当***分区和第二分区之间的温度值差值超过℃时,控制模块降低温度较高的分区的功率继电器的输出功率,或者控制模块提高温度降低的分区的功率继电器的输出功率。本领域普通技术人员可根据实际需求设置该阶...
这也使得控制温度在目标温度士20°C范围内波动,波动范围较大。发明内容本发明所要解决的技术问题是提供一种能够在高频加热时将工件温度控制在目标温度士5°C范围内的温度控制装置及方法。为达到上述目...
本发明半导体加工领域,尤其涉及一种晶圆加热器。背景技术:现有的晶圆加热设备,加热丝呈螺旋状从中心向**旋转,加热丝在热盘中的分布不够均匀,无法达到均匀加热的目的,无法满足晶圆的高精度加热,而高...
推荐的:所述的调节支撑圆柱与研磨盘主体之间、调节支撑圆柱与圆环之间均设置为螺纹连接。推荐的:所述的支撑圆盘本体的材质采用铝合金。推荐的:所述的圆环的材质采用ptfe。推荐的:所述的研磨块的长度...
使得同心圆圆弧上的位置温场分布较差。但是传统构造的加热片在采用时候会存在很多疑问:1.中间ω形状的热弧板1在持续加热工作后会有变形,这种变形又会更进一步引致加热片的总体变形,这种总体变形又会让...
是在晶圆的正面贴一层膜保护已经制作好的集成电路,然后通过研磨机来进行减薄。晶圆背面研磨减薄后,表面会形成一层损伤层,且翘曲度高,容易破片。为了解决这些问题,需要对晶圆背面进行湿法硅腐蚀,去除损...
**减少了加热器的使用寿命和工艺稳定性。技术实现要素:本实用新型目的是提供一种等离子体cvd晶圆加热器用表面修磨装置,结构简单,操作方便,修磨效果好,效率高,解决了以上技术问题。为了实现上述技...
晶圆加热装置的制作方法文档序号:30596935发布日期:2022-07-0120:52阅读:35来源:国知局导航:X技术>*****>电气元件制品的制造及其应用技术1.本技术属于晶圆加工...
技术实现元素:为了化解以下三个技术疑问:一、传统加热板加热后总体变形,引致局部短路;二、为了确保加热安定传统加热板,轴对称的加热片电极在同一侧,易于时有发生短路隐患;三、传统加热板留置区分配不...
加热板搅拌器加热搅拌器加热板&搅拌器附件出色的性能与智能技术令人印象深刻的高性能、高安全性和操作简便性,使您能够轻松找到符合您实验室要求的加热设备。我们的加热板、搅拌器、加热搅拌器以及相关附件可以完全...
**名称:一种高频加热时精确控制温度的方法技术领域:本发明涉及一种高频加热时温度控制的方法,具体涉及一种晶体管高频加热时精确控制温度的装置及方法。背景技术:在冶炼、锻造、热拉、热装、焊接、热处...
膜厚与时间的平方根成正比。因而,要形成较厚SiO2膜,需要较长的氧化时间。SiO2膜形成的速度取决于经扩散穿过SiO2膜到达硅表面的O2及OH基等氧化剂的数量的多少。湿法氧化时,因在于OH基S...
陶瓷加热板的用途有哪些?陶瓷加热板是一款用于实验室里头对检测样品进行加热、消解、赶酸的仪器,是市面上比较常见的设备,也是实验室必备仪器。虽然说现在样品前处理的设备越来越多,也越智能但是有些...
加热板搅拌器加热搅拌器加热板&搅拌器附件优异的性能与智能技术令人印象深深的高性能、高安全性和操作简便性,使您能够轻松找到**合乎您实验室要求的加热装置。我们普遍的加热板、搅拌器、加热搅拌器以及...
**减少了加热器的使用寿命和工艺稳定性。技术实现要素:本实用新型目的是提供一种等离子体cvd晶圆加热器用表面修磨装置,结构简单,操作方便,修磨效果好,效率高,解决了以上技术问题。为了实现上述技...
**减少了加热器的使用寿命和工艺稳定性。技术实现要素:本实用新型目的是提供一种等离子体cvd晶圆加热器用表面修磨装置,结构简单,操作方便,修磨效果好,效率高,解决了以上技术问题。为了实现上述技...
***圆形温控晶圆夹盘系统是为晶圆和半导体测试设计的。根据客户的需求有不同尺寸、不同温度段的型号供选。并有台面电接地/电悬空,还有同轴/三同轴接口的细节差异。温控晶圆夹盘的台面温度梯度很低...
实际关乎一种mocvd反应腔用加热板。背景技术:半导体芯片在发育时,对温场的均匀性要求较高,因此一种加热均匀且使用寿命较久的加热板对半导体芯片的制作具有至关关键的效用。通过检索,在**称谓:一...
***温度检测模块用于检测***分区的温度值,并将检测到的***分区温度值发送给控制模块,***加热模块用于加热***分区;第二分区包括第二加热模块和第二温度检测模块,第二温度检测模块用于检测...
实际关乎一种mocvd反应腔用加热板。背景技术:半导体芯片在发育时,对温场的均匀性要求较高,因此一种加热均匀且使用寿命较久的加热板对半导体芯片的制作具有至关关键的效用。通过检索,在**称谓:一...
晶圆加热装置的制作方法文档序号:30596935发布日期:2022-07-0120:52阅读:35来源:国知局导航:X技术>*****>电气元件制品的制造及其应用技术1.本技术属于晶圆加工...
再用化学机械抛光工艺使其至少一面光滑如镜,晶圆片制造就完成了。晶圆制造单晶硅棒的直径是由籽晶拉出的速度和旋转速度决定的[2],一般来说,上拉速率越慢,生长的单晶硅棒直径越大。而切出的晶圆片的厚...
本发明半导体加工领域,尤其涉及一种晶圆加热器。背景技术:现有的晶圆加热设备,加热丝呈螺旋状从中心向**旋转,加热丝在热盘中的分布不够均匀,无法达到均匀加热的目的,无法满足晶圆的高精度加热,而高...
**减少了加热器的使用寿命和工艺稳定性。技术实现要素:本实用新型目的是提供一种等离子体cvd晶圆加热器用表面修磨装置,结构简单,操作方便,修磨效果好,效率高,解决了以上技术问题。为了实现上述技...
晶圆放置在垫柱3上,使晶圆与加热盘1之间形成间隙,防止晶圆与加热盘1直接接触从而损坏晶圆,。加热盘1上还设有限位柱4,限位柱4的数量为6个,晶圆放置在6个限位柱之间,这方每次加热晶圆时,晶圆都...
**名称:一种高频加热时精确控制温度的方法技术领域:本发明涉及一种高频加热时温度控制的方法,具体涉及一种晶体管高频加热时精确控制温度的装置及方法。背景技术:在冶炼、锻造、热拉、热装、焊接、热处...
技术实现元素:为了化解以下三个技术疑问:一、传统加热板加热后总体变形,引致局部短路;二、为了确保加热安定传统加热板,轴对称的加热片电极在同一侧,易于时有发生短路隐患;三、传统加热板留置区分配不...
每组加热片的形状均是拱形包抄着由中心点o向外拓展;相邻两组加热片包抄的拐点彼此错开,每组加热片的自由端分别连结电源的两极。其中,加热片的数目可以是如图4所示为两组,包括:***加热片6和第二加...
这也使得控制温度在目标温度士20°C范围内波动,波动范围较大。发明内容本发明所要解决的技术问题是提供一种能够在高频加热时将工件温度控制在目标温度士5°C范围内的温度控制装置及方法。为达到上述目...
本发明具如下有益于效用:通过将轴对称改成中心对称、将ω形状的加热板中心改成单独分体或封闭环形的构造,以及合理配置留置区和电压位置的安装,化解了传统加热板的构造的缺点,提高了采用的稳定性,增加了...