本实用新型涉及等离子体cvd晶圆加热器的领域,尤其涉及一种等离子体cvd晶圆加热器用表面修磨装置。背景技术:随着半导体技术的不断飞速发展,单个芯片上所承载的晶体管数量以惊人的速度增长,与此同时,半导体制造商们出于节约成本的需要迫切地希望单个晶圆上能够容纳更多的芯片,这要求更加精细的制造工艺.一种常用的工艺是等离子体化学汽相淀积(pecvd).化学汽相淀积(pecvd)一般用来在半导体晶圆衬底上淀积薄膜,气体起反应在晶圆加热器表面形成一层材料;等离子体cvd晶圆加热器是半导体芯片加工的关键设备,起承载吸附晶圆及提供加热的作用,随着使用次数增加,晶圆在工艺过程中和等离子体cvd晶圆加热器表面接触,高温状态晶圆加热表面的铝材会被晶圆不停磨损,导致晶圆加热器表面平整度及吸附区域尺寸变差,吸附力下降,导致工艺无法正常完成,工艺结果变差。因此就需要将等离子体cvd晶圆加热器表面进行修复,保证表面的平整度和吸附区域尺寸,保证工艺正常进行;现有技术的修复方法是使用数控机床或手工进行修复,但是存在材料去除量较大,数控机床一次去除量为,导致晶圆加热器的可修磨次数少,使用成本高;另外晶圆加热器表面沟槽多、材料太软,导致不好控制表面平整度。本发明提供一种高频加热时精确控制温度的装置及方法。上海 PA8020-CC-PCC200V加热板总经销

使得同心圆圆弧上的位置温场分布较差。但是传统构造的加热片在采用时候会存在很多疑问:1.中间ω形状的热弧板1在持续加热工作后会有变形,这种变形又会更进一步引致加热片的总体变形,这种总体变形又会让两组加热片之间彼此相近(易于放电打火甚至短路)或上翘,这种远离或相近也会导致左电极3和右电极4,如附图2中相片的黑色箭头指示位置处。2.为了确保加热安定,其加热片的构造相同,这使得直线对称构造的加热片,其左电极3和右电极4在同一侧,会存在短路隐患,更是是总体变形后还会存在挤碎底部陶瓷的高风险。3.为了防范每组加热片之间短路,在每个包抄的加热片之间都会留有空隙22,而传统两组加热片之间存在的空隙22(主要在直线对称轴附近)空间分布不合理,迂回拐点相对处较近,其他地方较宽,会导致提供给芯片发育的热源不安定;同时,这种间隔较大,由于存在较大的温差,故此也致使拱形热片2的迂回拐点特别容易发生变形,附图3中的相片所示;相反,如果在直线对称轴附近留有的空隙较小,又会因为疑问1的缘故特别易于引致短路。目前的解决办法是:对传统加热片频繁的检查,做到早发现,早更换。但是这会增加加热片的使用成本。上海 PA8020-CC-PCC200V加热板总经销导致国内对氮化铝陶瓷加热盘的需求变得紧张起来。

4为限位柱;5为温度传感器;6为过温保护器;7为隔热环;11为***加热区域;12为第二加热区域;13为第三加热区域;14为第四加热区域;15为第五加热区域;16为第六加热区域;17为第七加热区域。具体实施方式下面结合附图和实施例,对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明,但不能用来限制本发明的范围。实施例一、本实施例的晶圆加热器的结构如图1至4所示包括:加热盘1、底板2和垫柱3加热盘1第二面上设有七个加热区域,分别为***加热区域11、第二加热区域12、第三加热区域13、第四加热区域14、第五加热区域15、第六加热区域16和第七加热区域17;***加热区域11设置于中心区域,第二加热区域12和第三加热区域13设置于***加热区域11外圆周,第四加热区域14、第五加热区域15、第六加热区域16和第七加热区域17设置于第二加热区域12和第三加热区域13外圆周;每个加热区域上均设置有若干弧形凹槽,且每个加热区域内的弧形凹槽均与相邻的弧形凹槽连接,使每个加热区域内的弧形凹槽形成串联;每个加热区域内均设置有一根加热丝,加热丝嵌于弧形凹槽内;底板2与加热盘1,使加热丝固定于加热盘1上。垫柱3为peek材料,高度为,设置在加热盘1上。
实际关乎一种mocvd反应腔用加热板。背景技术:半导体芯片在发育时,对温场的均匀性要求较高,因此一种加热均匀且使用寿命较久的加热板对半导体芯片的制作具有至关关键的效用。通过检索,在**称谓:一种用以mocvd装置的钨涂层加热片及其制备方式(cnb)中公开了一种加热片,但是这种加热片由于中心为镂空构造并不适合半导体领域的芯片发育采用。在目前,芯片生长中用到到的加热板的构造如附图1所示,中间是形状为ω的热弧板1,在热弧板1的两侧分别连通两组拱形热片2,两组半圆形热片2是直线对称的,在半圆形热片2的自由端是分别接着电源的左电极和右电极。将这种传统的加热片放在陶瓷上通电后给上方的芯片提供平稳的热源。这种平板型加热板是一种电阻式加热方法,通过热辐射的方法,给上方的生长芯片的载体(石墨盘)加热,提供芯片生长所需的热能和温场。由于加热板的空隙22部分对应上方的载盘位置的是从未直接热辐射加热的,石墨盘此部分的受热能量是靠其他部分的热传导。另外,石墨盘是通过高速转动的(1000rpm)实现载体(石墨盘)的表面温场的均匀性(±℃)。传统的对称式构造加热片中,加热板的空隙22部分是分布在同一个同心圆圆弧上。信号调理模块根据电压值的大小反比例调节高频机的功率输出。

***温度检测模块用于检测***分区的温度值,并将检测到的***分区温度值发送给控制模块,***加热模块用于加热***分区;第二分区包括第二加热模块和第二温度检测模块,第二温度检测模块用于检测第二分区的温度值,并将检测到的第二分区温度值发送给控制模块,第二加热模块用于加热第二分区;控制模块接收到***分区温度值和第二分区温度值后,控制模块计算***分区温度值和第二分区温度值的差值,若差值大于预设的精度值,则控制模块调整***加热模块或者第二加热模块的输出功率,直到差值小于精度值。其中,***温度检测模块和第二温度检测模块为热敏电阻。其中,***温度检测模块和第二温度检测模块为铂热电阻。其中,***加热模块包括***功率继电器和***加热丝,控制模块通过调整***功率继电器的输出功率,调整***加热丝的功率。其中,第二加热模块包括第二功率继电器和第二加热丝,控制模块通过调整第二功率继电器的输出功率,调整第二加热丝的功率。其中,***温度检测模块和第二温度检测模块采用型号为pt1000的铂热电阻。其中,控制模块在加热升温阶段和冷却降温阶段的精度值大于温度稳定阶段的精度值。其中,控制模块在加热升温阶段精度值为℃。其中。陶瓷加热板的用途有哪些?MSA FACTORYPA4025-WP-PCC20A加热板经销
固定到环形或圆形的热环5的加热片不仅可以安定加热片的间距。上海 PA8020-CC-PCC200V加热板总经销
陶瓷加热板产品特点有哪些?加热仪器是实验室的常用仪器,实验室的加热设备有多种,如电炉、电热板、加热套、水浴锅等等,但是如此众多的加热设备,其中一定会有你需要的吧?HT系列陶瓷加热板是实验室前处理加热、消解、赶酸应用中不可少的一款仪器,在样品前处理起到了很大的作用,电热板加热台面面积大,不生锈,加温快等优势特点让前处理实验节省工作时间,提高了实验效率。产品特点:1、HT系列陶瓷加热板采用分体设计,让控制器与加热主机分开,可让实验操作者远离实验过程生产的酸雾而不受伤害。2、玻璃陶瓷材质作为加热面,具有清洁性好、耐腐蚀性高、使用寿命长。3、考虑到特殊样品的消解,配置防HF酸保护膜。4、超大加热面积,快速处理样品不省时。5、加热板内部是用铂金电阻精确控温,升温快速、加热均匀,温度可达400℃。6、控制器是大屏幕LCD液晶显示,可以直观看到实验操作数据。7、加热板内部设计具有热警显示,当加热板表面温度过高会有自动报警功能让你的实验更安全。8、机身厚度不超过7cm左右,方便放置。 上海 PA8020-CC-PCC200V加热板总经销
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