材料。针对其高毒性与高反应活性的特点,建立了符合 SEMI 标准的全流程安全管理体系,从生产、检测、包装到运输均配备多重安全防护装置,气瓶采用特制的防爆阀门与泄漏监测系统,确保使用安全。某先进逻辑芯片企业应用该气体后,晶体管开关速度提升 12%,芯片功耗降低 8%,掺杂工艺的均匀性与重复性均达到国际先进水平,产品良率稳居行业前列。四氯化硅超高纯气体厂家供应超高纯氨气纯度达 99.999%,用于 LED 芯片制造与光伏电池钝化。

上海弥正针对光伏产业多晶硅生产、硅片切割、电池片制造等全流程,推出包含超高纯氢气、氮气、氩气、硅烷等的气体套装解决方案,适配 N 型 TOPCon 与 HJT 高效电池技术需求。套装内所有气体均通过光伏行业**提纯工艺,其中超高纯氢气纯度达 6N 级,硅烷纯度达 5N 级,杂质含量严格遵循《光伏制造用特种气体发展白皮书》标准,确保不影响电池转换效率。提供按需定制的混合气体配比服务,可根据客户工艺要求精细调配不同比例的保护气与反应气,同时配备智能供气系统,支持流量、压力的实时监测与自动调节,流量控制精度达 ±0.5%。某大型光伏企业应用后,多晶硅生产能耗降低 12%,电池片转换效率提升 0.8%,年新增发电量超 1 亿千瓦时,且气体供应稳定性满足 24 小时连续生产需求,2023 年助力客户实现 9.8 万吨的高纯气体消耗量适配,响应光伏产业 24.6% 的年增长需求。
上海弥正针对碳化硅(SiC)、氮化镓(GaN)等第三代半导体制造,打造专属超高纯气体解决方案,以 “适配宽禁带特性 + 准确工艺控制” 助力功率器件与射频器件量产。方案涵盖超高纯氨气、硅烷、氢气、氩气等重心气体,其中用于 GaN 外延生长的超高纯氨气纯度达 7N 级,金属杂质含量≤0.01ppb;用于 SiC 刻蚀的超高纯氟化物气体纯度达 6N 级,确保材料刻蚀的准确度与表面质量。第三代半导体材料具有耐高温、耐高压、高频的特性,对气体纯度与杂质控制要求远高于传统硅基半导体,该方案通过准确控制氧、碳、金属等杂质含量,有效减少外延层缺陷,提升器件的击穿电压与可靠性。提供外延生长、离子注入、刻蚀、退火等全工艺环节的气体组合,并配备工艺适配团队,协助客户优化气体流量、压力等工艺参数。某专注于 SiC 功率器件的企业应用该方案后,外延片的缺陷密度从 10³cm⁻² 降至 10²cm⁻² 以下,器件的击穿电压提升 20%,成功实现车规级 SiC MOSFET 的稳定量产。超高纯一氧化碳纯度≥99.99%,是化学合成与材料制备的原料气。

上海弥正低超高纯气体系列(≤-80℃),专为对水分敏感的电子制造、精密仪器等领域设计,以 “干燥 + 高纯度” 杜绝水分导致的生产缺陷。通过深度干燥与吸附提纯工艺,将气体中的水分含量控制在 50ppb 以下,部分产品(如超高纯氮气、氩气)可低至 - 90℃,同时保证气体纯度达 6N 级以上,完全满足半导体光刻、薄膜沉积等工艺对水分的要求。水分是电子制造中的 “隐形”,可能导致晶圆氧化、薄膜层间剥离、金属电极腐蚀等严重问题,直接影响产品良率。该系列气体采用全程干燥的生产、包装与输送系统,气瓶内壁经特殊处理,防止水分吸附,输送管路配备在线监测仪,实时监控气体干燥度,确保终端使用点的始终符合要求。某显示面板企业应用低超高纯氨气后,OLED 面板的薄膜层间附着力提升 30%,因水汽导致的黑斑缺陷率从 1.5% 降至 0.05%;某精密电子元件厂使用后,产品的耐湿热性能测试通过率从 85% 提升至 99.5%。超高纯氮气(纯度≥99.999%)用作半导体制造保护气,防止芯片加工时氧化。四氯化硅超高纯气体厂家供应
超高纯甲烷(杂质≤0.5ppm)是半导体刻蚀工艺的关键气体。江苏氯甲烷超高纯气体香精香料
上海弥正针对不同芯片制程需求,提供电子级超高纯气体定制服务,从纯度等级、杂质控制到供应方式均实现准确适配。可根据客户工艺要求,定制 5N-9N 级不同纯度的气体产品,其中 7N 级以上超高纯气体金属杂质含量可控制在 0.001ppb 以下,完全满足 7nm 及以下先进制程的严苛要求。针对特定工艺环节,准确控制目标杂质含量,如光刻工艺用气体可将碳氢化合物杂质控制在 0.05ppb 以下,避免影响光刻精度;掺杂工艺用气体可准确调控掺杂元素浓度,确保芯片电性能稳定。提供 “瓶装 + 管道” 双供应模式,小批量生产采用高压气瓶供应,大批量连续生产采用管道输送,输送系统可与客户生产设备无缝对接。配备专业技术团队,提供工艺适配咨询、气体使用培训与设备调试服务,帮助客户优化气体使用方案。某先进制程芯片企业应用定制化气体后,芯片制程良率提升 3.5%,工艺调整周期缩短 40%,成为客户工艺升级的重心合作伙伴。江苏氯甲烷超高纯气体香精香料
上海弥正气体有限公司在同行业领域中,一直处在一个不断锐意进取,不断制造创新的市场高度,多年以来致力于发展富有创新价值理念的产品标准,在上海市等地区的电工电气中始终保持良好的商业口碑,成绩让我们喜悦,但不会让我们止步,残酷的市场磨炼了我们坚强不屈的意志,和谐温馨的工作环境,富有营养的公司土壤滋养着我们不断开拓创新,勇于进取的无限潜力,上海弥正气体供应携手大家一起走向共同辉煌的未来,回首过去,我们不会因为取得了一点点成绩而沾沾自喜,相反的是面对竞争越来越激烈的市场氛围,我们更要明确自己的不足,做好迎接新挑战的准备,要不畏困难,激流勇进,以一个更崭新的精神面貌迎接大家,共同走向辉煌回来!