晶间腐蚀试验 (intergranular corrosion test),在特定介质条件下检验金属材料晶间腐蚀敏感性的加速金属腐蚀试验方法,目的是为了了解材料的化学成分、热处理和加工工艺是否合理。其原理是采用可使金属的腐蚀电位处在恒电位阳极极化曲线特定区间的各种试验溶液,然后利用金属的晶粒和晶界在该电位区间腐蚀电流的明显的差异加速显示晶间腐蚀,不锈钢、铝合金等的晶间腐蚀试验方法在许多国家均已标准化。各标准对试验细节均有详细规定。低倍加热腐蚀样品托盘可完全取出,清洗容易。上海电解腐蚀多少钱一台
电解抛光腐蚀仪利用电化学原理进行金相样品的制备,该设备工作电压、电流范围大,功能齐全,既可用于金相试样的抛光,也可用于金相试样的腐蚀,具备制样快、重复性好等优点,是钢铁,尤其是不锈钢及有色金属试样制备的理想设备,用户的计算机可直接读取所有历史数据,可对所有数据进行分析、存档、打印处理。电压、电流范围大,可同时满足各种材料的抛光和腐蚀,主要用于各大中院校、环保、科研、卫生、防疫、石油、治金、化工、医疗等设备,本仪器性能好,无噪声。天津金相电解腐蚀制样设备厂家低倍加热腐蚀触摸屏操控显示,简单直观。
晶间腐蚀是什么?一种常见的局部腐蚀。腐蚀沿着金属或合金的晶粒边界或它的邻近区域发展,晶粒本身腐蚀很轻微,这种腐蚀便称为晶间腐蚀,这种腐蚀使晶粒间的结合力慢慢削弱,严重时可使机械强度完全丧失。例如遭受这种腐蚀的不锈钢,表面看起来还很光亮,但经不起轻轻敲击便破碎成细粒。由于晶间腐蚀不易检查,所以廷民设备的突然破十,它的危害性很大。不锈钢、镍基合金、铝合金、镁合金等都是晶间腐蚀敏感性高的材料。在受热情况下使用或焊接过程都会造成晶间腐蚀的问题。
电解抛光腐蚀原理,关于电解抛光原理的争论很多,被公认的主要为薄膜理论。薄膜理论解释的电解抛光过程是:电解抛光时,靠近试样阳极表面的电解液,在试样上随着表面的凸凹不平形成了一层薄厚不均匀的黏性薄膜,这种薄膜在工件的凸起处较薄,凹处较厚,此薄膜具有很高的电阻,因凸起处薄膜薄而电阻小,电流密度高而溶解快;凹处薄膜厚而电阻大,电流密度低而溶解慢,由于溶解速度的不同,凹凸不断变化,粗糙表面逐渐被平整,然后形成光亮平滑的抛光面。电解抛光过程的关键是形成稳定的薄膜,而薄膜的稳定与抛光材料的性质、电解液的种类、抛光时的电压大小和电流密度都密切相关。根据实验得出的电压和电流的关系曲线称为电解抛光特性曲线,根据它可以决定合适的电解抛光规范。低倍加热腐蚀采用三层样品隔离放置方式,样品取放方便且增加了工作空间,改善腐蚀性。
晶间腐蚀,国内外相关标准:GB/T4334.(1~5)-2000不锈钢晶间腐蚀敏感性试验方法标准(根据不同材料敏感性选择相应标准)GB/T15260-1994《镍合金晶间腐蚀敏感性试验方法标准》GB/T21433-2008《不锈钢压力容器晶间腐蚀敏感性检验》CB/T3949-2001《船用不锈钢焊接接头晶间腐蚀试验方法》ASTMG28-02(2008)StandardTestMethodsforDetectingSusceptibilitytoIntergranularCorrosioninWrought,NickelRich,ChromiumBearingAlloys(中文名称:《锻造高镍铬轴承合金晶间腐蚀敏感性的检查用标准试验方法》GB/T7998-2005《铝合金晶间腐蚀测定方法》HG/T3173-2002《尿素级很低碳铬镍钥奥氏体不锈钢晶间腐蚀倾向试验》晶间腐蚀,是金属局部腐蚀的一种,沿着金属晶粒间的分界面向内部扩展的腐蚀。上海金属抛光腐蚀经济实用
低倍组织热酸蚀腐蚀用计算机及可控硅控制低倍组织热酸蚀过程,独特的PID温度控制计算方法。上海电解腐蚀多少钱一台
电解抛光腐蚀仪器构成包括直流电源部分、腐蚀器和控温系统。直流电源输出端接腐蚀器的输入端,腐蚀器与控温系统相连接。直流电源恒定输出预设电压和恒定输出电流给腐蚀器,以及输出电路中设置电流过载保护器,用于腐蚀器在工作过程中保持恒定的电压和电流;直流电源中设有时间继电器,用于样品电解时间到达设定时间后,关闭电流、电压的输出,同时蜂鸣器提醒;腐蚀器包括电极,样品罩,搅拌器,控温系统由加热控制单元和冷却盘管组成。折叠编辑本段特点电解抛光腐蚀仪可实现恒定电压、恒定电流方式工作,可控制样试样的电解电流密度,能快速而有效地对金属材料进行电解抛光和腐蚀,具有重复性好,操作控制方便等特点。上海电解腐蚀多少钱一台