半导体陶瓷基座用来承载高温制程中的晶圆，陶瓷表面状态会逐步老化，水滴角可以监测长期使用后的表面变化。陶瓷基座反复经历高温、化学气体侵蚀，表层结构会慢慢改变，润湿特性也随之变化，水滴角不断偏移。基座使用...

光刻工艺作为半导体制造的环节，对晶圆搬送的精细度与稳定性要求极高，而晶圆搬送机正是保障光刻工艺顺利进行的关键设备。在光刻流程中，晶圆搬送机需要将晶圆从 FOUP 载盒中取出，精细放置到光刻机的工件台上...

非接触式测厚仪相比接触式设备，检测作业效率有着大幅提升。传统接触式测厚设备作业流程繁琐，检测前需要人工精细对位、贴合校准，单次检测耗时久，批量检测模式下会严重拖慢产线流转节奏。同时接触式设备每次换样都...

非接触式测厚仪相比接触式设备，检测作业效率有着大幅提升。传统接触式测厚设备作业流程繁琐，检测前需要人工精细对位、贴合校准，单次检测耗时久，批量检测模式下会严重拖慢产线流转节奏。同时接触式设备每次换样都...

非接触式测厚仪长期运行稳定性好，适配常态化量产质控。半导体量产生产线多为全天候不间断作业模式，对配套检测设备的运行稳定性、低故障率、低维护频率有着较高要求，设备频繁故障、停机校准会直接耽误生产进度、影...

非接触式测厚仪可用于半导体多层复合结构的分层厚度检测。部分半导体元器件采用多层薄膜复合结构，不同功能层材质、厚度各不相同，整体结构精密复杂，传统检测设备无法区分分层厚度，能检测整体总厚度。该设备依托高...

在光刻胶涂层粗糙度检测中，非接触式暗场成像方案较接触式探针仪解决了污染与损伤难题。接触式探针仪的探针会粘黏液态或未固化的光刻胶，导致涂层污染，且接触压力会破坏光刻胶的微观结构，影响后续曝光效果；而非接...

工业工具显微镜是一种高精度二维光学测量仪器，融合了光学成像、精密光栅尺、自动寻边与计算机测量技术，可对微小精密工件进行非接触式尺寸测量。它能够精细测量长度、宽度、间距、孔径、角度、弧度、位置度、共面度...

在晶圆减薄产线的在线检测中，非接触式高速测厚方案（采样频率＞40kHz）较接触式、电容式测厚仪实现效率飞跃。接触式测厚仪的单点测量时间＞10ms，全片扫描需中断产线传输，导致产线节拍延长至＞1 分钟 ...

晶圆搬送机作为半导体自动化产线的 “物流中枢”，其工作原理围绕 “精细定位 - 安全夹持 - 稳定流转” 三大环节展开。设备搭载高精度伺服驱动系统与多自由度机械臂，通过激光定位传感器实时捕捉晶圆及工位...

在半导体产业向个性化、定制化方向发展的趋势下，柔性生产成为企业提升竞争力的关键，而晶圆搬送机的柔性设计恰好满足了多品种、小批量的生产需求。设备支持多组运行程序存储，可根据不同产品的生产工艺，一键切换搬...

在 MEMS 器件晶圆翘曲检测中，非接触式激光干涉翘曲方案较接触式翘曲仪更能保护微结构。接触式翘曲仪的机械测头易碰撞晶圆表面的微结构（如微透镜、微齿轮），导致结构损坏，损坏率＞0.5%；而非接触式检测...