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闪存参考单元的隧穿氧化层103中会捕获一些主要从生产工艺带来的浅能级的空穴，在浮栅里面会注入所需要的电子。编译过程中浮栅104可以捕获电子，擦除过程中隧穿氧化层103会捕获空穴；在经过多次的编译以及擦除后，会在浮栅104中有更多的电子，隧穿氧化层103中有更多的空**7中经编译和擦除循环后电子空穴的净值(差值)与未经编译和擦除循环的电子空穴的净值(差值)相等，从而保证闪存参考单元编译和擦除循环后的输出电流与编译和擦除循环前的输出电流是相等的。擦除过程中隧穿氧化层捕获的空穴为深能级的空穴，这些深能级的空穴不容易移动，而在浮栅里面捕获的电子比较活跃，在htol测试过程中高温下会比较容易丢失，从而补偿了闪存参考单元从生产工艺带来的浅能级的空穴在htol测试过程中的丢失。上海顶策科技有限公司，20年以上的丰富测试技术积累及运营经验，拥有多项发明专利及软件著作权。
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