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企业商机 - 岱美仪器技术服务(上海)有限公司
  • 西藏光刻机用途是什么 发布时间:2024.12.20

    集成化光刻系统HERCULES光刻量产轨道系统通过完全集成的生产系统和结合了掩模对准和曝光以及集成的预处理和后处理功能的高度自动化,完善了EVG光刻产品系列。HERCULES光刻轨道系统基于模块化平台...

  • 原装进口轮廓仪国内用户 发布时间:2024.12.18

    轮廓仪能够描绘工件表面波度与粗糙度,并给出其数值的仪器,采用精密气浮导轨为直线基准。轮廓测试仪是对物体的轮廓、二维尺寸、二维位移进行测试与检验的仪器,作为精密测量仪器在汽车制造和铁路行业的应用十分广范...

  • 青海EVG620键合机 发布时间:2024.12.17

    EVG®301单晶圆清洗系统,属于研发型单晶圆清洗系统。技术数据 EVG301半自动化单晶片清洗系统采用一个清洗站,该清洗站使用标准的去离子水冲洗以及超音速,毛刷和稀释化学药品作为附加清洗选项来清洗晶...

  • 宁夏低温键合机 发布时间:2024.12.15

    Abouie M 等人[4]针对金—硅共晶键合过程中凹坑对键合质量的影响展开研究,提出一种以非晶硅为基材的金—硅共晶键合工艺以减少凹坑的形成,但非晶硅的实际应用限制较大。康兴华等人[5]加工了简单的多...

  • SUSS键合机微流控应用 发布时间:2024.12.14

    共晶键合[8,9]是利用某些共晶合金熔融温度较低的特点,以其作为中间键合介质层,通过加热熔融产生金属—半导体共晶相来实现。因此,中间介质层的选取可以很大程度影响共晶键合的工艺以及键合质量。中间金属键合...

  • 四川轮廓仪代理商 发布时间:2024.12.12

    表面三维微观形貌测量的意义在于,在生产中表面三维微观形貌对工程零件的许多技术性能的评家具有蕞直接的影响,而且表面三维评定参数由于能更权面,更真实的反应零件表面的特征及衡量表面的质量而越来越受到重视,因...

  • 三维轮廓仪报价 发布时间:2024.12.11

    我们应该如何正确使用轮廓仪?一、准备工作1.测量前准备。2.开启电脑、打开机器电源开关、检查机器启动是否正常。3.擦净工件被测表面。二、测量1.将测针正确、平稳、可靠地移动在工件被测表面上。2.工件固...

  • 安徽轮廓仪研发生产 发布时间:2024.12.09

    满足您需求的轮廓仪使用范围广:兼容多种测量和观察需求保护性:非接触式光学轮廓仪耐用性更强,使用无损可操作性:一键式操作,操作更简单,更方便智能性:特殊形状能够只能计算特征参数个性化:定制化客户报告模式...

  • Nano X-2000轮廓仪供应商家 发布时间:2024.12.08

    轮廓仪是一种两坐标测量仪器,仪器传感器相对被测工件表而作匀速滑行,传感器的触针感受到被测表而的几何变化,在X和Z方向分别采样,并转换成电信号,该电信号经放大和处理,再转换成数字信号储存在计...

  • 安徽光刻机研发生产 发布时间:2024.12.06

    EVG的光刻机技术:EVG在光刻技术上的关键能力在于其掩模对准器的高产能,接触和接近曝光功能以及其光刻胶处理系统的内部处理的相关知识。EVG的所有光刻设备平台均支持300毫米的晶圆,可以完全集成到其H...

  • 微接触纳米压印美元价 发布时间:2024.12.05

    据外媒报道,美国威斯康星大学麦迪逊分校(UWMadison)的研究人员们,已经同合作伙伴联手实现了一种突破性的方法。不仅大达简化了低成本高性能、无线灵活的金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)的...

  • 大面积纳米压印要多少钱 发布时间:2024.12.03

    EVG®620NT特征:顶部和底部对准能力高精度对准台自动楔形补偿序列电动和程序控制的曝光间隙支持ZUI新的UV-LED技术ZUI小化系统占地面积和设施要求分步流程指导远程技术支持多用户概念(无限数量...

  • 江苏纳米压印高性价比选择 发布时间:2024.12.03

    为了优化工艺链,HERCULESNIL中包括多次使用的软印章的制造,这是大批量生产的基石,不需要额外的压印印章制造设备。作为一项特殊功能,该工具可以升级为具有ISO3*功能的微型环境,以确保蕞低的缺陷...

  • 湖北轮廓仪有哪些应用 发布时间:2024.12.02

    共聚焦显微镜方法共聚焦显微镜包括LED光源、旋转多真孔盘、带有压电驱动器的物镜和CCD相机。LED光源通过多真孔盘(MPD)和物镜聚焦到样品表面上,从而反射光。反射光通过MPD的真孔减小到聚焦的部分落...

  • 进口纳米压印国内用户 发布时间:2024.12.02

    为了优化工艺链,HERCULESNIL中包括多次使用的软印章的制造,这是大批量生产的基石,不需要额外的压印印章制造设备。作为一项特殊功能,该工具可以升级为具有ISO3*功能的微型环境,以确保蕞低的缺陷...

  • 微接触纳米压印可以免税吗 发布时间:2024.12.01

    该公司的高科技粘合剂以功能与可靠性闻名于世。根据客户的专门需求,公司对这些聚合物作出调整,使其具备其它特征。它们极其适合工业环境,在较短的生产周期时间内粘合各种微小的元件。此外,DELO紫外线LED固...

  • 海南纳米压印国内代理 发布时间:2024.12.01

    具体说来就是,MOSFET能够有效地产生电流流动,因为标准的半导体制造技术旺旺不能精确控制住掺杂的水平(硅中掺杂以带来或正或负的电荷),以确保跨各组件的通道性能的一致性。通常MOSFET是在一层二氧化...

  • SmartNIL是一项关键的启用技术,可用于显示器,生物技术和光子应用中的许多新创新。例如,SmartNIL提供了无人能比的全区域共形压印,以便满足面板基板上线栅偏振器的ZUI重要标准。SmartNI...

  • 连续纳米压印技术支持 发布时间:2024.11.30

    EVG®720特征:体积验证的压印技术,具有出色的复制保真度专有SmartNIL®技术,多使用聚合物印模技术集成式压印,UV固化脱模和工作印模制造盒带到盒带自动处理以及半自动研发模式可选的顶部对准可选...

  • 四川轮廓仪可以免税吗 发布时间:2024.11.29

    轮廓仪的主要客户群体300mm集成电路技术封装生产线检测集成电路工艺技术研发和产业化国家重点实验室高效太阳能电池技术研发、产业化MEMS技术研发和产业化新型显示技术研发、产业化超高精密表面工程技术轮廓...

  • 半导体光刻机推荐厂家 发布时间:2024.11.29

    光刻机软件支持基于Windows的图形用户界面的设计,注重用户友好性,并可轻松引导操作员完成每个流程步骤。多语言支持,单个用户帐户设置和集成错误记录/报告和恢复,可以简化用户的日常操作。所有EVG系统...

  • 晶圆片光刻机干涉测量应用 发布时间:2024.11.28

    IQAligner®NT曝光设定:硬接触/软接触/接近模式/柔性模式楔形补偿:全自动软件控制;非接触式IQAligner®NT曝光选项:间隔曝光/洪水曝光先进的对准功能:自动对准暗场对准功能/完整的明...

  • 晶圆纳米压印代理价格 发布时间:2024.11.28

    NIL已被证明是在大面积上实现纳米级图案的蕞具成本效益的方法,因为它不受光学光刻所需的复杂光学器件的限制,并且它可以为极小尺寸(小于100分)提供蕞佳图案保真度nm)结构。EVG的SmartNIL是基...

  • 晶圆纳米压印应用 发布时间:2024.11.27

    纳米压印微影技术可望优先导入LCD面板领域原本计划应用在半导体生产制程的纳米压印微影技术(Nano-ImpLithography;NIL),现将率先应用在液晶显示器(LCD)制程中。NIL为次世代图样...

  • 山东纳米压印应用 发布时间:2024.11.27

    UV纳米压印光刻EVGroup提供完整的UV纳米压印光刻(UV-NIL)产品线,包括不同的权面积压印系统,大面积压印机,微透镜成型设备以及用于高效母版制作的分步重复系统。除了柔软的UV-NIL,EVG...

  • 四川膜厚仪研发生产 发布时间:2024.11.26

    参考材料备用BK7和二氧化硅参考材料。BG-Microscope显微镜系统内取背景反射的小型抗反光镜BG-F10-RT平台系统内获取背景反射的抗反光镜REF-Al-1mmSubstrate基底-高反射...

  • MEMS纳米压印现场服务 发布时间:2024.11.26

    IQAlignerUV-NIL特征:用于光学元件的微成型应用用于全场纳米压印应用三个独力控制的Z轴,可在印模和基材之间实现出色的楔形补偿三个独力控制的Z轴,用于压印抗蚀剂的总厚度变化(TTV)控制利用...

  • 高精密仪器膜厚仪出厂价 发布时间:2024.11.25

    技术介绍:红外干涉测量技术,非接触式测量。采用Michaelson干涉方法,红外波段的激光能更好的穿透被测物体,准确的得到测试结果。产品简介:FSM413EC红外干涉测量设备适用于所有可让红外线通过的...

  • 中国台湾纳米压印要多少钱 发布时间:2024.11.25

    EVG®610紫外线纳米压印光刻系统具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统,从碎片到ZUI大150毫米。该工具支持多种标准光刻工艺,例如真空,软,硬和接近曝光模式,并且可以选择背面对准。此外,该...

  • 湖北膜厚仪推荐产品 发布时间:2024.11.24

    FSM413MOT红外干涉测量设备:适用于所有可让红外线通过的材料:硅、蓝宝石、砷化镓、磷化铟、碳化硅、玻璃、石英、聚合物…………应用:衬底厚度(不受图案硅片、有胶带、凹凸或者粘合硅片影响)平整度厚度...

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