全新的NanoscribeQuantumX系统适用于工业生产中所需手板和模具的定制化精细加工。该无掩模光刻系统颠覆了自由形状的微透镜、微透镜阵列和多级衍射光学元件的传统制作工艺。全球较早双光子灰度光刻(2GL®)系统将具有出色性能的灰度光刻与Nanoscribe精确灵动的双光子聚合技术结合起来。QuantumX提供了完全的设计自由度、高速的打印效率、以及增材制造复杂结构超光滑表面所需的高精度。快速、准确的增材制造工艺极大地缩短了设计迭代周期,实现了低成本的微纳加工。凭借着独有的产品优势Nanoscribe新发布的QuantumX在2019慕尼黑光博会展(LASERWorldofPhotonics2019)荣获创新奖。无掩膜光刻技术在全球范围内受到高度关注。广东2GL无掩膜光刻微纳光刻

斯图加特大学和阿德莱德大学的研究人员联手澳大利亚医学研究中心,共同合作研发了世界上特别小的3D打印微型内窥镜。该内窥镜所用到的微光学器件宽度只有125微米,可以用于直径小于半毫米的血管内进行内窥镜检查。而这个精密的微光学器件是通过使用德国Nanoscribe公司的双光子微纳3D打印设备制作的。微型内窥镜可以帮助检测人体动脉内的斑块、血栓和胆固醇晶体,因此对于医学检测极其重要,可以有助于减少中风和心脏病发作的风险。来自不来梅大学微型传感器、致动器和系统(IMSAS)研究所的科学家们发明了一种全新的微流道混合方式,使用Nanoscribe公司的3D打印系统,利用双光子聚合原理(2PP)结合光刻技术,将自由形式3D微流控混合元件集成到预制的晶圆级二维微流道中。北京无掩膜光刻PPGT适用于微米和纳米级别的加工要求。这是因为它使用数字图案,可以获得更高的分辨率和更精确的图案。

这是一款兼顾微观和宏观的高精度3D无掩模光刻产品,名为3D无掩模光刻。无论您是进行科学研究还是制作工业手板,这款产品都能满足您的需求。它不*高效,而且精度非常高,能够适用于多种尺度和多种应用领域,极大地节省了加工时间。您可以轻松地制作出令人印象深刻的高精度3D模型,无论您是在微观尺度还是宏观尺度进行制作。如果您想要在科学研究或工业生产中得到更好的效果,3D无掩模光刻是您的比较好选择。它能够为您节省时间和精力,让您专注于更重要的事情。立即购买,体验高效、高精度的3D无掩模光刻吧!
如何能够利用微纳尺寸的旋转轴和铰链改进传感器并为新的传感器设计概念铺平道路?这正是位于代顿(俄亥俄州)的美国空军技术学院的科研人员们通过在光纤上打印具有可活动部件的微型3D传感器所聚焦的课题。内置的铰链和微轴给传感器设计带来的新的设计理念,例如用于流量传感的微转子,可通过物***相沉积法来进入以往不易触及的区域的微型传感器。光纤上3D打印的流量传感器(渲染动画):转子被安装在光纤端面的一个偏心轴上,传感器的信号由通过光纤芯的反射光产生,以实现流量传感的应用。了解更多无掩膜光刻的技术和产品信息,请咨询Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技(上海)有限公司。

QuantumXshape作为理想的快速成型制作工具,可实现通过简单工作流程进行高精度和高设计自由度的制作。作为2019年推出的头一台双光子灰度光刻(2GL®)系统QuantumX的同系列产品,QuantumXshape提升了3D微纳加工能力,即完美平衡精度和速度以实现高精度增材制造,以达到高水平的生产力和打印质量。总而言之,工业级QuantumX打印系统系列提供了从纳米到中观尺寸结构的非常先进的微制造工艺,适用于晶圆级批量加工。高速3D微纳加工系统QuantumXshape可实现出色形状精度和高精度制作。这种高质量的打印效果是结合了特别先进的振镜系统和智能电子系统控制单元的结果,同时还离不开工业级飞秒脉冲激光器以及平稳坚固的花岗岩操作平台低成本:无掩膜光刻技术降低了掩膜的成本,同时也减少了制造时间和材料浪费。湖北高分辨率无掩膜光刻微纳光刻
Photonic Professional GT在微纳米3D打印,以及无掩模光刻领域树立了行业内新的标竿。广东2GL无掩膜光刻微纳光刻
Nanoscribe成立于2007年,是卡尔斯鲁厄理工学院(KIT)的衍生公司。Nanoscribe凭借其过硬的技术背景和市场敏锐度奠定了其市场优先领导地位,并以高标准来要求自己以满足客户的需求。Nanoscribe将在未来在基于双光子聚合技术的3D微纳加工系统基础上进一步扩大产品组合实现多样化,以满足不用客户群的需求。Nanoscribe作为一家纳米,微米和中尺度高精度结构增材制造专业人才,一直致力于开发和生产和无掩模光刻系统,以及自研发的打印材料和特定应用不同解决方案。在全球顶端大学和创新科技企业的中,有超过2,500多名用户在使用我们突破性的3D微纳加工技术和定制应用解决方案。广东2GL无掩膜光刻微纳光刻