检测用热红外显微镜原理

在半导体芯片的研发与生产全流程中，失效分析（FailureAnalysis,FA）是保障产品可靠性与性能的重要环节。芯片内部的微小缺陷，如漏电、短路、静电损伤等，通常难以通过常规检测手段识别，但这类缺陷可能导致整个芯片或下游系统失效。为实现对这类微小缺陷的精确定位，苏州致晟光电科技有限公司研发的ThermalEMMI热红外显微镜（业界也称之为热发射显微镜），凭借针对性的技术能力满足了这一需求，目前已成为半导体工程师开展失效分析工作时不可或缺的设备。
热红外显微镜仪器内置校准系统，定期校准可确保长期使用中微观温度测量结果的准确性。检测用热红外显微镜原理

从传统热发射显微镜到致晟光电热红外显微镜的技术进化，不只是观测精度与灵敏度的提升，更实现了对先进制程研发需求的深度适配。它以微观热信号为纽带，串联起芯片设计、制造与可靠性评估全流程。在设计环节助力优化热布局，制造阶段辅助排查热相关缺陷，可靠性评估时提供精细热数据。这种全链条支撑，为半导体产业突破先进制程的热壁垒提供了扎实技术保障，助力研发更小巧、运算更快、性能更可靠的芯片，推动其从实验室研发稳步迈向量产应用。无损热红外显微镜价格走势漏电、静态损耗、断线、接触不良、封装缺陷等产生的微小热信号检测。

在半导体芯片的失效分析和可靠性研究中，温度分布往往是**关键的参考参数之一。由于芯片结构高度集成，任何局部的异常发热都可能导致电性能下降，甚至出现器件击穿等严重问题。传统的接触式测温方法无法满足高分辨率与非破坏性检测的需求，而热红外显微镜凭借其非接触、实时成像的优势，为工程师提供了精细的解决方案。通过捕捉芯片表面微小的红外辐射信号，热红外显微镜能够清晰还原器件的热分布情况，直观显示出局部过热、散热不均等问题。尤其在先进制程节点下，热红外显微镜帮助研发团队快速识别潜在失效点，为工艺优化提供可靠依据。这一技术不仅***提升了检测效率，也在保障器件长期稳定性和安全性方面发挥着重要作用。

致晟光电在推进产学研一体化进程中，积极开展多层次校企合作。公司依托南京理工大学光电技术学院，专注于微弱光电信号分析相关产品及应用的研发。双方联合攻克技术难题，不断优化实时瞬态锁相红外热分析系统（RTTLIT），使其温度灵敏度达到0.0001℃，功率检测限低至1μW，部分性能指标在特定功能上已超过进口设备。

除了与南京理工大学的紧密合作外，致晟光电还与多所高校建立了协作关系，搭建起学业与就业贯通的人才孵化平台。平台覆盖研发设计、生产实践、项目管理等全链条，为学生提供系统化的实践锻炼机会，培养出大量具备实际操作能力的专业人才，为企业创新发展注入源源动力。同时，公司通过建立科研成果产业孵化绿色通道，使高校前沿科研成果能够快速转化为实际生产力，实现科研资源与企业市场转化能力的有效结合，推动产学研协同创新迈上新台阶。 热红外显微镜应用于材料科学，可研究新型材料在不同温度下的微观热稳定性，指导材料研发。

半导体制程逐步迈入3纳米及更先进阶段，芯片内部结构愈发复杂密集，供电电压不断降低，微观热行为对器件性能的影响日益明显。在这一背景下，致晟光电热红外显微镜应运而生，并在传统热发射显微技术基础上实现了深度优化与迭代。该设备专为应对先进制程中的热管理挑战而设计，能够在芯片设计验证、失效排查及性能优化等关键环节中提供精密、可靠的热成像支持。通过对微观热信号的高灵敏度捕捉，致晟光电热红外显微镜为研发人员呈现出清晰的热分布图谱，有助于深入理解芯片内部的热演化过程，从而更有效地推动相关技术研究与产品迭代。红外显微镜系统(Thermal Emission microscopy system)，是半导体失效分析和缺陷检测的常用的三大手段之一。无损热红外显微镜与光学显微镜对比

热红外显微镜范围：空间分辨率可达微米级，能观测样品微小区域（如 1μm×1μm）的热辐射变化。检测用热红外显微镜原理

Thermal和EMMI是半导体失效分析中常用的两种定位技术，主要区别在于信号来源和应用场景不同。Thermal（热红外显微镜）通过红外成像捕捉芯片局部发热区域，适用于分析短路、功耗异常等因电流集中引发温升的失效现象，响应快、直观性强。而EMMI（微光显微镜）则依赖芯片在失效状态下产生的微弱自发光信号进行定位，尤其适用于分析ESD击穿、漏电等低功耗器件中的电性缺陷。相较之下，Thermal更适合热量明显的故障场景，而EMMI则在热信号不明显但存在异常电性行为时更具优势。实际分析中，两者常被集成使用，相辅相成，以实现失效点定位和问题判断。检测用热红外显微镜原理