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江西硅熔融晶圆键合加工工厂

来源: 发布时间:2025年09月25日

科研团队在晶圆键合的对准技术上进行改进,针对大尺寸晶圆键合中对准精度不足的问题,开发了一套基于图像识别的对准系统。该系统能实时捕捉晶圆边缘的标记点,通过算法调整晶圆的相对位置,使对准误差控制在较小范围内。在 6 英寸晶圆的键合实验中,该系统的对准精度较传统方法有明显提升,键合后的界面错位现象明显减少。这项技术改进不仅提升了晶圆键合的工艺水平,也为其他需要高精度对准的半导体工艺提供了参考,体现了研究所的技术创新能力。


该所针对不同厚度晶圆,研究键合过程中压力分布的均匀性调控方法。江西硅熔融晶圆键合加工工厂

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研究所利用多平台协同优势,对晶圆键合后的器件可靠性进行多维评估。在环境测试平台中,键合后的器件需经受高低温循环、湿度老化等一系列可靠性试验,以检验界面结合的长期稳定性。科研人员通过监测试验过程中器件电学性能的变化,分析键合工艺对器件寿命的影响。在针对 IGZO 薄膜晶体管的测试中,经过优化的键合工艺使器件在高温高湿环境下的性能衰减速率有所降低,显示出较好的可靠性。这些数据不仅验证了键合工艺的实用性,也为进一步优化工艺参数提供了方向,体现了研究所对技术细节的严谨把控。

该研究所将晶圆键合技术与半导体材料回收再利用的需求相结合,探索其在晶圆减薄与剥离工艺中的应用。在实验中,通过键合技术将待处理晶圆与临时衬底结合,为后续的减薄过程提供支撑,处理完成后再通过特定工艺实现两者的分离。这种方法能有效减少晶圆在减薄过程中的破损率,提高材料的利用率。目前,在 2-6 英寸晶圆的处理中,该技术已展现出较好的适用性,材料回收利用率较传统方法有一定提升。这些研究为半导体产业的绿色制造提供了技术支持,也拓展了晶圆键合技术的应用领域。


晶圆键合为光电融合神经形态计算提供异质材料接口解决方案。

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研究所将晶圆键合技术与第三代半导体中试能力相结合,重点探索其在器件制造中的集成应用。在深紫外发光二极管的研发中,团队尝试通过晶圆键合技术改善器件的散热性能,对比不同键合材料对器件光电特性的影响。利用覆盖半导体全链条的科研平台,可完成从键合工艺设计、实施到器件性能测试的全流程验证。科研人员发现,优化后的键合工艺能在一定程度上提升器件的工作稳定性,相关数据已纳入省级重点项目的研究报告。此外,针对 IGZO 薄膜晶体管的制备,键合技术的引入为薄膜层与衬底的结合提供了新的解决方案。晶圆键合在液体活检芯片中实现高纯度细胞捕获结构制造。中山晶圆键合外协

晶圆键合推动无创脑血流监测芯片的光声功能协同集成。江西硅熔融晶圆键合加工工厂

针对晶圆键合过程中的表面预处理环节,科研团队进行了系统研究,分析不同清洁方法对键合效果的影响。通过对比等离子体清洗、化学腐蚀等方式,观察晶圆表面的粗糙度与污染物残留情况,发现适当的表面活化处理能明显提升键合界面的结合强度。在实验中,利用原子力显微镜可精确测量处理后的表面形貌,为优化预处理参数提供量化依据。研究还发现,表面预处理的均匀性对大面积晶圆键合尤为重要,团队据此改进了预处理设备的参数分布,使 6 英寸晶圆表面的活化程度更趋一致。这些细节上的优化,为提升晶圆键合的整体质量奠定了基础。江西硅熔融晶圆键合加工工厂