轮廓仪产品概述:NanoX-2000/3000系列3D光学干涉轮廓仪建立在移相干涉测量(PSI)、白光垂直扫描干涉测量(VSI)和单色光垂直扫描干涉测量(CSI)等技术的基础上,以其纳米级测量准确度和重复性(稳定性)定量地反映出被测件的表面粗糙度、表面轮廓、台阶高度、关键部位的尺寸及其形貌特征等。广泛应用于集成电路制造、MEMS、航空航天、精密加工、表面工程技术、材料、太阳能电池技术等领域。想要了解更多的信息,请联系我们岱美仪器。传统光学显微镜的图像包含清晰和模糊的细节。Bruker轮廓仪竞争力怎么样

1.5.系统培训的注意事项如何使用电子书阅读软件和软、硬件的操作手册;数据采集功能的讲解:通讯端口、连接计算器、等待时间等参数的解释和参数设置;实际演示一一讲解;如何做好备份和恢复备份资料;当场演示各种报表的操作并进行操作解说;数据库文件应定时作备份,大变动时更应做好备份以防止系统重新安装时造成资料数据库的流失;在系统培训过程中如要输入一些临时数据应在培训结束后及时删除这些资料。备注:系统培训完成后应请顾客详细阅读软件操作手册,并留下公司“客户服务中心”的电话与个人名片,以方便顾客电话联系咨询。光电轮廓仪研发生产轮廓仪可用于蓝宝石抛光工艺表面粗糙度分析(粗抛与精抛比较)。

NanoX-系列轮廓仪代表性客户•集成电路相关产业–集成电路先进封装和材料:华天科技,通富微电子,江苏纳佩斯半导体,华润安盛等•MEMS相关产业–中科院苏州纳米所,中科电子46所,华东光电集成器件等•高效太阳能电池相关产业–常州亿晶光电,中国台湾速位科技、山东衡力新能源等•微电子、FPD、PCB等产业–三星电机、京东方、深圳夏瑞科技等具备Globalalignment&Unitalignment自动聚焦范围:±0.3mmXY运动速度**快如果有什么问题,请联系我们
NanoX-系列产品PCB测量应用测试案例测量种类◼基板ASoldMask3D形貌、尺寸◼基板ASoldMask粗糙度◼基板A绿油区域3D形貌◼基板A绿油区域Pad粗糙度◼基板A绿油区域粗糙度◼基板A绿油区域pad宽度◼基板ATrace3D形貌和尺寸◼基板B背面PadNanoX-8000系统主要性能▪菜单式系统设置,一键式操作,自动数据存储▪一键式系统校准▪支持连接MES系统,数据可导入SPC▪具备异常报警,急停等功能,报警信息可储存▪MTBF≥1500hrs▪产能:45s/点(移动+聚焦+测量)(扫描范围50um)➢具备Globalalignment&Unitalignment➢自动聚焦范围:±0.3mm➢XY运动速度蕞快NanoX-8000主设备尺寸:1290(W)x1390(D)x2190(H) mm。

2)共聚焦显微镜方法共聚焦显微镜包括LED光源、旋转多真孔盘、带有压电驱动器的物镜和CCD相机。LED光源通过多真孔盘(MPD)和物镜聚焦到样品表面上,从而反射光。反射光通过MPD的真孔减小到聚焦的部分落在CCD相机上。传统光学显微镜的图像包含清晰和模糊的细节,但是在共焦图像中,通过多真孔盘的操作滤除模糊细节(未聚焦),只有来自聚焦平面的光到达CCD相机。因此,共聚焦显微镜能够在纳米范围内获得高分辨率。每个共焦图像是通过样品的形貌的水平切片,在不同的焦点高度捕获图像产生这样的图像的堆叠,共焦显微镜通过压电驱动器和物镜的精确垂直位移来实现。200到400个共焦图像通常在几秒内被捕获,之后软件从共焦图像的堆栈重建精确的三维高度图像。由于光罩中电路结构尺寸极小,任何微小的黏附异物和下次均会导致制造的晶圆IC表面存在缺 陷。高精密仪器轮廓仪技术原理
视场范围:560×750um(10×物镜) 具体视场范围取决于所配物镜及 CCD 相机 。Bruker轮廓仪竞争力怎么样
满足您需求的轮廓仪使用范围广:兼容多种测量和观察需求保护性:非接触式光学轮廓仪耐用性更强,使用无损可操作性:一键式操作,操作更简单,更方便智能性:特殊形状能够只能计算特征参数个性化:定制化客户报告模式更好用户体验:迅捷的售后服务,个性化应用软件支持1.精度高,寿命长---采用超高精度气浮导轨作为直线测量基准,具有稳定性好、承载大、勇不磨损等优点,达到国内同类产品较高精度。2.高精度光栅尺及进口采集卡---保证数据采样分辨率,准确度高,稳定性好。(网络)Bruker轮廓仪竞争力怎么样