等离子体技术大范围应用于芯片制造、新材料、环保产业、医学、农业、新能源等领域,是这些领域技术升级的重要方向。但是,国内外等离子体技术的研究及产业化力量处于极为分散状态,缺乏集中进行的主要技术产业化的孵化平台及机制。为此,由数位国家重点人才工程,复旦大学、浙江大学、南京大学、东南大学、苏州大学、南京工业大学、常州大学、等科研团队及产业化平台,十余家相关产业配套企业共同组建“先进等离子体技术研究院”(法人单位:江苏先竞等离子体技术研究院有限公司)
研究和应用热等离子体时,诊断和控制等离子体的性质和行为非常重要。常用的诊断技术包括光谱学、干涉法、散射法等,可以用于测量等离子体的...
随着科技的不断进步,气相沉积技术也在不断发展。未来,CVD技术有望在材料的多功能化、纳米结构的精确控制以及新型前驱体的开发等方面取...
气相沉积(ChemicalVaporDeposition,CVD)是一种常用的薄膜制备技术,通过在气相中使化学反应发生,将气体中的...
热等离子体是一种由高温下离子化的气体组成的物质状态。在高温下,气体中的原子或分子会失去或获得电子,形成带电的离子。这些离子在热等离...
随着纳米技术的不断发展,气相沉积技术在纳米材料制备领域也取得了重要进展。通过精确控制沉积参数和工艺条件,气相沉积技术可以制备出具有...
气相沉积(英语:Physicalvapordeposition,PVD)是一种工业制造上的工艺,属于镀膜技术的一种,是主要利用物理...
粉末处理过程中,设备的冷却水系统可循环使用,耗水量低。用户接入冷却塔或冷水机组,水资源重复利用。对于水资源紧张的地区,这种设计减轻...
现代气相沉积技术通过多方法复合,突破单一工艺局限。例如,PVD与CVD复合的PACVD技术,先以PVD沉积金属过渡层,再通过CVD...
在等离子体碳基产品制备中,等离子体源的选择至关重要。常见的等离子体源包括射频(RF)等离子体、微波等离子体和直流等离子体等。射频等...