热红外显微镜方案

RTTLIT P10 热红外显微镜在光学配置上的灵活性，可通过多种可选物镜得以充分体现，为不同尺度、不同场景的热分析需求提供精细适配。

Micro 广角镜头擅长捕捉大视野范围的整体热分布，适合快速定位样品宏观热异常区域，如整片晶圆的整体散热趋势观测；0.2X 镜头在保持一定视野的同时提升细节捕捉能力，可用于中等尺寸器件（如传感器模组）的热行为分析，平衡效率与精度；0.4X 镜头进一步聚焦局部，能清晰呈现芯片封装级的热分布特征，助力排查封装缺陷导致的散热不均问题；1X 与 3X 镜头则聚焦微观尺度，1X 镜头可解析芯片内部功能模块的热交互，3X 镜头更是能深入到微米级结构（如晶体管阵列、引线键合点），捕捉纳米级热点的细微温度波动。

热红外显微镜的动态功耗分析功能，同步记录 100MHz 高频信号下的热响应曲线。热红外显微镜方案

在失效分析中，零成本简单且常用的三个方法基于“观察-验证-定位”的基本逻辑，无需复杂设备即可快速缩小失效原因范围：

1.外观检查法（VisualInspection）

2.功能复现与对比法（FunctionReproduction&Comparison）

3.导通/通路检查法（ContinuityCheck）

但当失效分析需要进阶到微观热行为、隐性感官缺陷或材料/结构内部异常的层面时，热红外显微镜（Thermal EMMI) 能成为关键工具，与基础方法结合形成更深度的分析逻辑。在进阶失效分析中，热红外显微镜可捕捉微观热分布，锁定电子元件微区过热（如虚焊、短路）、材料内部缺陷（如裂纹、气泡）引发的隐性热异常，结合动态热演化记录，与基础方法协同，从 “不可见” 热信号中定位失效根因。 工业检测热红外显微镜对比热红外显微镜的 AI 智能分析模块，自动标记异常热斑并匹配历史失效数据库。

近年来，非制冷热红外显微镜价格呈下行趋势。在技术进步层面，国内红外焦平面阵列芯片技术不断突破，像元间距缩小、阵列规模扩大，从早期的 17μm、384×288 发展到如今主流的 12μm 像元，1280 ×1 024、1920 × 1080 阵列规模实现量产，如大立科技等企业推动技术升级，提升生产效率，降低单台设备成本。同时，国产化进程加速，多家本土厂商崛起，如我司推出非制冷型锁相红外显微镜，打破进口垄断格局，市场竞争加剧，促使产品价格更加亲民。

热红外显微镜是半导体失效分析与缺陷定位的三大主流手段之一（EMMI、THERMAL、OBIRCH），通过捕捉故障点产生的异常热辐射，实现精细定位。存在缺陷或性能退化的器件通常表现为局部功耗异常，导致微区温度升高。显微热分布测试系统结合热点锁定技术，能够高效识别这些区域。热点锁定是一种动态红外热成像方法，通过调节电压提升分辨率与灵敏度，并借助算法优化信噪比。在集成电路（IC）分析中，该技术广泛应用于定位短路、ESD损伤、缺陷晶体管、二极管失效及闩锁问题等关键故障。 快速锁定 PCB 板上因线路搭接、元件损坏导致的热点，尤其是隐藏在多层板内部的短路点。

热红外显微镜(Thermal EMMI)的突出优势一：

热红外显微镜（Thermal emmi ）能够检测到极其微弱的热辐射和光发射信号，其灵敏度通常可以达到微瓦甚至纳瓦级别。同时，它还具有高分辨率的特点，能够分辨出微小的热点区域，分辨率可以达到微米甚至纳米级别。具备极高的探测灵敏度，能够捕捉微瓦级甚至纳瓦级的热辐射与光发射信号，适用于识别早期故障及微小异常。同时，该技术具有优异的空间分辨能力，能够准确定位尺寸微小的热点区域，其分辨率可达微米级，部分系统也已经可实现纳米级识别。通过结合热图像与光发射信号分析，热红外显微镜为工程师提供了精细、直观的诊断工具，大幅提升了故障排查与性能评估的效率和准确性。 热红外显微镜在 3D 封装检测中，通过热传导分析确定内部失效层 。半导体失效分析热红外显微镜按需定制

热红外显微镜借助图像分析技术，直观展示电子设备热分布状况 。热红外显微镜方案

在电子领域，所有器件都会在不同程度上产生热量。器件散发一定热量属于正常现象，但某些类型的缺陷会增加功耗，进而导致发热量上升。

在失效分析中，这种额外的热量能够为定位缺陷本身提供有用线索。热红外显微镜可以借助内置摄像系统来测量可见光或近红外光的实用技术。该相机对波长在3至10微米范围内的光子十分敏感，而这些波长与热量相对应，因此相机获取的图像可转化为被测器件的热分布图。通常，会先对断电状态下的样品器件进行热成像，以此建立基准线；随后通电再次成像。得到的图像直观呈现了器件的功耗情况，可用于隔离失效问题。许多不同的缺陷在通电时会因消耗额外电流而产生过多热量。例如短路、性能不良的晶体管、损坏的静电放电保护二极管等，通过热红外显微镜观察时会显现出来，从而使我们能够精细定位存在缺陷的损坏部位。 热红外显微镜方案