轮廓仪在晶圆的IC封装中的应用:晶圆的IC制造过程可简单看作是将光罩上的电路图通过UV刻蚀到镀膜和感光层后的硅晶圆上这一过程,其中由于光罩中电路结构尺寸极小,任何微小的黏附异物和下次均会导致制造的晶圆IC表面存在缺陷,因此必须对光罩和晶圆的表面轮廓进行检测,检测相应的轮廓尺寸。白光轮廓仪的典型应用:对各种产品,不见和材料表面的平面度,粗糙度,波温度,面型轮廓,表面缺陷,磨损情况,腐蚀情况,孔隙间隙,台阶高度,完全变形情况,加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。轮廓仪可以用于测量产品的尺寸、形状和曲率,以确保产品符合设计要求。计量院轮廓仪价格

轮廓仪白光干涉的创始人:迈尔尔逊1852-1931美国物理学家曾从事光速的精密测量工作迈克尔逊首倡用光波波长作为长度基准。1881年,他发明了一种用以测量微小长度,折射率和光波波长的干涉仪,迈克尔逊干涉仪。他和美国物理学家莫雷合作,进行了注明的迈克尔逊-莫雷实验,否定了以太de存在,为爱因斯坦建立狭义相对论奠定了基础。由于创制了精密的光学仪器和利用这些仪器所完成光谱学和基本度量学研究,迈克尔逊于1907年获得诺贝尔物理学奖。Nano X轮廓仪技术服务视场范围:560×750um(10×物镜) 具体视场范围取决于所配物镜及 CCD 相机 。

比较椭圆偏振仪和光谱反射仪光谱椭圆偏振仪(SE)和光谱反射仪(SR)都是利用分析反射光确定电介质,半导体,和金属薄膜的厚度和折射率。两者的主要区别在于椭偏仪测量小角度从薄膜反射的光,而光谱反射仪测量从薄膜垂直反射的光。获取反射光谱指南入射光角度的不同造成两种技术在成本,复杂度,和测量能力上的不同。由于椭偏仪的光从一个角度入射,所以一定要分析反射光的偏振和强度,使得椭偏仪对超薄和复杂的薄膜堆有较强的测量能力。然而,偏振分析意味着需要昂贵的精密移动光学仪器。光谱反射仪测量的是垂直光,它忽略偏振效应(绝大多数薄膜都是旋转对称)。因为不涉及任何移动设备,光谱反射仪成为简单低成本的仪器。光谱反射仪可以很容易整合加入更强大透光率分析。从下面表格可以看出,光谱反射仪通常是薄膜厚度超过10um的手选,而椭偏仪侧重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之间,两种技术都可用。而且具有快速,简便,成本低特点的光谱反射仪通常是更好的选择。光谱反射率光谱椭圆偏振仪厚度测量范围1nm-1mm(非金属)-50nm(金属)*-(非金属)-50nm(金属)测量折射率的厚度要求>20nm(非金属)5nm-50nm(金属)>5nm(非金属)>。
轮廓的角度处理:角度处理:两直线夹角、直线与Y轴夹角、直线与X轴夹角点线处理:两直线交点、交点到直线距离、交点到交点距离、交点到圆心距离、交点到点距离圆处理:圆心距离、圆心到直线的距离、交点到圆心的距离、直线到切点的距离线处理:直线度、凸度、LG凸度、对数曲线。白光轮廓仪的典型应用:对各种产品,不见和材料表面的平面度,粗糙度,波温度,面型轮廓,表面缺陷,磨损情况,腐蚀情况,孔隙间隙,台阶高度,完全变形情况,加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。轮廓仪可用于蓝宝石抛光工艺表面粗糙度分析(粗抛与精抛比较)。

轮廓仪产品应用蓝宝石抛光工艺表面粗糙度分析(粗抛与精抛比较)高精密材料表面缺陷超精密表面缺陷分析,核探测Oled特征结构测量,表面粗糙度外延片表面缺陷检测硅片外延表面缺陷检测散热材料表面粗糙度分析(粗糙度控制)生物、医药新技术,微流控器件微结构均匀性缺陷,表面粗糙度移相算法的优化和软件系统的开发本作品采用重叠平均移相干涉算法,保证了亚纳米量级的测量精度;优化软件控制系统,使每次检测时间压缩到10秒钟以内,同时完善的数据评价系统为用户评价产品面形质量提供了方便。轮廓仪反映的是零件的宏观轮廓。计量院轮廓仪价格
反射光通过MPD的珍孔减小到聚焦的部分落在CCD相机上。计量院轮廓仪价格
NanoX-80003D轮廓测量主要技术参数3D测量主要技术指标(1):测量模式:PSI+VSI+CSIZ轴测量范围:大行程PZT扫描(300um标配/500um选配)10mm精密电机拓展扫描CCD相机:1920x1200高速相机(标配)干涉物镜:(标配),20X,50X,100X(NIKON)物镜切换:5孔电动鼻切换FOV:1100x700um(10X物镜),220x140um(50X物镜)Z轴聚焦:高精密直线平台自动聚焦照明系统:高效长寿白光LED+滤色镜片电动切换(绿色/蓝色)倾斜调节:±5°电动调节横向分辨率:≥μm(与所配物镜有关)3D测量主要技术指标(2):垂直扫描速度:PSI:<10s,VSI/CSI:<38um/s高度测量范围:–10mm表面反射率:>(1σ)台阶高重复性:(1σ)VSI/CSI:垂直分辨率<(1σ,10um台阶高)。计量院轮廓仪价格