河南PSP光刻机让你随意进行纳米图案化

单细胞分选需要复杂的流体动力学控制结构，传统光刻难以实现多尺度结构集成。Polos 光刻机的分层曝光功能，在同一片芯片上制备出 5μm 窄缝的细胞捕获区与 50μm 宽的废液通道，通道高度误差控制在 ±2% 以内。某细胞生物学实验室利用该芯片，将单细胞分选通量提升至 1000 个 / 秒，分选纯度达 98%，较传统流式细胞仪体积缩小 90%。该技术已应用于循环tumor细胞检测，使稀有细胞捕获效率提升 3 倍，相关设备进入临床验证阶段。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术，用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件，开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成，操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小，非常适合研究实验室，并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域，为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。未来技术储备：持续研发光束整形与多材料兼容工艺，lead微纳制造前沿。河南PSP光刻机让你随意进行纳米图案化

微流体芯片制造的core工具！Polos光刻机可加工80 µm直径的开环谐振器和2 µm叉指电极，适用于传感器与执行器开发。结合双光子聚合技术（如Nanoscribe的2PP工艺），用户可扩展至3D微纳结构打印，为微型机器人及光学超材料提供多维度解决方案37。其与Lab14集团的协同合作，进一步推动工业级光学封装技术创新3。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术，用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件，开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成，操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小，非常适合研究实验室，并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域，为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。上海POLOSBEAM-XL光刻机MAX基材尺寸4英寸到6英寸光刻胶broad兼容：支持AZ5214E、SU-8等材料，优化参数降低侧壁粗糙度。

某人工智能芯片公司利用 Polos 光刻机开发了基于阻变存储器（RRAM）的存算一体架构。其激光直写技术在 10nm 厚度的 HfO₂介质层上实现了 5nm 的电极边缘控制，器件的电导均匀性提升至 95%，计算能效比达 10TOPS/W，较传统 GPU 提升两个数量级。基于该技术的边缘 AI 芯片，在图像识别任务中能耗降低 80%，推理速度提升 3 倍，已应用于智能摄像头和无人机避障系统，相关芯片出货量突破百万片。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术，用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件，开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成，操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小，非常适合研究实验室，并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域，为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。

德国Polos-BESM系列光刻机采用无掩模激光直写技术，突破传统光刻对物理掩膜的依赖，支持用户通过软件直接输入任意图案进行快速曝光。其亚微米分辨率（most小线宽0.8 µm）和405 nm紫外光源，可在5英寸晶圆上实现高精度微纳结构加工18。系统体积紧凑，only占桌面空间，搭配闭环自动对焦（1秒完成）和半自动多层对准功能，大幅提升实验室原型开发效率，适用于微流体芯片设计、电子元件制造等领域。无掩模光刻技术可以随意进行纳米级图案化，无需使用速度慢且昂贵的光罩。这种便利对于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上没有任何妥协的情况下，将该技术带到了桌面上，进一步提升了其优势。Polos-µPrinter 入选《半导体技术》年度创新产品，推动无掩模光刻技术普及。

可编程微流控芯片需要集成电路控制与流体通道，传统工艺需多次掩模对准，良率only 30%。Polos 光刻机的多材料同步曝光技术，支持在同一块基板上直接制备金属电极与 PDMS 通道，将良率提升至 85%。某微系统实验室利用该特性，开发出可实时切换流路的生化分析芯片，通过软件输入不同图案，10 分钟内即可完成从 DNA 扩增到蛋白质检测的模块切换。该成果应用于 POCT 设备，使现场快速检测系统的体积缩小 60%，检测时间缩短至传统方法的 1/3。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术，用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件，开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成，操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小，非常适合研究实验室，并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域，为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。环保低能耗设计：固态光源能耗较传统设备降低30%，符合绿色实验室标准。河南PSP光刻机让你随意进行纳米图案化

微流体3D成型：复杂流道快速曝光，助力tumor筛查芯片与药物递送系统研发。河南PSP光刻机让你随意进行纳米图案化

无掩模激光光刻：科研效率的revolution性提升！Polos-BESM系列采用无掩模激光直写技术，用户可通过软件直接输入任意图案，省去传统光刻中掩膜制备的高昂成本与时间。其405 nm紫外光源和亚微米分辨率（most小线宽0.8 µm）支持5英寸晶圆的高精度加工，特别适合实验室快速原型开发。闭环自动对焦系统（1秒完成）和半自动多层对准功能，remarkable提升微流体芯片和MEMS器件的研发效率62。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术，用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件，开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成，操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小，非常适合研究实验室，并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域，为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。河南PSP光刻机让你随意进行纳米图案化