功率电子清洗剂能去除芯片底部的焊膏残留,但需根据焊膏类型选择适配清洗剂并配合特定工艺。焊膏主要成分为焊锡粉末(锡铅、锡银铜等)和助焊剂(松香、有机酸、溶剂等),助焊剂残留可通过极性溶剂(如醇类、酯类)溶解,焊锡颗粒则需清洗剂具备一定渗透力。选择含表面活性剂的水基清洗剂(针对水溶性助焊剂)或卤代烃溶剂(针对松香基助焊剂),可有效浸润芯片底部缝隙(通常 0.1-0.5mm)。配合工艺包括:1. 超声波清洗(频率 40-60kHz,功率 30-50W/L),利用空化效应剥离残留;2. 喷淋冲洗(压力 0.2-0.3MPa),定向冲刷缝隙内松动的焊膏;3. 分步清洗(先预洗溶解助焊剂,再主洗去除焊锡颗粒);4. 烘干工艺(80-100℃热风循环,避免残留清洗剂与焊膏反应)。清洗后需检测残留(如离子色谱测助焊剂离子、显微镜观察底部洁净度),确保无可见残留且离子含量 < 0.1μg/cm²。经多品牌适配测试,我们的清洗剂兼容性强,适用范围广。福建DCB功率电子清洗剂销售

水基清洗剂清洗功率模块时,若操作不当可能导致铝键合线氧化,但若工艺规范则可有效避免。铝键合线表面存在一层天然氧化膜(Al₂O₃),这层薄膜能保护内部铝不被进一步氧化。水基清洗剂若pH值控制不当(如碱性过强,pH>9),会破坏这层氧化膜,使新鲜铝表面暴露在水中,与氧气、水分发生反应生成疏松的氧化层,导致键合强度下降甚至断裂。此外,若清洗后干燥不彻底,残留水分会加速铝的电化学腐蚀,尤其在高温高湿环境下,氧化风险更高。反之,选用pH值6.5-8.5的中性水基清洗剂,搭配添加铝缓蚀剂的配方,可减少对氧化膜的侵蚀。同时,控制清洗温度(通常40-60℃)、缩短浸泡时间,并采用热风烘干(温度≤80℃)确保水分完全蒸发,就能在有效去除污染物的同时,保护铝键合线不受氧化影响。编辑分享功率模块清洗后如何检测铝键合线是否氧化?铝缓蚀剂是如何保护铝键合线的?不同类型的功率模块对清洗剂的离子残留量要求有何差异?佛山IGBT功率电子清洗剂代理商创新温和配方,对 LED 芯片无损伤,安全可靠,质量有保障。

功率电子模块清洗剂能有效去除SiC芯片表面的焊膏残留,但需根据焊膏成分和芯片特性选择合适类型及工艺。SiC芯片表面的焊膏残留多为无铅焊膏(如SnAgCu)的助焊剂(松香基或水溶性)与焊锡颗粒,其去除难点在于芯片边缘、键合区等细微缝隙的残留附着。溶剂型清洗剂(如改性醇醚、碳氢溶剂)对松香基助焊剂溶解力强,可快速渗透至SiC芯片与基板的间隙,配合超声波(30-40kHz)能剥离焊锡颗粒,适合重度残留。水基清洗剂含表面活性剂与螯合剂,对水溶性助焊剂及焊锡氧化物的去除效果更优,且对SiC芯片的陶瓷层无腐蚀风险,适合轻中度残留。需注意:SiC芯片的金属化层(如Ti/Ni/Ag)若暴露,需避免强酸性清洗剂(pH<5),以防腐蚀;清洗后需经去离子水漂洗(电导率≤10μS/cm)并真空干燥(80-100℃),防止残留影响键合可靠性。合格清洗剂在优化工艺下,可将焊膏残留控制在IPC标准的5μg/cm²以下,满足SiC模块的精密装配要求。
清洗IGBT模块时,中性清洗剂相对更安全。IGBT模块由多种金属和电子元件构成,对清洗条件要求严苛。中性清洗剂pH值在6-8之间,对铝、铜等金属兼容性良好,能有效避免腐蚀。像IGBT模块中的铜质引脚、铝基板,使用中性清洗剂可防止出现金属斑点、氧化等问题,确保模块电气性能稳定,避免因腐蚀导致的短路、断路故障。例如合明科技的中性水基清洗剂,能渗透微小间隙,不腐蚀芯片钝化层。弱碱性清洗剂pH值8-13,虽对助焊剂去除力强,但可能与模块中部分金属发生反应。比如可能导致铝和铜表面产生斑点,即便添加腐蚀抑制剂,仍存在风险。尤其在清洗后若干燥不彻底,碱性残留与水汽结合,易引发电化学迁移,影响模块可靠性。所以,从保护IGBT模块、保障清洗安全角度,中性清洗剂是更推荐择。环保可降解成分,符合绿色发展理念,对环境友好。

功率电子清洗剂的闪点需≥60℃才符合安全生产标准,这是避免在电子车间高温环境(如靠近焊接设备、加热模块)中引发火灾的关键指标。根据《危险化学品安全管理条例》,闪点<60℃的清洗剂属于易燃液体,需严格防爆储存与操作;而闪点≥60℃的产品(如多数水基清洗剂、高沸点溶剂型清洗剂),在常态下挥发性低,火灾风险明显降低。操作过程中,需从多环节防控隐患:储存时远离明火与热源(保持3米以上距离),使用防爆型容器分装;手工清洗时避免在密闭空间大量喷洒,确保车间通风量≥10次/小时;机械清洗(如超声波清洗)需加装温度传感器,防止清洗剂因设备过热(超过闪点温度)挥发形成可燃蒸汽;此外,操作人员需配备防静电手套与棉质工作服,避免摩擦产生静电火花。若使用低闪点清洗剂(如部分溶剂型产品),必须配备防爆排风系统与灭火器材,且单次使用量不超过5L,从源头切断火灾触发条件。针对不同功率等级的 IGBT 模块,精确匹配清洗参数。陕西超声波功率电子清洗剂厂家电话
采用环保可降解包装材料,践行绿色发展理念。福建DCB功率电子清洗剂销售
清洗 SiC 芯片时,清洗剂 pH 值超过 9 可能损伤表面金属化层,具体取决于金属化材料及暴露时间。SiC 芯片常用金属化层为钛(Ti)、镍(Ni)、金(Au)等多层结构,其中钛和镍在碱性条件下稳定性较差:pH>9 时,OH⁻会与钛反应生成可溶性钛酸盐(如 Na₂TiO₃),导致钛层溶解(腐蚀速率随 pH 升高而加快,pH=10 时溶解率是 pH=8 时的 5 倍以上);镍则会发生氧化反应(Ni + 2OH⁻ → Ni (OH)₂ + 2e⁻),形成疏松的氢氧化镍膜,破坏金属化层连续性。金虽耐碱性较强,但高 pH 值(>11)会加速其底层钛 / 镍的腐蚀,导致金层剥离。实验显示:pH=9.5 的清洗剂处理 SiC 芯片 3 分钟后,钛层厚度减少 10%-15%,金属化层导电性下降 8%-12%;若延长至 10 分钟,可能出现局部露底(SiC 基底暴露)。因此,清洗 SiC 芯片的清洗剂 pH 值建议控制在 6.5-8.5,若需碱性条件,应限制 pH≤9 并缩短清洗时间(<2 分钟),同时添加金属缓蚀剂(如苯并三氮唑)降低腐蚀风险。福建DCB功率电子清洗剂销售