浙江高压烧结纳米银膏

烧结银膏其突出的性能优势在于其导热能力，烧结成型后的银网络热导率可达 200-300W/(m・K)，这一数值是传统锡基焊料（50-70W/(m・K)）的 4 至 5 倍。在高功率电子器件运行时，芯片会产生大量热量，传统焊料因导热效率不足易形成热堆积，导致器件结温过高、性能衰减甚至失效。而烧结银膏凭借超高热导率，能快速将芯片产生的热量传导至散热基板，降低器件热阻，将结温把控在安全范围。这一特性使其成为新能源汽车电控、工业电源、AI 服务器等大功率设备的优先选择热界面与连接材料，直接提升了整机系统的运行效率与可靠性。聚峰烧结银膏烧结层致密度高、孔隙率低，剪切强度优异，满足车规级与航空航天可靠性要求。浙江高压烧结纳米银膏

聚峰烧结银膏专为宽禁带半导体封装设计，其烧结后的连接层展现出极低的孔隙率。在碳化硅或氮化镓功率模块中，银膏通过压力烧结工艺将芯片与基板紧密结合。孔隙率直接影响热传导路径的完整性，低孔隙率意味着热量传递过程中的空穴阻碍减少。聚峰烧结银膏中的银颗粒在烧结过程中均匀收缩，形成连续致密的金属银层。该特性使得模块在高温工作条件下仍能维持稳定的物理接触，避免因空洞积聚导致的局部过热失效。与传统焊料相比，聚峰烧结银膏的连接层内部结构更均匀，边缘区域也不易出现剥离或裂纹。这一优势在厚铜基板封装中尤为明显，因为不同材料的热膨胀系数差异需要连接层具备较强的协调能力。聚峰烧结银膏的配方设计兼顾了烧结活性与印刷适应性，为高功率密度模块提供了可靠的互连基础。苏州定制烧结纳米银膏厂家聚峰烧结银膏导热率超 200W/m・K，适配高功率模块，散热快让器件稳定。

烧结纳米银膏配合压力辅助烧结工艺，可将连接层的剪切强度提升至40MPa以上。压力辅助意味着在加热过程中同时施加垂直于界面的机械载荷，常用压力范围为5至20MPa。外部压力促进银颗粒之间更紧密的接触，挤压出烧结初期产生的残留溶剂和分解气体。烧结纳米银膏中的纳米银颗粒在压力作用下更容易发生塑性变形，填充微米银颗粒之间的空隙。形成的连接层不仅机械强度高，而且抗蠕变性能优于无压烧结方案。剪切强度测试采用推拉力机以固定速率推动芯片侧面，记录芯片从基板剥离时的峰值力除以面积。40MPa的数值意味着一个5mm×5mm的芯片能够承受1000牛顿以上的侧向推力。这种互连在振动频繁的汽车电子或风电变流器中尤为重要。烧结纳米银膏配合压力烧结时，芯片表面的金属化层通常需要镀银或金以匹配银-银界面扩散。

聚峰烧结纳米银膏采用无铅、无卤、无重金属的配方，完全符合 RoHS、REACH 等标准，从材料源头规避传统含铅焊料的问题。针对 SiC、GaN 宽禁带半导体的封装特性，产品优化了银粉粒径与烧结活性，适配宽禁带芯片的高温工作需求，解决了传统锡膏、锡膏在 200℃以上易软化、蠕变、失效的痛点。相比传统焊料，该银膏烧结后形成的纯银互连层，化学稳定性更强，耐氧化、耐腐蚀，在高温、高湿、强振动的复杂工况下，仍能保持稳定的互连性能，为宽禁带半导体器件的长期可靠运行提供关键材料，推动第三代半导体封装向绿色、高可靠方向发展。聚峰烧结银膏适配 SiC/GaN 等宽禁带半导体，助力第三代器件高密度互连封装。

聚峰烧结银膏针对 SiC、GaN 等宽禁带功率器件的特性专项研发，匹配其高功率、高频率、耐高温的工作需求。该材料凭借超高导热率与优异的高温稳定性，能导出器件工作时产生的大量热量，解决大功率运行下的散热瓶颈；同时以界面连接，保证器件在高频、高负载工况下的电气与机械稳定性。其专为宽禁带器件优化的配方，能充分发挥 SiC、GaN 器件的性能优势，助力新能源汽车、智能电网等领域的功率器件向更高功率、更高效率方向发展，成为宽禁带半导体封装的关键支撑材料。烧结银膏热膨胀系数与硅、陶瓷基材高度匹配，减少热循环应力开裂，保证器件长期可靠性。重庆定制烧结纳米银膏

烧结纳米银膏烧结后银层服役温度近银熔点 961℃，远超传统焊料使用上限。浙江高压烧结纳米银膏

聚峰烧结银膏的技术优势，在于纳米银颗粒的精细级配与分散工艺。产品精选粒径 20-50nm 的高纯银粉，搭配有机载体与分散剂，确保银粉在膏体中均匀分散、无团聚。烧结过程中，纳米银颗粒凭借高表面活性，在 220℃即可启动烧结，30 分钟内完成致密化成型，无需传统高温焊料所需的 350℃以上高温。烧结后形成的银层致密度高、孔隙率极低，热阻较传统焊料降低 60% 以上，能明显提升功率器件的散热效率。同时，低温烧结特性可避免芯片、基板因高温产生的热应力损伤，适配陶瓷基板、金属基板等多种封装基材，助力封装制程实现低温化升级。浙江高压烧结纳米银膏