芯片用锁相红外热成像系统P20

在科研领域，锁相红外技术（Lock-in Thermography，简称LIT）也为实验研究提供了精细的热分析手段：在材料热物性测量中，通过周期性激励与相位分析，可精确获取材料的热导率、热扩散系数等关键参数，助力新型功能材料的研发与性能优化；在半导体失效分析中，致晟光电自主研发的纯国产锁相红外热成像技术能捕捉芯片内微米级的漏电流、导线断裂等微弱热信号，帮助科研人员追溯失效根源，推动中国半导体器件的性能升级与可靠性和提升。借助锁相红外技术，工程师能直观观察芯片工作时的热分布状态，为故障分析和设计优化提供数据支撑。芯片用锁相红外热成像系统P20

锁相红外热成像系统平台的重要优势之一，在于其具备灵活的多模式激励信号输出能力，可根据被测目标的材质、结构及检测需求，精细匹配比较好激励方案。平台内置的信号发生器支持正弦波、方波、三角波等多种波形输出，频率调节范围覆盖 0.01Hz-1kHz，输出功率可根据目标尺寸与导热特性进行 0-50W 的连续调节。例如，检测金属等高热导率材料时，因热传导速度快，需采用高频（100-500Hz）正弦波激励，确保缺陷区域形成稳定的周期性热响应；而检测塑料、陶瓷等低热导率材料时，低频（0.1-10Hz）方波激励能减少热扩散损失，更易凸显材料内部的热阻差异。同时，平台还支持自定义激励信号编辑，工程师可通过配套软件设置激励信号的占空比、相位差等参数，适配特殊检测场景，如航空复合材料层合板的分层检测、动力电池极耳的焊接质量检测等。这种多模式适配能力，使系统突破了单一激励方式的局限性，实现了对不同行业、不同类型目标的多方面覆盖检测。工业检测锁相红外热成像系统厂家致晟光电自主研发的锁相红外热像仪，凭借高灵敏度探测能力，可快速定位芯片内部的隐性故障点。

相较于传统静态热成像技术，锁相红外技术在检测原理、抗干扰能力与适用场景上实现了***升级，彻底改变了热成像 “粗略温度测绘” 的局限。传统静态热成像的**局限在于 “瞬时性” 与 “易干扰性”：它*能捕捉检测对象某一时刻的静态温度分布，无法持续追踪温度变化规律，且极易受环境因素影响 —— 比如周围环境的热辐射、气流扰动带来的温度波动，都会掩盖检测对象的真实温度信号，导致对微小缺陷或深层问题的判断出现偏差，尤其在检测精度要求高的场景中，传统静态热成像往往难以满足需求。

在芯片研发与生产过程中，失效分析（FailureAnalysis,FA）是一项必不可少的环节。从实验室样品验证到客户现场应用，每一次失效背后，都隐藏着值得警惕的机理与经验。致晟光电在长期的失效分析工作中，积累了大量案例与经验，大家可以关注我们官方社交媒体账号（小红书、知乎、b站、公众号、抖音）进行了解。在致晟光电，我们始终认为——真正的可靠性，不是避免失效，而是理解失效、解决失效、再防止复发。正是这种持续复盘与优化的过程，让我们的失效分析能力不断进化，也让更多芯片产品在极端工况下依然稳定运行。锁相红外技术能捕捉电子器件失效区域微弱热信号，结合算法抑制干扰为半导体器件失效分析提供关键支持。

锁相红外热成像系统的成像过程是一个多环节协同的信号优化过程，在于通过锁相处理提升系统动态范围，从而清晰呈现目标的温度分布细节。系统工作时，首先由红外光学镜头采集目标辐射信号，随后传输至探测器进行光电转换。在此过程中，系统会将目标红外信号与内部生成的参考信号进行相位比对，通过锁相环电路实现两者的精细同步。这一步骤能有效滤除频率、相位不一致的干扰信号，大幅扩展系统可探测的温度范围。例如在建筑节能检测中，传统红外成像难以区分墙体内部微小的保温层缺陷与环境温度波动，而锁相红外热成像系统通过提升动态范围，可清晰显示墙体内部 0.5℃的温度差异，精细定位保温层破损区域，为建筑节能改造提供精确的数据支撑。锁相红外系统通过热信号相位解调提升缺陷对比度。直销锁相红外热成像系统选购指南

系统支持动态热分析，为工艺优化提供直观依据。芯片用锁相红外热成像系统P20

锁相红外热成像系统是融合锁相技术与红外热成像技术的失效检测设备，其主要原理是通过向被测目标施加周期性激励信号，利用锁相放大器对目标表面产生的微弱周期性温度变化进行精确提取与放大，从而结合红外热成像模块生成高对比度的热分布图像。相较于传统红外热成像设备，该系统比较大优势在于具备极强的抗干扰能力 —— 能够有效过滤环境温度波动、背景辐射等非目标噪声，即使目标表面温度变化为毫开尔文级别，也能通过锁相解调技术精确捕捉。芯片用锁相红外热成像系统P20