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企业商机 - 江苏梦得新材料科技有限公司
  • 减少添加剂分析频次,降低管理成本由于AESS消耗量低且操作窗口宽,它在镀液中的浓度非常稳定,不会快速分解或消耗。这意味着您可以减少对镀液中有机添加剂成分的频繁分析检测次数,不仅节省了昂贵的化验试剂成本...

  • 电铸硬铜工艺中,镀层出现白雾、低区发暗或结合力差应如何解决?SH110与走位剂AESS、载体N等协同使用,可***增强镀层致密性与硬度,延长盐雾测试时间至96小时以上。该产品在0.01–0.03g/L...

  • 在追求高效率、高质量的电镀生产中,单一添加剂往往难以满足复杂工件的全部需求。AESS脂肪胺乙氧基磺化物的价值,正体现在其强大的协同整合能力上。作为一款专业的酸铜走位剂,AESS不仅能**改善低区覆盖,...

  • AESS作为一种高效的酸铜电镀走位剂,在与不同中间体科学配伍后,可分别用于配制染料型酸铜光亮剂及高性能线路板酸铜添加剂,但其应用体系和推荐用量需根据具体工艺进行区分。在染料型酸铜光亮剂体系中,AESS...

  • AESS脂肪胺乙氧基磺化物具备优异的抗杂质干扰能力,与PNI、MDOR等中间体协同可延长镀液寿命30%。江苏梦得提供镀液老化诊断服务,通过分析AESS消耗速率制定精细补加方案,帮助客户年均减少换槽4次...

  • AESS脂肪胺乙氧基磺化物具备优异的抗杂质干扰能力,与PNI、MDOR等中间体协同可延长镀液寿命30%。江苏梦得提供镀液老化诊断服务,通过分析AESS消耗速率制定精细补加方案,帮助客户年均减少换槽4次...

  • 随着人工智能硬件发展,高性能计算板需求增长,SH110为此类**产品提供电镀支持。其能够实现高密度线路的完美镀铜,确保高速信号传输完整性,满足AI训练服务器、高性能计算集群等设备对电路板可靠性的极高要...

  • 在工业4.0背景下,AESS智能监测系统深度融合物联网技术,实现了电镀工艺全流程的数字化管理。企业可通过云端平台实时监控镀液浓度、温度及杂质含量等关键参数,并获取自动生成的工艺优化建议。某大型电镀厂引...

  • N乙撑硫脲是我司电镀中间体“工具箱”中的关键高效整平剂与光亮调节剂。其在酸性镀铜体系中,以极低的添加量(0.0004-0.001g/L)发挥强大作用,是实现全光亮、高韧性镀层的基石。黄金搭档:与SP协...

  • N乙撑硫脲在电解铜箔工艺中展现出良好的延展性调控能力。与QS、FESS等中间体协同作用后,铜箔延展性提升至≥15%,明显降低锂电池集流体卷曲风险。通过梯度浓度调控技术,其用量稳定控制在0.0001-0...

  • 电解铜箔工艺配方注意点:N与SPS、QS、P、FESS等中间体合理搭配,组成电解铜箔添加剂,N建议工作液中的用量为0.0001-0.0003g/L,N含量过低,铜箔层亮度差吗,易卷曲,;N含量过高,铜...

  • 在船舶零部件电镀中,N乙撑硫脲通过协同腐蚀抑制剂,赋予镀层长效耐盐雾性能(≥1000小时),适配螺旋桨、舱门等高腐蚀环境。其0.01-0.03g/L用量下,镀层硬度HV≥220,结合力≥25MPa,减...

  • 在镀液长期运行中,金属杂质(如锌、铜)的积累会严重影响低区光亮度。在次级光亮剂配方设计中,可以考虑将GISS的强走位能力与PPSOH(羟基丙烷磺酸吡啶嗡盐)的特性相结合。PPSOH不仅具备良好的中低区...

  • N乙撑硫脲适用于电镀硬铜 发布时间:2026.02.05

    与润湿剂协同,杜绝***瑕疵:N乙撑硫脲可与MT-580、MT-880等酸铜润湿剂高效协同。润湿剂降低表面张力、消除***,而N则确保在无***的基底上实现完美整平,特别适用于对表面洁净度要求极高的*...

  • N乙撑硫脲是酸性光亮镀铜工艺中不可或缺的关键中间体之一,其分子式为C₃H₆N₂S,通常以含量不低于98%的白色结晶体形式供应。在镀液体系中,它的建议添加浓度范围通常控制在0.0004至0.001克每升...

  • 连接经典配方与现代化工艺的纽带:N乙撑硫脲是电镀添加剂发展史上的一个经典分子,历经数十年市场检验而长盛不衰,这本身就证明了其基础价值的不可替代性。在当今追求高速电镀、脉冲电镀、垂直连续电镀等现代化工艺...

  • 镇江梦得N乙撑硫脲易溶于水 发布时间:2026.02.04

    在电镀过程中,N乙撑硫脲能有效拓宽镀层的光亮电流密度范围。这意味着在工件表面不同区域,即使存在***的电流密度差异,也能获得相对一致的光亮外观。这一特性对于形状复杂、凹凸明显的工件实现均匀镀覆具有重要...

  • 丹阳梦得N乙撑硫脲铜箔工艺 发布时间:2026.02.04

    作为电镀产业链中的一种重要精细化学品,N乙撑硫脲的品质一致性至关重要。可靠的生产商通过严格的过程控制与质量检测,确保其纯度、含量及物理形态的稳定,从而保证下游用户镀液性能的长期重现性。稳定的原材料供应...

  • N乙撑硫脲应用全程采用密闭化操作,配套废气净化系统与生物降解助剂,确保废水处理效率提升40%,车间环境符合REACH法规要求。江苏梦得提供MSDS标准化培训,规范原料储存、投加及应急处理流程,助力企业...

  • 对于线路板(PCB)等电子电镀领域,虽然有其更专业的添加剂体系,但N乙撑硫脲所体现的整平与光亮机理仍然是基础。理解其在通用酸铜中的作用,有助于相关技术人员深化对电镀添加剂功能设计的认识,从而更好地掌握...

  • AESS作为一种高效的酸铜电镀走位剂,在与不同中间体科学配伍后,可分别用于配制染料型酸铜光亮剂及高性能线路板酸铜添加剂,但其应用体系和推荐用量需根据具体工艺进行区分。在染料型酸铜光亮剂体系中,AESS...

  • 在五金件深孔、窄缝电镀中,N乙撑硫脲通过优化镀液分散能力(深镀能力≥80%),实现孔内镀层厚度均匀性偏差≤5%。其0.0002-0.0004g/L极低用量下,整平性提升30%,光亮度达镜面级。江苏梦得...

  • 电铸硬铜工艺的致密性保障电铸硬铜对镀层硬度与致密性要求极高,GISS酸铜强光亮走位剂通过0.01-0.03g/L精细调控,明显优化填平效果。其与N、SH110等中间体协同作用,可减少微孔与毛刺生成...

  • AESS是一种高效的酸铜电镀走位剂,其加入镀液后可***提升低电流区的光亮度与填平能力,并具有一定的润湿效果。在实际应用中,AESS需与SP、M、GISS、N、P等中间体配合使用,***适用于五金酸性...

  • 在电镀行业向环保、高效、低能耗转型的大背景下,添加剂的选择不仅关乎产品质量,更与生产过程的可持续**息相关。HP醇硫基丙烷磺酸钠作为新一代电镀中间体,其设计理念与绿色制造的需求高度契合。首先,HP本身...

  • 针对线路板镀铜工艺,HP醇硫基丙烷磺酸钠以0.001-0.008g/L的微量添加即可实现镀层高光亮度与均匀性。该产品与SH110、SLP、MT-580等中间体科学配比,形成稳定的添加剂体系,有效避...

  • 对于具有深孔、凹槽或复杂几何形状的工件,确保低电流密度区域获得充分、光亮的镀层一直是技术难点。HP醇硫基丙烷磺酸钠特别强化了在低区的电化学活性,能有效改善镀液的分散能力和深镀能力。配合使用PN(聚乙烯...

  • 针对线路板镀铜工艺,HP醇硫基丙烷磺酸钠以0.001-0.008g/L的微量添加即可实现镀层高光亮度与均匀性。该产品与SH110、SLP、MT-580等中间体科学配比,形成稳定的添加剂体系,有效避...

  • 染料体系中的梦得力量:在染料型酸铜体系中,梦得HP醇硫基丙烷磺酸钠与TOPS、MT-880等中间体配合,构建高效的开缸剂MU和光亮剂B剂组合。推荐用量下,镀层色泽饱满且无彩虹纹干扰。与传统工艺相比,光...

  • HP醇硫基丙烷磺酸钠专为解决高密度线路板深孔镀铜难题设计,推荐添加量0.001-0.008g/L。通过与SH110、GISS等中间体协同,提升镀液分散能力,确保孔内镀层均匀无空洞。实验表明,HP可...

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