导电银浆烧结银膏解决方案

聚峰烧结纳米银膏采用无铅、无卤、无重金属的配方，完全符合 RoHS、REACH 等标准，从材料源头规避传统含铅焊料的问题。针对 SiC、GaN 宽禁带半导体的封装特性，产品优化了银粉粒径与烧结活性，适配宽禁带芯片的高温工作需求，解决了传统锡膏、锡膏在 200℃以上易软化、蠕变、失效的痛点。相比传统焊料，该银膏烧结后形成的纯银互连层，化学稳定性更强，耐氧化、耐腐蚀，在高温、高湿、强振动的复杂工况下，仍能保持稳定的互连性能，为宽禁带半导体器件的长期可靠运行提供关键材料，推动第三代半导体封装向绿色、高可靠方向发展。聚峰无压烧结银膏剪切强度达 30–50MPa，有压型可达 65–90MPa，机械性能优异。导电银浆烧结银膏解决方案

性能高可靠银烧结材料，适用于高要求应用场景。能够解决传统焊料热导率不足问题，提升散热效率；降低界面孔隙率，提高器件可靠性与寿命；应对高功率器件高温失效问题；改善长时间印刷过程中的稳定性与一致性问题；满足半导体封装对高导电、高导热双重需求。广泛应用于光伏、新能源车辆、高铁、风力发电、充电桩等应用场景。同时适用于IGBT模块、SiC功率器件等对散热性能和连接可靠性要求极高的封装场景，满足长期高温高负载运行环境下的稳定性需求。东莞高压烧结银膏厂家聚峰烧结银膏导热率超 200W/m・K，适配高功率模块，散热快让器件稳定。

聚峰纳米烧结银膏的流变性能经过调控，具备良好的触变性与流动性，可完美适配丝网印刷、点胶、喷涂等多种电子封装主流加工工艺。在丝网印刷中，银膏能均匀填充网版图案，印刷线条边缘清晰、厚度均匀；在点胶工艺中，可实现定量出胶，适配小间距、高精度的封装点位需求。优异的流变性能让聚峰烧结银膏无需额外调整工艺参数，即可适配不同封装设备与生产流程，提升封装加工效率与产品一致性，满足规模化、标准化的电子封装生产需求。

聚峰烧结银膏专为宽禁带半导体封装设计，其烧结后的连接层展现出极低的孔隙率。在碳化硅或氮化镓功率模块中，银膏通过压力烧结工艺将芯片与基板紧密结合。孔隙率直接影响热传导路径的完整性，低孔隙率意味着热量传递过程中的空穴阻碍减少。聚峰烧结银膏中的银颗粒在烧结过程中均匀收缩，形成连续致密的金属银层。该特性使得模块在高温工作条件下仍能维持稳定的物理接触，避免因空洞积聚导致的局部过热失效。与传统焊料相比，聚峰烧结银膏的连接层内部结构更均匀，边缘区域也不易出现剥离或裂纹。这一优势在厚铜基板封装中尤为明显，因为不同材料的热膨胀系数差异需要连接层具备较强的协调能力。聚峰烧结银膏的配方设计兼顾了烧结活性与印刷适应性，为高功率密度模块提供了可靠的互连基础。聚峰烧结银膏兼具低温烧结与高温服役特性，适配功率半导体封装需求。

烧结纳米银膏配合压力辅助烧结工艺，可将连接层的剪切强度提升至40MPa以上。压力辅助意味着在加热过程中同时施加垂直于界面的机械载荷，常用压力范围为5至20MPa。外部压力促进银颗粒之间更紧密的接触，挤压出烧结初期产生的残留溶剂和分解气体。烧结纳米银膏中的纳米银颗粒在压力作用下更容易发生塑性变形，填充微米银颗粒之间的空隙。形成的连接层不仅机械强度高，而且抗蠕变性能优于无压烧结方案。剪切强度测试采用推拉力机以固定速率推动芯片侧面，记录芯片从基板剥离时的峰值力除以面积。40MPa的数值意味着一个5mm×5mm的芯片能够承受1000牛顿以上的侧向推力。这种互连在振动频繁的汽车电子或风电变流器中尤为重要。烧结纳米银膏配合压力烧结时，芯片表面的金属化层通常需要镀银或金以匹配银-银界面扩散。烧结银膏由纳米银颗粒、有机溶剂及微量添加剂组成，粘度可调节。上海高压烧结纳米银膏厂家

纳米烧结银膏烧结后形成高致密银层，导电导热性能优异，适配高温高功率服役场景。导电银浆烧结银膏解决方案

聚峰有压烧结银具有高导热性和高导电率，可明显提升器件散热效率与电性能表现；同时具备优异的抗剪切强度和低孔隙率（<7%），确保连接层长期可靠性。支持低温烧结与高温服役环境，兼顾工艺适应性与应用稳定性，并符合REACH及RoHS法规要求，适用于半导体封装应用。产品需在冷冻（-20℃～0℃）或冷藏（-10℃～0℃）条件下密封储存。使用前应按TDS要求充分回温，并进行均匀搅拌。建议在25℃、相对湿度40%–50%的洁净环境中使用，以保证印刷质量及烧结一致性。导电银浆烧结银膏解决方案