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企业商机 - 广东省科学院半导体研究所
  • 绍兴微纳加工厂家 发布时间:2023.10.23

    随着科技的不断进步和需求的不断增长,微纳加工的未来发展有许多可能性。以下是一些可能性的讨论:教育和培训:随着微纳加工技术的发展,相关的教育和培训也将得到进一步发展。学校和研究机构可以开设微纳加工相关的...

  • 揭阳半导体微纳加工 发布时间:2023.10.21

    Mems加工工艺和微纳加工大体上都是一样的,只是表述不一样而已,MEMS即是微机械电子系统,大多时候等同于微纳系统是根据产品需要,在各类衬底(硅衬底,玻璃衬底,石英衬底,蓝宝石衬底等等)制作微米级微型...

  • 南京新型真空镀膜 发布时间:2023.10.20

    真空镀膜:真空涂层技术的发展:真空涂层技术起步时间不长,国际上在上世纪六十年代才出现将CVD(化学气相沉积)技术应用于硬质合金刀具上。由于该技术需在高温下进行(工艺温度高于1000ºC),涂层种类单一...

  • 江苏刻蚀加工公司 发布时间:2023.10.19

    铝膜湿法刻蚀:对于铝和铝合金层有选择性的刻蚀溶液是居于磷酸的。遗憾的是,铝和磷酸反应的副产物是微小的氢气泡。这些气泡附着在晶圆表面,并阻碍刻蚀反应。结果既可能产生导致相邻引线短路的铝桥连,又可能在表面...

  • 广州花都反应离子刻蚀 发布时间:2023.10.18

    电子元器件产业作为电子信息制造业的基础产业,其自身的市场开放及格局形成与国内电子信息产业的高速发展有着密切关联,目前在不断增长的新电子产品市场需求、全球电子产品制造业向中国转移、中美贸易战加速国产品牌...

  • 汕头真空镀膜厂 发布时间:2023.10.17

    真空镀膜:物理的气相沉积技术是指在真空条件下采用物理方法将材料源(固体或液体)表面气化成气态原子或分子,或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术,...

  • 南通反应性离子刻蚀 发布时间:2023.10.16

    介质刻蚀是用于介质材料的刻蚀,例如二氧化硅。干法刻蚀优点是:各向异性好,选择比高,可控性、灵活性、重复性好,细线条操作安全,易实现自动化,无化学废液,处理过程未引入污染,洁净度高。缺点是:成本高,设备...

  • 真空镀膜:电子束蒸发法:电子束蒸发法是将蒸发材料放入水冷铜坩锅中,直接利用电子束加热,使蒸发材料气化蒸发后凝结在基板表面形成膜,是真空蒸发镀膜技术中的一种重要的加热方法和发展方向。电子束蒸发克服了一般...

  • UV真空镀膜涂料 发布时间:2023.10.13

    电子束蒸发是基于钨丝的蒸发。大约 5 到 10 kV 的电流通过钨丝(位于沉积区域外以避免污染)并将其加热到发生电子热离子发射的点。使用永磁体或电磁体将电子聚焦并导向蒸发材料(放置在坩埚中)。在电子束...

  • 丹东半导体微纳加工 发布时间:2023.10.12

    在微纳加工过程中,有许多因素会影响加工质量和精度,包括材料选择、加工设备、工艺参数等。下面将从这些方面详细介绍如何保证微纳加工的质量和精度。加工控制:加工控制是保证微纳加工质量和精度的关键。加工控制包...

  • 深圳微纳加工服务 发布时间:2023.10.11

    微纳加工具有许多优势,以下是其中的一些:制造复杂结构:微纳加工技术可以制造出复杂的微米和纳米级结构,如微通道、微阀门、微泵等。这些复杂结构可以实现更多的功能,如流体控制、生物分析、能量转换等。相比传统...

  • 杭州量子微纳加工 发布时间:2023.10.10

    什么是微纳加工?微纳加工技术的应用非常普遍。在电子领域,微纳加工技术可以用于制造集成电路、传感器、光电器件等。在光学领域,微纳加工技术可以用于制造光学器件、光纤等。在生物医学领域,微纳加工技术可以用于...

  • 焦作半导体微纳加工 发布时间:2023.10.09

    纳米压印技术已经有了许多方面的进展。起初的纳米压印技术是使用热固性材料作为转印介质填充在模板与待加工材料之间,转移时需要加高压并加热来使其固化。后来人们使用光刻胶代替热固性材料,采用注入式代替压印式加...

  • 宣城微纳加工价目 发布时间:2023.10.07

    在微纳加工过程中,有许多因素会影响加工质量和精度,下面将从这些方面详细介绍如何保证微纳加工的质量和精度。质量检测:质量检测是保证微纳加工质量和精度的重要手段。质量检测可以通过光学显微镜、扫描电子显微镜...

  • 宜宾全套微纳加工 发布时间:2023.09.28

    微纳加工的技术挑战:虽然微纳加工在各个领域都有广泛的应用,但是在实际应用中还存在一些技术挑战,下面将介绍其中的几个主要挑战。加工材料:微纳加工的加工材料也是一个挑战,特别是对于一些难加工材料,如硅、金...

  • 梅州微纳加工工艺 发布时间:2023.09.27

    随着科技的不断进步和需求的不断增长,微纳加工的未来发展有许多可能性。以下是一些可能性的讨论:自组装技术:自组装是一种利用物质自身的相互作用力在微米和纳米尺度上组装结构的技术。微纳加工可以用于控制和引导...

  • 合肥微纳加工工艺 发布时间:2023.09.26

    微纳加工具有许多优势,以下是其中的一些:低成本:微纳加工技术可以实现高效、自动化的制造过程,从而降低起制造成本。相比传统的制造技术,微纳加工可以减少人工操作和材料浪费,提高生产效率和产品质量,降低其制...

  • 四川微纳加工设备 发布时间:2023.09.25

    什么是微纳加工?微纳加工是一种利用微纳米尺度的工艺和设备对材料进行加工和制造的技术。它是现代科学和工程领域中的一个重要研究方向,涉及到物理学、化学、材料科学、机械工程等多个学科的知识和技术。微纳加工技...

  • 福建直流磁控溅射流程 发布时间:2023.09.23

    磁控溅射又称为高速低温溅射,在磁场约束及增强下的等离子体中的工作气体离子,在靶阴极电场的加速下,轰击阴极材料,使材料表面的原子或分子飞离靶面,穿越等离子体区以后在基片表面淀积、迁移较终形成薄膜。与二极...

  • 辽宁双靶磁控溅射特点 发布时间:2023.09.22

    磁控溅射的优点如下:1、沉积速度快、基材温升低、对膜层的损伤小;2、对于大部分材料,只要能制成靶材,就可以实现溅射;3、溅射所获得的薄膜与基片结合较好;4、溅射所获得的薄膜纯度高、致密度好、成膜均匀性...

  • 河南陶瓷靶材磁控溅射 发布时间:2023.09.21

    磁控溅射的工艺研究:1、磁场。用来捕获二次电子的磁场必须在整个靶面上保持一致,而且磁场强度应当合适。磁场不均匀就会产生不均匀的膜层。磁场强度如果不适当,那么即使磁场强度一致也会导致膜层沉积速率低下,而...

  • 安徽多层磁控溅射仪器 发布时间:2023.09.20

    磁控溅射的优点如下:1、沉积速度快、基材温升低、对膜层的损伤小;2、对于大部分材料,只要能制成靶材,就可以实现溅射;3、溅射所获得的薄膜与基片结合较好;4、溅射所获得的薄膜纯度高、致密度好、成膜均匀性...

  • 湖南陶瓷靶材磁控溅射 发布时间:2023.09.19

    磁控溅射镀膜常见领域应用:1.一些不适合化学气相沉积(MOCVD)的材料可以通过磁控溅射沉积,这种方法可以获得均匀的大面积薄膜。2.机械工业:如表面功能膜、超硬膜、自润滑膜等.这些膜能有效提高表面硬度...

  • 山东磁控溅射流程 发布时间:2023.09.18

    用磁控靶源溅射金属和合金很容易,点火和溅射很方便。这是因为靶,等离子体和被溅零件/真空腔体可形成回路。但若溅射绝缘体,则回路断了。于是人们采用高频电源,回路中加入很强的电容,这样在绝缘回路中靶材成了一...

  • 河北多层磁控溅射设备 发布时间:2023.09.16

    PVD技术特征如下:在真空室内充入放电所需要的惰性气体,在高压电场作用下气体分子因电离而产生大量正离子。带电离子被强电场加速,便形成高能量的离子流轰击蒸发源材料。在离子轰击下,蒸发源材料的原子将离开固...

  • 安徽高温磁控溅射平台 发布时间:2023.09.15

    磁控溅射镀膜常见领域应用:1.一些不适合化学气相沉积(MOCVD)的材料可以通过磁控溅射沉积,这种方法可以获得均匀的大面积薄膜。2.机械工业:如表面功能膜、超硬膜、自润滑膜等.这些膜能有效提高表面硬度...

  • 湖南专业磁控溅射特点 发布时间:2023.09.14

    反应磁控溅射是以金属、合金、低价金属化合物或半导体材料作为靶阴极,在溅射过程中或在基片表面沉积成膜过程中与气体粒子反应生成化合物薄膜,这就是反应磁控溅射。反应磁控溅射普遍应用于化合物薄膜的大批量生产,...

  • 安徽金属磁控溅射优点 发布时间:2023.09.13

    磁控溅射镀膜常见领域应用:1.一些不适合化学气相沉积(MOCVD)的材料可以通过磁控溅射沉积,这种方法可以获得均匀的大面积薄膜。2.机械工业:如表面功能膜、超硬膜、自润滑膜等.这些膜能有效提高表面硬度...

  • 广州专业磁控溅射步骤 发布时间:2023.09.12

    PVD技术常用的方法:PVD基本方法。真空蒸发、溅射、离子镀,以下介绍几种常用的方法。电子束蒸发:电子束蒸发是利用聚焦成束的电子束来加热蒸发源,使其蒸发并沉积在基片表面而形成薄膜。特征:真空环境;蒸发...

  • 广东智能磁控溅射镀膜 发布时间:2023.09.11

    真空磁控溅射技术是指一种利用阴极表面配合的磁场形成电子陷阱,使在E×B的作用下电子紧贴阴极表面飘移。设置一个与靶面电场正交的磁场,溅射时产生的快电子在正交的电磁场中作近似摆线运动,增加了电子行程,提高...

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