在微电子、半导体以及材料研究等高精度领域,温度始终是影响器件性能与寿命的重要因素。随着芯片工艺向高密度和高功率方向发展,器件内部的热行为愈发复杂。传统的热测试方法由于依赖接触探测,往往在空间分辨率、灵敏度和操作便捷性方面存在局限,难以满足对新型芯片与功率器件的精细化热分析需求。相比之下,热红外显微镜凭借非接触测量、高分辨率成像和高灵敏度探测等优势,为研究人员提供了更加直观的解决方案。它不仅能够实时呈现器件在工作状态下的温度分布,还可识别局部热点,帮助分析电路设计缺陷、电流集中及材料老化等潜在问题。作为现代失效分析与微热检测的重要工具,热红外显微镜正逐渐成为科研与产业应用中不可或缺的手段,为提升器件可靠性和延长使用寿命提供了有力支持。热红外显微镜成像:支持三维热成像重构,通过分层扫描样品不同深度,生成立体热分布模型。国产热红外显微镜功能

无损热红外显微镜的非破坏性分析(NDA)技术,为失效分析提供了 “保全样品” 的重要手段。它在不损伤高价值样品的前提下,捕捉隐性热信号以定位内部缺陷,既保障了分析的准确性,又为后续验证、复盘保留了完整样本,让失效分析从 “找到问题” 到 “解决问题” 的闭环更高效、更可靠。相较于无损热红外显微镜的非侵入式检测,这些有损分析方法虽能获取内部结构信息,但会破坏样品完整性,更适合无需保留样品的分析场景,与无损分析形成互补!工业检测热红外显微镜仪器热红外显微镜原理中,红外滤光片可筛选特定波长的红外辐射,针对性观测样品特定热辐射特性。

在材料科学领域,研究人员通常需要了解不同材料在受热环境下的导热性能与热响应特性。传统的热分析方法多为宏观测量,难以揭示微观层面的温度变化。而热红外显微镜通过高分辨率的红外成像能力,能够将材料表面的温度分布清晰呈现出来,从而帮助研究人员深入理解材料的导热机制和失效模式。例如,在新型复合材料研究中,热红外显微镜能够直观显示各组分在受热条件下的热扩散差异,为材料结构优化提供实验依据。同时,该设备还能与其他光学显微技术联用,形成多维度的检测体系,使得实验数据更具完整性。热红外显微镜不仅在基础研究中发挥重要作用,也为新型材料的产业化应用提供了强有力的验证工具,推动了从实验室到工程应用的快速转化。
热红外显微镜是半导体失效分析与缺陷定位的三大主流手段之一(EMMI、THERMAL、OBIRCH),通过捕捉故障点产生的异常热辐射,实现精细定位。存在缺陷或性能退化的器件通常表现为局部功耗异常,导致微区温度升高。显微热分布测试系统结合热点锁定技术,能够高效识别这些区域。热点定位是一种动态红外热成像方法,通过调节电压提升分辨率与灵敏度,并借助算法优化信噪比。在集成电路(IC)分析中,该技术广泛应用于定位短路、ESD损伤、缺陷晶体管、二极管失效及闩锁问题等关键故障。致晟光电是一家国产失效分析设备制造商,其在、有两项技术:Thermal 热红外显微镜 和 EMMI 微光显微镜。

热红外显微镜(ThermalEMMI)的另一大优势在于其非接触式检测能力,相较于传统接触式方法具有优势。传统接触式检测通常需要使用探针直接接触被测设备,这不仅可能因机械压力导致芯片焊点形变或线路微损伤,还可能因静电放电(ESD)对敏感半导体器件造成破坏,从而引入额外风险和测量误差。对于精密电子元件和高精度设备而言,这种潜在损伤可能严重影响检测结果的可靠性。
热红外显微镜通过捕捉设备在运行过程中释放的热辐射信号,实现完全非侵入式的检测。这不仅能够在设备正常工作状态下获取实时热分布数据,还有效避免了接触带来的干扰或损伤,提高了整个检测流程的安全性和稳定性。工程师可以依靠这些高保真数据进行精确故障诊断、性能评估以及早期异常识别,从而优化研发与生产流程。非接触式的技术优势,使热红外显微镜成为半导体芯片、微电子系统及精密印制电路板等电子组件检测的理想选择,为现代电子产业提供了更安全、高效和可靠的分析手段。 制冷型 vs 非制冷型可根据成本 /灵敏度 /散热条件选择。制造热红外显微镜大全
Thermal Emission microscopy system, Thermal EMMI是一种利用红外热辐射来检测和分析材料表面温度分布的技术。国产热红外显微镜功能
Thermal EMMI(Thermal Emission Microscopy)是一种利用半导体器件在工作过程中微弱热辐射和光发射信号进行失效点定位的先进显微技术。它通过高灵敏度探测器捕捉纳瓦级别的红外信号,并结合光学放大系统实现微米甚至亚微米级的空间分辨率。相比传统的电子探针或电性测试,Thermal EMMI在非接触、无损检测方面有明显优势,能够在器件通电状态下直接观测局部发热热点或电流泄漏位置。这种技术在先进制程节点(如 5nm、3nm)中尤为关键,因为器件结构复杂且供电电压低,任何细微缺陷都会在热辐射分布上体现。通过Thermal EMMI,工程师能够快速锁定失效区域,大幅减少剖片和反复验证的时间,为芯片研发和生产带来高效的故障分析手段。国产热红外显微镜功能