基片封装烧结纳米银膏成分

聚峰烧结银膏专为电子封装领域的高温烧结场景研发，产品配方经多轮优化，可在固定温度下完成烧结，形成结构致密、结合牢固的银质导电层。该银膏聚焦电子封装导电需求，烧结后银层导电性能稳定，能降低器件内部电阻损耗，适配芯片、功率模块等关键组件的互连场景。无论是传统电子封装还是新型器件组装，聚峰烧结银膏均能通过高温烧结实现可靠连接，解决传统导电材料在高温工况下的性能衰减问题，为电子设备的稳定运行提供基础保证，助力封装工艺实现导电与可靠连接的双重目标。纳米烧结银膏无铅无卤配方体系，符合电子行业规范，适配车规制程。基片封装烧结纳米银膏成分

聚峰烧结银膏针对 AI 芯片、服务器电源等算力设备的封装需求，完成了专项性能优化。AI 芯片、服务器电源工作时功率密度高、发热量极大，传统焊料无法满足其散热与可靠性需求。聚峰烧结银膏烧结后形成的纯银互连层，热阻极低、散热快，可速度导出芯片热量，将器件工作温度降低 15-20℃，避免高温导致的算力衰减。同时，银层优异的导电性能，可承载大电流传输，满足服务器电源、AI 加速卡的高功率需求。此外，产品抗热疲劳、抗电迁移性能突出，在 7×24 小时不间断运行的服务器场景中，可保护器件 10 年以上的稳定运行，为算力基础设施的可靠运行提供关键材料支撑。基片封装烧结纳米银膏成分纳米银膏适配点胶、丝网印刷工艺，支持大尺寸芯片封装，满足 IGBT、光模块等制造需求。

聚峰有压烧结银具有高导热性和高导电率，可明显提升器件散热效率与电性能表现；同时具备优异的抗剪切强度和低孔隙率（<7%），确保连接层长期可靠性。支持低温烧结与高温服役环境，兼顾工艺适应性与应用稳定性，并符合REACH及RoHS法规要求，适用于半导体封装应用。产品需在冷冻（-20℃～0℃）或冷藏（-10℃～0℃）条件下密封储存。使用前应按TDS要求充分回温，并进行均匀搅拌。建议在25℃、相对湿度40%–50%的洁净环境中使用，以保证印刷质量及烧结一致性。

聚峰烧结银膏能够同时适配铜基板与AMB陶瓷基板的异质界面互连需求。铜基板具有较好的导电和导热性能，但表面易氧化生成疏松的氧化铜层。AMB陶瓷基板表面通常覆有铜箔，通过活性金属钎焊工艺与氮化硅或氮化铝陶瓷结合。两种基板的热膨胀系数差异较大，铜约为17ppm/K，而氮化铝陶瓷约为4.5ppm/K。聚峰烧结银膏的烧结层具备一定的塑性变形能力，可以吸收热循环产生的剪切应变。在互连工艺中，银膏首先通过丝网印刷或点胶方式涂覆在两种基板表面，然后进行预干燥去除低沸点溶剂。贴装芯片后进行分段升温烧结，银膏在两种材料界面形成均匀过渡层。聚峰烧结银膏对不同表面处理状态的基板表现出良好的润湿性，无论是裸铜还是化学镀镍钯金表面均可直接使用。这为混合封装结构提供了简洁的材料体系。聚峰烧结银膏适配有压 / 无压工艺，覆盖新能源汽车、航空航天等应用领域。

纳米银膏的低温烧结特性使其能兼容柔性塑料、超薄金属等柔性基板，避免高温对柔性基材的损伤，适配柔性电子、可穿戴设备等领域的封装需求。其可通过丝网印刷、点胶等工艺实现精细化图形化制备，线宽精度达 ±3μm，助力器件微型化、轻薄化设计。在折叠屏手机、柔性传感器等产品中，能实现弯曲、拉伸状态下的稳定导电与连接，保障柔性器件的功能完整性，为柔性电子产业的发展提供了关键的封装材料支撑，拓展了电子器件的应用形态与场景。纳米烧结银膏具备极低体电阻率，电流承载能力强，可长期稳定运行于大功率工况。基片封装烧结纳米银膏成分

聚峰烧结银膏导热率超 200W/m・K，适配高功率模块，散热快让器件稳定。基片封装烧结纳米银膏成分

纳米烧结银膏的低温烧结特性（150-250℃）为封装工艺带来了改变。传统高温焊料与烧结材料需要 300℃以上的加工温度，这极易对热敏性元器件、柔性基材以及多层复杂结构造成热损伤，导致器件性能下降或报废。而纳米烧结银膏利用纳米银颗粒的表面效应，在远低于银本体熔点的温度下即可实现烧结成型。这一低温工艺窗口，不*保护了器件与基材免受高温损害，更降低了封装设备的能耗与对耐高温材料的依赖，简化了工艺流程，特别适用于包含 MEMS 传感器、柔性电路、光电器件等热敏元件的封装场景。基片封装烧结纳米银膏成分