在氢氟酸产业中，工业级氢氟酸产能基本饱和，未来发展机遇相对较小。而电子级氢氟酸下游产业处于快速发展阶段，且由于生产门槛较高，国内产能供不应求，行业未来发展前景较好，因此吸引较多企业投建产能。应用于集成电路 ( I C)和超大规模集成电路 (VLSI)芯片的清洗和腐蚀 ,是微电子行业制作过程中的关键性基础化工材料之一 ,还可用作分析试剂和制备高纯度的含氟化学品。在国内基本上是作为蚀刻剂和清洗剂用于微电子行业 ,其他方面用量较少。氢氟酸和氟化氢的区别在于：氢氟酸是混合物，是由氟化氢稀释而来的，而氟化氢是纯净物。氢氟酸在制造光学玻璃和陶瓷时有重要的应用。杭州纯氢氟酸工厂
电子级氢氟酸下游应用市场涉及集成电路、半导体、太阳能光伏、液晶显示等微电子行业，以及用作分析试剂和制备高纯度含氟化学品等领域。我国电子级氢氟酸应用市场中，微电子行业占据大部分份额，其他领域应用占比较小。在国家政策的推动以及市场需求的带动下，我国集成电路、太阳能光伏、液晶显示行业规模迅速扩张，因此我国电子级氢氟酸行业发展势头强劲。按照用途的不同，电子级氢氟酸可以分为EL、UP、UPS、UPSS四个级别，其中，UPSS级别是现阶段较先进的级别。在行业发展初期，全球优越电子级氢氟酸市场主要被日本企业所垄断。杭州纯氢氟酸工厂在使用氢氟酸前必须进行充分的安全评估和风险分析。
生产氢氟酸有采用萤石及磷矿石两种原料路线。而以萤石为原料的硫酸法是工业上普遍采用的方法。将干燥后的萤石粉和硫酸按配比1：(1.2-1.3)混合，经高温分解、粗馏、精馏及水吸收而制得氢氟酸。［安全与防护］氢氟酸属一级无机酸性腐蚀物品，危规编号：91035。用聚乙烯塑料桶或四氟乙烯塑料桶包装。每桶净重20kg或25kg。量少可用塑料瓶盛装，每瓶0.5kg包装，包装上应有“剧毒的物品“或“腐烛性物品“标志。不可与氧化剂，有机物、易燃物、碱、金属粉等共贮混运。失火时可用黄砂、二氧化碳灭火器扑教，禁用柱状水扑救。氢氟酸腐蚀性极强，蒸气极毒，较高容许浓度为1mg/m3。皮肤误触时、应立即用大量清水冲洗，或立即用3%碱液，10%碳酸铵溶液冲洗。严重时应送医院防治。
浓度低时因形成氢键具有弱酸性，但浓时（5mol/L以上）会发生自偶电离，此时氢氟酸就是酸性很强的酸了。液态氟化氢是酸性很强的酸，酸度与无水硫酸相当，但较氟磺酸弱。 [3] 腐蚀性强，对牙、骨损害较严重。对硅的化合物有强腐蚀性。应在密闭的塑料瓶内保存。用HF（氟化氢）溶于水而得。用于雕刻玻璃、清洗铸件上的残砂、控制发酵、电抛光和清洗腐蚀半导体硅片（与HNO3的混酸）。因为氢原子和氟原子间结合的能力相对较强，使得氢氟酸在水中不能完全电离。氢氟酸能够溶解很多其他酸都不能溶解的玻璃（主要成分：二氧化硅），生成气态的四氟化硅反应方程式如下：SiO2(s)+4HF(aq)=SiF4(g)↑+2H2O(l)。氢氟酸的运输和储存需要特殊的措施和设备。
氟化氢无法长期保存囤货。不只如此，韩国几乎无法抛开日本去寻求替代品，因为纯度能够达到半导体制造业使用需求的主要是日本企业，其中日企占据的份额高达90%。难怪韩国会对此如此忌惮了。此外，氟化氢还常用于氟碳化合物生产、冶金工业、石油化工等行业的生产。氢氟酸是现代氟化工的基础，是整个氟化工产业链的起点，是制取元素氟、各种含氟制冷剂、含氟新材料、无机氟化盐和有机氟化物等的基本原料。据了解，2020年世界无水氟化氢产能大约在370万吨，中国无水氟化氢产能占全球的67%，是一大生产国。自然界中含氟矿物质多达一百多种，但目前作为生产氢氟酸的原料能加以利用的只限于萤石和磷矿石两种。在使用氢氟酸时必须格外小心和谨慎。广东氢氟酸厂
在进行氢氟酸处理时必须避免产生噪声和室内温度过高。杭州纯氢氟酸工厂
影响氢氟酸腐蚀的主要因素：(一)氢氟酸浓度的影响。浓的氢氟酸腐蚀性能极其微弱，而稀的氢氟酸则具有很强的腐蚀性，并且腐蚀性是随氢氟酸浓度的降低而加剧。原因：浓度降低，导电离增加，离子的迁移和扩散容易进行，影响腐蚀电流也较大。当降低到某个浓度时，腐蚀性较强。再降低浓度，腐蚀率将随之降低。(二)温度对腐蚀的影响。对化学反应来说，温度是一个关键的条件，温度升高，使反应加速，也能使腐蚀加剧。对于碳钢材料，当使用温度高于65℃时，因氟化铁(FeF2)保护膜失去作用，腐蚀急速加剧，建议选用蒙乃尔合金。(三)介质流速对腐蚀的影响。介质的流速对生成的保护膜有一定的影响，介质流速过高．保护膜受到介质冲刷极易脱落，使金属的腐蚀速度加剧。保护膜附着力大小：蒙乃尔合金（NiF2) > 铜 （CuF2) > 钢（FeF2)。杭州纯氢氟酸工厂