无锡应用场景MOSFET选型参数

平面工艺MOS

定义和原理

平面工艺MOS是一种传统的MOSFET加工技术，其结构较为简单。在平面工艺中，源极、漏极和栅极均位于同一平面上，形成一个二维结构。

制造过程

沉积层：先在硅衬底上生长氧化层。

掺杂：使用掺杂技术在特定区域引入杂质，形成源、漏区。

蚀刻：利用光刻技术和蚀刻工艺形成沟道区域。

金属沉积：在栅极位置沉积金属，形成栅极电极。

特点

制作工艺相对简单和成本较低。

结构平面化，适用于小功率、低频应用。

但存在栅极控制能力差、漏电流大等缺点。 采用提供超高可靠性、高性价比的功率半导体解决方案，覆盖新能源汽车、AI服务器、低空飞行器等高增长领域。无锡应用场景MOSFET选型参数

商家半导体有各类封装的MOSFET产品。

功率场效应管与双极型功率晶体管之间的特性比较如下：

1. 驱动方式：场效应管是电压驱动，电路设计比较简单，驱动功率小；功率晶体管是电流驱动，设计较复杂，驱动条件选择困难，驱动条件会影响开关速度。

2. 开关速度：场效应管无少数载流子存储效应，温度影响小，开关工作频率可达150KHz以上；功率晶体管有少数载流子存储时间限制其开关速度，工作频率一般不超过50KHz。

3. 安全工作区：功率场效应管无二次击穿，安全工作区宽；功率晶体管存在二次击穿现象，限制了安全工作区。

4. 导体电压：功率场效应管属于高电压型，导通电压较高，有正温度系数；功率晶体管无论耐电压的高低，导体电压均较低，具有负温度系数。

5. 峰值电流：功率场效应管在开关电源中用做开关时，在启动和稳态工作时，峰值电流较低；而功率晶体管在启动和稳态工作时，峰值电流较高。

6. 产品成本：功率场效应管的成本略高；功率晶体管的成本稍低。

7. 热击穿效应：功率场效应管无热击穿效应；功率晶体管有热击穿效应。8. 开关损耗：场效应管的开关损耗很小；功率晶体管的开关损耗比较大。 无锡应用场景MOSFET选型参数MOSFET产品选型功率器件选型型功率器件选型TO-252/SOT-23/PNDF5X6-8L/PDNF3X3-8L/SOT-23-3L/SOP-8/TO-220.

广泛的应用场景

商甲半导体 SGT MOS管凭借其高性能特点，广泛应用于对效率和功率密度要求极高的领域：

开关电源 (SMPS)

服务器/数据中心电源

通信电源

消费类

电源适配器/充电器（如快充）

工业电源

LED驱动电源关键位置： PFC级主开关管、LLC谐振腔初级开关管、次级侧同步整流管 (SR)。

电机驱动与控制：无刷直流电机 (BLDC) 驱动器（如电动工具、无人机、风机、水泵）

变频器关键位置： 三相逆变桥臂开关管。

新能源与汽车电子：光伏逆变器储能变流器 (PCS)车载充电器 (OBC)车载DC-DC变换器

TO-220与TO-220F

TO-220与TO-220F这两种封装的MOS管在外观上相似，可以相互替代。然而，TO-220背部配备了散热片，因此其散热效果相较于TO-220F更为出色。同时，由于成本因素，TO-220的价格也相对较高。这两种封装的产品都适用于中压大电流场合，其电流范围在120A以下，同时也可用于高压大电流场合，但电流需控制在20A以内。

TO-251封装

TO-251封装的产品旨在降低生产成本并减小产品尺寸，特别适用于中压大电流环境，电流范围控制在60A以下，同时也可用于高压环境，但需确保电流在7N以下。 商甲半导体产品矩阵完整，技术指标对标国际巨头，叠加政策支持与市场需求驱动，具备的国产化潜力。

SGT技术：突破传统MOS的性能瓶颈

MOS管（金属氧化物半导体场效应晶体管）是开关电源、逆变器、电机控制等应用的**开关器件。传统平面MOS和早期沟槽MOS在追求更低导通电阻 (Rds(on)) 和更快开关速度时，往往会面临开关损耗 (Qg, Qgd) 增大、抗冲击能力下降等矛盾。

商甲半导体采用的 SGT 结构技术，正是解决这一矛盾的关键：

屏蔽栅极结构： 在传统的栅极沟槽结构基础上，创新性地引入了额外的“屏蔽电极”（通常是源极电位）。这一结构能有效屏蔽栅极与漏极之间的米勒电容 (Cgd)，大幅降低栅极电荷 (Qg, 特别是 Qgd)。

**栅极电荷 (Qg)： 降低Qg意味着驱动电路更容易驱动MOS管，***减少开关过程中的导通和关断损耗，提升系统整体效率，尤其在需要高频开关的应用中优势明显。

优化导通电阻 (Rds(on))： SGT结构通过优化载流子分布和沟道设计，在同等芯片面积下，实现了比传统沟槽MOS更低的导通电阻，降低了导通状态下的功率损耗和发热。

优异的开关性能： 低Qg和优化的电容特性共同带来了更快的开关速度和更干净的开关波形，减少了电压/电流应力，提升了系统稳定性和EMI性能。

高可靠性： 精心设计的结构有助于改善器件的雪崩耐量 (Eas) 和抗闩锁能力，提高了系统在恶劣工况下的鲁棒性。 采用Fabless轻资产模式，技术团队拥有15年以上功率芯片行业经验。截至2024年，公司营收突破1.4亿元。无锡应用场景MOSFET选型参数

无锡商甲半导体，产品下游终端应用覆盖汽车电子、AI服务器、人形机器人、低空飞行器等重要领域。无锡应用场景MOSFET选型参数

TO-92封装

TO-92封装主要适用于低压MOS管，其电流控制在10A以下，耐压值不超过60V。此外，高压1N60/65也采用了这种封装方式，旨在帮助降低产品成本。

TO-263封装

TO-263封装，作为TO-220封装的衍生品，旨在提升生产效率和散热性能。它能够支持极高的电流和电压，特别适用于中压大电流MOS管，其电流范围在150A以下，电压则超过30V。这种封装方式在电力电子领域有着广泛的应用。TO-252封装

TO-252封装，作为当前主流的封装方式之一，其适用范围***。在高压环境下，它能够承受7N以下的压力；而在中压环境中，其电流容量则限制在70A以下。这种封装方式因其优越的电气性能和稳定性，在多个领域中得到了广泛的应用。 无锡应用场景MOSFET选型参数

无锡商甲半导体有限公司在同行业领域中，一直处在一个不断锐意进取，不断制造创新的市场高度，多年以来致力于发展富有创新价值理念的产品标准。。公司产品齐全，可广泛应用于工控、光伏、储能、家电、照明、5G通信、医疗、汽车等各行业多个领域。

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